专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [外观设计]带显示应用软件图形用户界面的手机-CN202030184903.6有效
  • 郑毓莉 - 深圳传音控股股份有限公司
  • 2020-04-28 - 2020-10-27 - 14-03
  • ;系统时钟区域下方的矩形框作为省电、清理区域;具体界面如设计1界使用状态参考图1所示;设计1主视图中,点击新闻资讯区域可以呈现出设计1界变化状态图1,具体如设计1界使用状态参考图2所示;点击日程安排区域可以呈现出设计1界变化状态图2,具体界面如设计1界使用状态参考图3所示;点击天气预报区域可以呈现出设计1界变化状态图3,具体界面如设计1界使用状态参考图4所示;点击系统时钟区域可以呈现出设计1界变化状态图4,具体界面如设计1界使用状态参考图5所示;点击壁纸下载区域可以呈现出设计1界变化状态图5,具体界面如设计1界使用状态参考图6所示;点击省电、清理区域可以呈现出设计1界变化状态图6和设计1界变化状态图2界变化状态图3,具体界面如设计2界使用状态参考图4所示;点击系统时钟区域可以呈现出设计2界变化状态图4,具体界面如设计2界使用状态参考图5所示;点击新闻资讯区域可以呈现出设计2界变化状态图5界变化状态图1,具体界面如设计3界使用状态参考图2所示;点击新闻资讯区域可以呈现出设计3界变化状态图2,具体界面如设计3界使用状态参考图3所示;点击系统清理区域可以呈现出设计3界变化状态图3,
  • 显示应用软件图形用户界面手机
  • [发明专利]-CN200680047574.8无效
  • M·福内姆;A·特里勒 - 卢克摩擦片和离合器两合公司
  • 2006-12-12 - 2008-12-24 - F16G5/18
  • 本发明涉及一种链(30),包括接片元件(10),这些接片元件各具有至少一个孔区域(11),所述孔区域与在前的或在后的接片元件的孔区域在第一区域中或在第二区域中叠置,其中,接片元件的孔区域具有滚动区域(12)和接触区域(13)。另外,设置有使这些接片元件相连接的摇摆件(20),这些摇摆件各穿过两个相邻的接片元件的孔区域,由此,这些摇摆件各与这两个相邻的接片元件中的每一个的滚动区域或接触区域相互作用。这些摇摆件构造成销,所述销至少具有构造成滚动(22)的销周缘区域和构造成接触(23)的销周缘区域,或者这些接片元件的第一区域和第二区域、或者销周缘的滚动和接触彼此间点不对称,或每一个销与压力配合面的端面接触点
  • [发明专利]铝轮和制造方法-CN201880085991.4有效
  • 尼古拉斯·E·南尼加 - 阿库莱德公司
  • 2018-12-13 - 2023-04-07 - B60B1/14
  • 所述安装部分包含内安装和外安装。所述安装部分还包含粗晶粒区域和细晶粒区域。所述粗晶粒区域可以邻接于并且至少部分地形成所述内安装或所述外安装中的一者。所述粗晶粒区域包含第一平均晶粒长度大于1mm的铝合金晶粒。所述细晶粒区域在所述粗晶粒区域与所述内安装或所述外安装中的另一者之间延伸。所述细晶粒区域包含第二平均晶粒长度小于0.5mm的铝合金晶粒。
  • 制造方法
  • [发明专利]数据处理装置-CN202080035047.5在审
  • 楠纮慈;初见亮;久保田大介 - 株式会社半导体能源研究所
  • 2020-04-27 - 2021-12-17 - G09F9/00
  • 该数据处理装置包括功能面板及第一至第五,功能面板具有第一区域至第五区域,第二区域向一个方向进行显示,第三区域夹在第一区域与第二区域之间且能够弯曲,第五区域夹在第一区域与第四区域之间且能够弯曲,第四区域具有在第三区域及第五区域弯曲的状态下向一个方向进行显示的功能第一面包括第一区域及发光元件,发光元件发射光,第二面包括第二区域及光电转换元件,光电转换元件将光转换为电信号,第三夹在第一与第二之间,能够弯曲,且具有第三区域,第四面具有第四区域,第五夹在第一与第四之间,能够弯曲,且具有第五区域,光电转换元件因第三面的弯曲而与发光元件相对。
  • 数据处理装置
  • [发明专利]一种基座法兰平面打磨工艺-CN201210451368.0有效
