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[发明专利]金属内连线结构及其制作方法-CN201710867909.0有效
发明人：陈世宪;王明俊;王廷钧;张志圣 -专利权人：蓝枪半导体有限责任公司
申请日： 2017-09-22 - 公布日： 2022-01-28 - 主分类号： H01L21/768 文献下载
摘要：本发明公开一种金属内连线结构及其制作方法。该制作金属内连线结构的方法为，首先提供一基底，该基底上设有一第一金属间介电层，然后形成一第一金属内连线以及一第二金属内连线于第一金属间介电层内，去除部分第一金属间介电层以于第一金属内连线以及第二金属内连线之间形成一开口，进行一固化制作工艺，再形成一第二金属间介电层于第一金属内连线以及第二金属内连线上。
金属连线结构及其制作方法

[发明专利]金属加密键盘及制作方法-CN201310111881.X无效
发明人：郑彦波;肖大勇;高登武 -专利权人：深圳市睿兴胜电子科技有限公司
申请日： 2013-04-02 - 公布日： 2013-07-10 - 主分类号： G07F7/02 文献下载
摘要：本发明涉及金属加密键盘及制作方法，其中金属加密键盘采用可剥离印制导线设计金属加密键盘内的安全回路，用于触发自毁装置，实现对金属加密键盘内数据的保护，设计结构简单，且能解决现有产品的不足，达到更好的安全防护效果；另外本发明还提供了关于此种金属加密键盘的制作方法，使得本发明设计的金属加密键盘易于制作，便于市场推广。
金属加密键盘制作方法

[发明专利]制作金属栅极的金属塞方法-CN201110260915.2有效
发明人：黄晓辉;王新鹏 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2011-09-05 - 公布日： 2013-03-20 - 主分类号： H01L21/768 文献下载
摘要：本发明公开了一种制作金属栅极的金属塞的方法，在采用干法去除金属栅极的金属塞通孔中的金属栅极氧化层时，采用小溅射剂量的氩分子溅射和氢气还原氧方式相结合去除，该小剂量保证对有源区域上方的阻挡层刻蚀时不穿透阻挡层，这样，一方面采用小溅射剂量的氩分子溅射不会对有源区域上方的阻挡层刻蚀穿透，另一方面采用小溅射剂量的氩分子溅射无法完全去除金属栅极的金属塞通孔中的金属栅极氧化层部分采用氢气还原氧方式被还原，从而使金属栅极的金属塞通孔连通金属栅极，最终在该金属栅极的金属塞通孔中所填充的金属塞也能够连通金属栅极。因此，本发明可以保证在不损伤半导体的有源区域基础上使得所制作的金属栅极的金属塞连通金属栅极。
制作金属栅极方法

[发明专利]金属－金属电容的制作方法-CN200410089230.6有效
发明人：燕健硕 -专利权人：上海华虹NEC电子有限公司
申请日： 2004-12-08 - 公布日： 2006-06-14 - 主分类号： H01G4/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种金属－金属电容的制作方法，以平行的金属线代替大面积的金属板，在金属线上成长金属膜，以此增大单位层间膜面积上的电容接触面积，能在占用层间膜表面积保持最小的情况下具有较大的有效接触面积，提高芯片的集成度
金属电容制作方法

[发明专利]一种金属加密键盘及制作方法-CN201310087613.9无效
发明人：韦红余;肖大勇;陈俍宇;陈晓轩 -专利权人：南京达淳机械工程技术有限公司
申请日： 2013-03-19 - 公布日： 2013-06-12 - 主分类号： G07F7/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种金属加密键盘及制作方法，其中金属加密键盘通过应用金线绑定技术，采用金属丝线设计金属加密键盘内的安全回路，用于触发自毁装置，实现对金属加密键盘内数据的保护，设计结构简单，且能解决现有产品的不足，达到更好的安全防护效果；另外本发明还提供了关于此种金属加密键盘的制作方法，使得本发明设计的金属加密键盘易于制作，便于市场推广。
一种金属加密键盘制作方法

