专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]有机发光装置及其制造方法-CN201110256269.2有效
  • 崔熙东 - 乐金显示有限公司
  • 2006-12-05 - 2011-12-28 - H01L27/32
  • 本发明公开的有机发光装置包括:包括发射和非发射的第一基板;设置在所述第一基板上的第一电极;设置在所述第一电极的所述非发射的一部分上的辅助电极,所述辅助电极电连接到所述第一电极;设置在位于所述第一电极的所述非发射的一部分上的两个辅助电极之间的多个阻隔壁,各个阻隔壁都具有悬垂结构;设置在所述第一电极的所述发射上的发射层;以及设置在所述发射层上的第二电极,其中,所述辅助电极设置在所述阻隔壁的下部的一部分上。
  • 有机发光装置及其制造方法
  • [发明专利]有机发光装置及其制造方法-CN200610164533.9无效
  • 崔熙东 - LG.菲利浦LCD株式会社
  • 2006-12-05 - 2007-12-19 - H01L51/50
  • 本发明公开的有机发光装置包括:包括发射和非发射的第一基板;设置在所述第一基板上的第一电极;设置在所述第一电极的所述非发射的一部分上的辅助电极,所述辅助电极电连接到所述第一电极;设置在位于所述第一电极的所述非发射的一部分上的两个辅助电极之间的多个阻隔壁,各个阻隔壁都具有悬垂结构;设置在所述第一电极的所述发射上的发射层;以及设置在所述发射层上的第二电极,其中,所述辅助电极设置在所述阻隔壁的下部的一部分上。
  • 有机发光装置及其制造方法
  • [发明专利]一种沟槽型分裂栅IGBT-CN202211326158.9在审
  • 邓高强;王俊 - 湖南大学
  • 2022-10-27 - 2023-03-14 - H01L29/739
  • 本发明公开了一种沟槽型分裂栅IGBT,包括:N型半导体衬底;形成于N型半导体衬底表面的N型掺杂层;形成于N型掺杂层表面的P阱层;形成于P阱层表面的高掺杂N+发射和高掺杂P+发射;在垂直方向上贯穿P阱层且底部位于N型半导体衬底内的沟槽;形成于沟槽底部的P型屏蔽;形成于N型半导体衬底背面的P型集电区;沟槽沿器件垂直方向上具有分离的第一导电材料和第二导电材料,第一导电材料和第二导电材料分别由绝缘介质包裹;P+发射在水平方向上与沟槽接触,且与第二导电材料在纵向方向上相交叠;N+发射在水平方向上与沟槽接触,且与第一导电材料在纵向方向上相交叠。
  • 一种沟槽分裂igbt
  • [发明专利]多像素LED部件和用于运行多像素LED部件的方法-CN201780071277.5有效
  • N.冯马尔姆 - 奥斯兰姆奥普托半导体有限责任公司
  • 2017-11-17 - 2023-07-18 - H01L25/075
  • 多像素LED部件(1),其具有:多个发射(100);多个转换元件(40),它们被构造用于将由所述发射(100)发射的辐射转换成另一波长范围的辐射;调节设备,其包括多个电流源(200)和传输单元(201),所述传输单元被构造用于无线数据传输;和两个电接触结构(30),通过所述两个电接触结构给所述LED部件(1)通电;其中所述调节设备(20)与所述发射(100)机械固定地连接,给每个发射(100)一对一地分配所述电流源(200)之一,所述传输单元(201)被设置用于接收用于控制电流源(200)的信号(S),所述电流源(200)能够根据所述信号(S)来控制,每个电流源(200)被构造用于运行分配给所述电流源的发射(100),并且发射(100)的数量大于所述接触结构(30)的数量。
  • 像素led部件用于运行方法
  • [发明专利]一种带GaN子阱的RTD发射新设计-CN201610909347.7在审
  • 高博;刘洋 - 四川大学
  • 2016-10-19 - 2017-05-10 - H01L29/861
  • 本发明公开了一种带GaN子阱的共振隧穿二极管(RTD)的发射结构设计方案,所设计的RTD结构见附图,自发射极到集电极依次为GaN发射,Al组分缓变增加的AlGaN发射、AlGaN隔离、GaN子阱、AlGaN/GaN/AlGaN双势垒单势阱、GaN隔离、GaN集电区。本发明所设计的结构显著提高了器件的峰值电流、输出功率和频率特性,实现了GaN做发射的欧姆接触,避免了工艺上AlGaN掺杂困难,不易做电极接触的问题,同时保证了发射能带的连续性。
  • 一种ganrtd发射设计
  • [实用新型]智能电声用PNP型功率晶体管-CN202021526796.1有效
  • 易琼红;左勇强;龚利汀 - 无锡固电半导体股份有限公司
  • 2020-07-28 - 2021-02-09 - H01L29/06
  • 本实用新型涉及一种智能电声用PNP型功率晶体管,在重掺杂N+型下衬底层的下表面设有集电极金属,在下衬底层的上表面设有轻掺杂N型上衬底层,在上衬底层的上表面设有P型基区,在P型基区的上表面设有N+发射,在上衬底层的上表面边缘设有N+型增阻环,在上衬底层、P型基区与N+发射的上表面设有场氧层,在场氧层的上表面设有表面保护阻挡层,在N+发射位置设有发射极金属,在N+发射外围设有基极金属,在表面保护阻挡层的上表面设有钝化层。本实用新型既满足了智能电声的音质要求,同时做到安全工作宽、开关速度快、可靠性高等要求,大大降低了生产厂家的故障率及维修成本。
  • 智能电声pnp功率晶体管

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