专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种晶态发热器-CN02257576.6无效
  • -
  • 2002-09-29 - 2003-09-03 - H05B3/20
  • 本实用新型属于一种晶态发热器,由电源线和绝缘板所组成,在绝缘板上绕有晶态带材,或在绝缘板一侧面设有晶态带材,或在绝缘板两侧面设有晶态带材,或在绝缘板上绕有晶态线材,或在绝缘板一侧面设有晶态线材,或在绝缘板两侧面设有晶态线材,电源线连接晶态带材,或晶态线材的两端,晶态带材,或晶态线材的外端面设有饰面。其以晶态材料作为发热材料,具有耗电少和发热功率高,重量轻,可作为饰物悬托和美观的优点。
  • 一种晶态发热
  • [实用新型]一种晶态环形磁芯-CN201220365122.7有效
  • 关光基;关光璋;任培芳;关光智;揭爱平 - 东莞市晶磁科技有限公司
  • 2012-07-26 - 2013-02-27 - H01F3/04
  • 本实用新型提供了一种晶态环形磁芯,主要涉及工业制作领域,尤其涉及卷片式晶态磁芯的制作领域。该晶态环形磁芯包括卷片式晶态环形铁芯及绝缘环形小盒,卷片式晶态环形铁芯固定于绝缘环形小盒内,卷片式晶态环形铁芯与绝缘环形小盒间的空隙由一种缓冲介质填充,该缓冲介质为固态软胶或液态胶,液态胶为硅油该晶态环形磁芯内缓冲介质的应用,使得卷片式晶态环形铁芯被更好地固定,使得制作出的电感更为稳定;缓冲介质附于卷片式晶态环形铁芯表面,使得外部线圈卷绕磁芯时不对卷片式晶态环形铁芯产生力的作用,不使晶态环形铁芯发生形变
  • 一种晶态环形
  • [发明专利]半导体器件的制作方法-CN98101627.8无效
  • 山本一郎 - 日本电气株式会社
  • 1998-04-22 - 1998-11-18 - H01L21/8242
  • 在制作半导体器件过程中,在形成于硅衬底之上的氧化硅薄膜上,形成具有预定厚度并且与硅衬底电连接的晶态硅层。通过晶态硅层进行离子注入,由此混合氧化硅膜与晶态硅层之间的界面。通过退火晶态硅层并照射预定材料,在晶态硅层表面形成成核体。把有成核体的晶态硅层进行退火,以成核体为中心,在晶态硅表面形成凸起。
  • 半导体器件制作方法
  • [发明专利]晶态金属薄带、其加工方法和层叠体的制造方法-CN201980027450.0有效
  • 太田元基 - 株式会社博迈立铖
  • 2019-04-24 - 2023-07-14 - B21D28/02
  • 本发明提供能够在晶态金属薄带的机械加工中,抑制在晶态金属薄带产生裂纹或裂缝的方法。本发明的一种晶态金属薄带的加工方法在使上述晶态金属薄带振动后进行机械加工或一边使其振动一边进行机械加工。具体而言,在上述晶态金属薄带的加工方法中,上述晶态金属薄带具有1ppm以上的饱和磁致伸缩,上述振动为上述晶态金属薄带的磁致伸缩引起的振动。或者对于上述晶态金属薄带,对利用加工工具局部地施加了振动的部分进行机械加工。
  • 晶态金属加工方法层叠制造
  • [发明专利]晶态软磁粉芯及其制备方法和应用-CN202010854915.4有效
  • 郭峰;汪贤;付邦良;刘彬彬 - 昆山磁通新材料科技有限公司
  • 2020-08-24 - 2022-02-08 - H01F41/02
  • 本发明涉及一种晶态软磁粉芯及其制备方法和应用。该制备方法包括步骤:将晶态软磁粉末依次进行钝化处理和绝缘包覆处理,得到绝缘包覆粉末;将绝缘包覆粉末加热至预设温度,并将被加热的绝缘包覆粉末喷射沉积到成型模具中;其中,预设温度低于所述晶态软磁粉末的晶化温度且≥晶态软磁粉末的玻璃转化温度‑30℃,且低于晶态软磁粉末的晶化温度。上述制备方法解决了高硬度、难变形的晶态软磁粉芯的压制成型困难的问题,同时克服了大尺寸晶态软磁粉芯需要高压力成型设备的问题,故而相比于传统的压制成型方法,上述制备方法制得的晶态软磁粉芯的密度高,残余应力小,晶态软磁粉芯的磁导率等磁性能明显改善,损耗低。
  • 晶态软磁粉芯及其制备方法应用
  • [发明专利]形成半导体薄膜的方法和半导体薄膜检测装置-CN201010106376.2无效
  • 梅津畅彦;稻垣敬夫 - 索尼公司
  • 2010-01-29 - 2010-08-11 - H01L21/20
  • 本发明提供形成半导体薄膜的方法和半导体薄膜检测装置,该方法包括步骤:在基板上形成晶态半导体薄膜;通过将激光照射至晶态半导体薄膜,在晶态薄膜上选择性地进行热处理,并且使对应于照射区的晶态半导体结晶,从而为每个元件区域局部地形成晶态半导体薄膜;以及检测晶态半导体薄膜的结晶度。该检测步骤包括步骤:通过将光照射至晶态半导体薄膜和晶态半导体薄膜,获得基于结晶区和未结晶区之间的光相位差的光学阶差,以及晶态半导体薄膜的选分和晶态半导体薄膜的结晶度的控制二者或其中之一进行评价。
  • 形成半导体薄膜方法检测装置

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