[发明专利]一种隐形托槽、隐形牙弓丝的制作方法-CN201210142608.9在审
发明人：张天平;王林;唐少龙;马岭 -专利权人：张天平
申请日： 2012-05-10 - 公布日： 2013-11-13 - 主分类号： C25D13/06 文献下载
摘要：本发明涉及一种矫正牙齿位置畸形的辅助工具的制作方法，特别涉及一种隐形托槽、隐形牙弓丝的制作方法。本发明是一种新的隐形托槽、隐形牙弓丝的制作方法，一、用不锈钢制作出金属托槽，用弹性金属制成金属牙弓丝；二、先在金属托槽、金属牙弓丝表面进行化学或电化学阳极氧化打孔处理，再在金属托槽、金属牙弓丝表面表面电泳两层有机材料本发明的优点和效果在于代替了以往不锈钢、陶瓷、合成树脂的托槽，使托槽美观、坚固，解决了不锈钢托槽难看，陶瓷、合成树脂的托槽易碎的缺点，患者带来痛苦小，美观，操做方便，本发明制作简单，成本低。
一种隐形牙弓丝制作方法

[发明专利]基于圆片级硅通孔工艺基板的结构强度增强的制作方法-CN201310688929.3有效
发明人：吉勇;燕英强;丁荣峥 -专利权人：中国电子科技集团公司第五十八研究所
申请日： 2013-12-13 - 公布日： 2014-04-02 - 主分类号： H01L21/768 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于圆片级硅通孔工艺基板的结构强度增强的制作方法，其包括以下步骤：在已完成通孔、绝缘层制备、通孔已填充金属的圆片背面制作具有开口的介质层，所述开口对应每一个有填充金属的位置；在开口中电镀或化镀填充金属形成柱体；去除所述具有开口的介质层材料，露出金属柱体；再在背面金属柱体周边的间隙中填充聚合物并固化；通过化学机械抛光露出填充金属；最后在金属柱体位置制作背面焊盘。其优点是：这样的制作方法可以大幅提升硅基板的结构强度，提高生产效率，提升产品成品率和良率。该方法同样也可以用于制作砷化镓、氮化镓衬底的基板。
基于圆片级硅通孔工艺结构强度增强制作方法

[发明专利]双频磁响应负磁导率金属复合结构材料及其制作方法-CN200810115461.8无效
发明人：陈旭南;罗先刚;胡承刚 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2008-06-24 - 公布日： 2008-10-29 - 主分类号： G02B1/00 文献下载
摘要：双频磁响应负磁导率金属复合结构材料由第一金属复合结构组或第二金属复合结构组在基底上按周期T排列或多组交错排列构成，金属复合结构组包含L形悬臂、金属条、支撑臂、空气层或介质层；双频磁响应负磁导率金属复合结构材料的制作方法包括以下步骤：(1)用微细加工工艺技术制作出金属条；(2)用台阶阴影法进行定向蒸发，制作出牺牲层或介质层；(3)用上述相同的定向蒸发制作出L形悬臂和支撑臂；(4)最后用湿法腐蚀或者等离子体灰化技术除去牺牲层。本发明所述材料不仅实现了可见光和近红外波段双频磁响应负磁导率，而且特征尺寸也足够大，用30纳米－百纳米级微细加工工艺即可实现制作。
双频响应磁导率金属复合结构材料及其制作方法

[发明专利]金屑腐蚀镂空画的制作方法-CN89102205.8无效
发明人：安耀华 -专利权人：河北省群众艺术馆
申请日： 1989-04-08 - 公布日： 1990-02-14 - 主分类号： B44C1/22 文献下载
摘要：一种金属腐蚀镂空画的制作方法，属于金属装饰工艺品的制作方法，其是借用制作高凸印刷版的技术，在金属板上按照设计图案要求，使金属板上一部分金属腐蚀掉，直至穿透，达到镂空。本发明由于借用了制作高凸印刷版的技术，提高了作品的精密性，语言表达上的任意性，是一种与现代建筑环境相吻合的装饰工艺品。
腐蚀镂空制作方法

