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- [发明专利]一种肖特基二极管及其制造方法-CN202111141900.4有效
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吴勐;郭昊鑫;杨旭;孙传帮;麻建国
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吉林华微电子股份有限公司
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2021-09-28
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2023-08-04
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H01L29/47
- 本发明公开了一种肖特基二极管及其制造方法,所述二极管包括:衬底;制作于所述衬底一侧的外延层;制作于所述外延层一侧的P型保护环;制作于所述外延层一侧的氧化层,从器件边缘延伸到引线窗口边缘位置;制作于所述引线窗口一侧的势垒金属;制作于所述氧化层和势垒金属上的多层金属结构一,从P型保护环外侧向内侧覆盖;制作于所述多层金属结构一外侧的多层金属结构二,从多层金属结构一外层向内侧覆盖,中心区域露出多层金属结构一窗口;制作于所述多层金属结构二外侧钝化薄膜,从多层金属结构二外层向内覆盖,止于向内侧100um距离,本发明的肖特基二极管能够解决贴片烧结封装的肖特基二极管存在的PCT、金属迁移和焊料偏移导致的失效风险。
- 一种肖特基二极管及其制造方法
- [发明专利]金属硅化物纳米线及其制作方法-CN200510127904.1无效
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顾长志;岳双林;罗强;金爱子
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中国科学院物理研究所
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2005-12-07
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2007-06-13
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H01L23/48
- 本发明涉及一种金属硅化物纳米线,具有的线宽最小为7纳米。该金属硅化物纳米线的制作方法,包括在单晶硅衬底上生长一层绝缘膜,利用纳米尺度的加工技术刻蚀出用于制作金属硅化物纳米线的沟槽,采用金属溅射和蒸镀方法,在制作有纳米沟槽的硅衬底2上,沉积金属膜层4,进行高温退火使金属与沟槽底部暴露的单晶硅反应,生成金属硅化物,再采用化学腐蚀方法,腐蚀掉表面未反应的金属,在纳米沟槽内制作出分立的金属硅化物纳米线。本发明的金属硅化物纳米线具有位置、形状和线宽可控的特点,所以制备的金属硅化物纳米线可以应用于集成电路作为金属互连线,源漏和栅电极,完全可以根据实际需要进行制作。
- 金属硅纳米及其制作方法
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