  • 胡斌 - 福建省马尾造船股份有限公司
  • 2012-11-09 - 2013-03-20 - B24B7/10
  • 本发明涉及一种基座法兰的平面打磨工艺,包括以下步骤:将基座法兰平面等分成多个区域;将区域打磨平整并检测平面度;以平面度符合平面度公差要求的区域为分界线,将所有平面度不符合平面度公差要求的区域分隔成多个待打磨区域;将同一待打磨区域内的区域按照平面度由大到小的顺序打磨至与该待打磨区域的分界线之一的区域平面度相同。由于本发明只针对平面度不符合平面度公差要求的区域进行打磨,且打磨过程是按照平面度由大到小的顺序进行,因此大大减少了手工打磨的劳动强度和加工周期,提高了打磨精度。
  • 一种基座法兰平面打磨工艺
  • [发明专利]纵型半导体装置-CN201180049802.6有效
  • 妹尾贤 - 丰田自动车株式会社
  • 2011-03-28 - 2013-06-12 - H01L29/06
  • 本说明书所公开的纵型半导体装置具备单元区域、和配置于所述单元区域的外侧的非单元区域。该纵型半导体装置在所述非单元区域的至少一部分区域内具有扩散层。在所述扩散层中,当俯视观察所述纵型半导体装置时,距所述单元区域较近的一侧的端部处的杂质密度,高于满足RESURF条件的杂质密度;且距所述单元区域较远的一侧的端部处的杂质密度,低于满足RESURF条件的杂质密度在该扩散层中,当俯视观察所述纵型半导体装置时,与杂质密度低于满足RESURF条件的杂质密度的区域中的、杂质密度的平均梯度相比,杂质密度高于满足RESURF条件的杂质密度的区域中的、杂质密度的平均梯度较大
  • 半导体装置
  • [发明专利]光源模块-CN201910463404.7有效
  • 冈久强志 - 日亚化学工业株式会社
  • 2019-05-30 - 2022-04-05 - F21V5/04
  • 提供可对拍摄区域照射均匀光的光源模块。该光源模块是具有在上表面有发光面的光源和包含以发光面的中心为旋转轴的透镜部的导光部件的光源模块,透镜部具有:与光源的发光面对置并且接收来自光源的光的凹状的入射、配置在入射外侧并且将从入射入射后的一部分光反射的反射以及将从入射入射后的一部分光和被反射反射的光向外部射出的出射,入射在包含旋转轴的截面中具有:位于上侧的上侧入射区域、位于比上侧入射区域靠下侧的下侧入射区域,下侧入射区域相对于旋转轴而二重对称,下侧入射区域具有:第1下侧入射区域和处于从第1下侧入射区域旋转了45度的位置的第2下侧入射区域,第2下侧入射区域的高度高于第1下侧入射区域
  • 光源模块
  • [其他]具有凹凸部的板材-CN201090001563.8有效
  • 高桥昌也 - 住友轻金属工业株式会社
  • 2010-09-02 - 2013-10-23 - B21D47/00
  • 将第一基准(K1)、第二基准(K2)、中间基准(K3)作为基准,将方格分类成第一格(231)和第二格(232),上述方格是通过将配置在中间基准(K3)上的单位区域(23)纵横n等分的格子划分的。将连接第一格(231)的区域作为第一基准区域(213),将连接第二格(232)的区域作为第二基准区域(223)。具有从第一基准区域(213)相对于第一基准(K1)突出的第一区域(21)、和从第二基准区域(213)相对于第二基准(K2)突出的第二区域(22)。第一区域由第一顶(211)和第一侧面(212)构成。第二区域由第二顶(221)和第二侧面(221)构成。
  • 具有凹凸板材
  • [发明专利]固体电解电容器-CN201910609347.9有效
  • 杤尾孝哉;岸永靖彦;山下卓哉 - 松下知识产权经营株式会社
  • 2016-02-23 - 2021-10-12 - H01G9/012
  • 固体电解电容器具备电容器元件,上述电容器元件具有为六体多孔质烧结体的阳极体、阳极引线、形成于阳极体上的电介体层、和形成于电介体层上的固体电解质层。阳极引线的一端从阳极体的A被埋设于阳极体的内部。阳极体具有与A共有一边、同时彼此相向的B及C。阳极体具有包含B的第1区域、包含C的第2区域和夹在第1区域与上述第2区域之间的第3区域。第1区域及第2区域的维氏硬度均大于第3区域的维氏硬度。从B朝向C的方向Y上的第3区域的平均厚度T3与阳极引线的方向Y上的粗度TL满足T3TL的关系。阳极引线的表面与第1区域及第2区域中的至少一者接触。
  • 固体电解电容器
  • [发明专利]一种相邻工作沿空留巷联合支护方法-CN201911195730.0有效
  • 康红普;吕华文;王东攀;刘跃东;刘超儒 - 天地科技股份有限公司
  • 2019-11-29 - 2022-11-01 - E21D11/10
  • 一种相邻工作沿空留巷联合支护方法,在相邻工作面的上方工作回采中,将上方工作采空区相邻区域确定为滞后区域;在滞后区域内立设强力墩柱,在沿上方工作采空区一侧形成可用于下方工作开采的沿空巷道;在相邻工作面的下方工作回采过程中,将下方工作采空区相邻区域确定为滞后区域;通过拆除、运输和重新立设作业,不断将上方工作采空区相邻滞后区域内立设的强力墩柱转移到下方工作采空区的滞后区域内,在沿下方工作采空区一侧形成可用于下下方工作开采的沿空巷道本发明能够有效降低下方工作沿空留巷的矿压强度,降低支护难度和支护成本,也使劳动组织更加方便。
  • 一种相邻工作面沿空留巷联合支护方法
  • [发明专利]二次电池及其制造方法-CN201980058241.2在审
  • 安中浩二;佐藤雅信 - 日本瑞翁株式会社
  • 2019-09-25 - 2021-04-13 - H01M10/0585
  • 本发明提供了一种二次电池,其具有将正极、间隔件以及负极依次层叠而成的层叠体,正极与间隔件的贴合X和负极与间隔件的贴合Y中的至少任一个为Z,上述Z中的粘接材料的单位面积质量满足下述关系式(1)。base:Sup>2)+0.02(g/m2)B(g/m2)···(1)[上述式(1)中,A表示Z中的内侧区域P的单位面积质量,B表示Z中的外侧区域Q的单位面积质量。其中,内侧区域P为以Z的中心为中心、与Z形状相似、具有Z的面积的80%的面积的区域,外侧区域Q是Z中的除了内侧区域P以外的全部区域]。
  • 二次电池及其制造方法
  • [发明专利]半导体装置、以及半导体装置的制造方法-CN201580026634.7有效
  • 柴田行裕;井上征 - 新电元工业株式会社
  • 2015-09-18 - 2020-12-22 - H01L29/747
  • 半导体装置包括:第一晶闸管,从半导体基板的第一一侧朝第二依次接合有第一导电型的第一区域、第二导电型的第二区域、第一导电型的第三区域、以及第二导电型的第四区域,并且从第一电极向第二电极流经电流;第二晶闸管,从第二一侧朝第一依次接合有第三区域、第二区域、第一区域、以及第二导电型的第五区域,并且从第二电极向第一电极流经电流;第二导电型的第六区域,被第一区域内含后与第一接触,并且,与第五区域分离后形成;栅电极,被形成在第一区域以及第六区域上;第一导电型的第七区域,被第一区域内含后与第一接触,并且,与第六区域分离后形成,同时,掺杂物浓度高于第一区域;以及第一导电型的第八区域,与第三区域的第二一侧以及第四区域接触,并且,与第二接触后形成,并且掺杂物浓度高于第三区域
  • 半导体装置以及制造方法
  • [发明专利]用于照明装置的透镜和具有该透镜的照明装置-CN201310261011.0无效
  • 鲍静 - 欧司朗有限公司
  • 2013-06-26 - 2014-12-31 - F21V5/04
  • 本发明涉及一种用于照明装置的透镜(100),该透镜(100)包括底面(1)和在底面(1)上隆起的出射(2),底面(1)的中央限定出凹进区域(3),凹进区域(3)的表面形成入射(4),该照明装置的光源(5)设置在凹进区域(3)中,其中,出射(2)包括形成在出射(2)的中央的第一区域(21)和至少一个环绕该第一区域(21)的第二区域(22),其中,第一区域(21)由第一折射(211)构成,第二区域(22)由反射(221)和第二折射(222)构成。
  • 用于照明装置透镜具有

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