[发明专利]一种低熔点金属或金属合金制作的天线辐射体及制造方法-CN201210051024.0无效
发明人：蒋海英;李立忠;郑兵;夏明坤;陈德智 -专利权人：上海安费诺永亿通讯电子有限公司
申请日： 2012-02-29 - 公布日： 2012-07-11 - 主分类号： H01Q1/38 文献下载
摘要：本发明涉及无线通信技术领域，特别涉及一种低熔点金属或金属合金制作的天线辐射体及制造方法。本发明的低熔点金属或金属合金制作天线辐射体的方法，包括以下步骤：（1）注塑成型一塑料支架，所述塑料支架上形成若干凹槽；（2）将熔化的低熔点金属或金属合金注入所述塑料支架的凹槽中，凝固后即可制成天线辐射体与现有技术相比，本发明的低熔点金属或金属合金材料制作天线辐射体的方法不会造成塑料支架的变形和熔化，并且可以制作更薄的天线辐射体；同时它的导电性能好，提高了天线性能。
一种熔点金属合金制作天线辐射体制造方法

[发明专利]一种应用于微机电制程的电镀方法-CN200510007675.X无效
发明人：董玟昌;陈达群;陈富伟;吴政勋 -专利权人：锐捷科技股份有限公司
申请日： 2005-02-07 - 公布日： 2005-09-21 - 主分类号： B81C1/00 文献下载
摘要：一种应用于微机电制程的电镀方法，将进行电镀过程所必备的导电金属层设于制作微机电制程的基板背面，在移除基板背面的导电金属层的时候，可以避免对基板正面所制成的电镀金属造成反蚀刻，尤其在微机电制程中需要循序渐进多次分别进行电镀的时候，不需要在基板的正面重复制作导电金属层，皆以设于基板背面的导电金属层充当对基板正面进行电镀制程时的导电金属层，因此，具有免除反复制作及移除导电金属层的优势，可以改进常用电镀制程必须反复制作及移除导电金属层的缺点
一种应用于微机电制程电镀方法

[发明专利]一种金属可视卡的制作方法-CN201911376565.9有效
发明人：万天军;赵晓青 -专利权人：苏州海博智能系统有限公司
申请日： 2019-12-27 - 公布日： 2023-09-05 - 主分类号： G06K19/077 文献下载
摘要：本发明公开了一种金属可视卡的制作方法，将金属片材涂抹绝缘材料，冲切形成中料金属壳后，将带有显示器及电池的电子模组嵌入中料金属壳内，再电子模组上填充胶水，做好隔离及绝缘处理后，在中料金属壳的上表面及下表面各覆盖一张经绝缘处理的金属印刷片通过上述方法制作的可视卡，实现了采用金属材料制作可视智能卡，填补了现有技术对采用金属材料制作可视卡的工艺的空缺，满足了人们对金属可视卡的需求。
一种金属可视制作方法

[发明专利]用一根条形或管形合金材料制作的金属家具支架的设计-CN200410078111.0无效
发明人：赵明 -专利权人：赵明
申请日： 2004-09-16 - 公布日： 2005-05-25 - 主分类号： A47B13/06 文献下载
摘要：用一根条形或管形合金材料制作家具的金属支架的设计方法使金属家具支架更具稳定性，同时使家具呈现新的美学特征。设计方法及材料选择考虑了仅用一根条形或管形合金材料制作一件家具时的金属家具支架的安全、功能、美学及人体工程学要求。按此设计方法制作一件金属家具支架只需直接将一根选定材料扳金弯制为所设计金属家具支架造型即可。此设计方法简化了金属家具支架的制作工艺，毋须多次切割金属材料和焊接，易于推广应用。
一根条形合金材料制作金属家具支架设计

[发明专利]一种薄膜晶体管中的多晶硅薄膜、薄膜晶体管及制作方法-CN201710172988.3在审
发明人：刘军;苏同上 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司
申请日： 2017-03-22 - 公布日： 2017-06-20 - 主分类号： H01L29/786 文献下载
摘要：本申请实施例提供一种薄膜晶体管中的多晶硅薄膜、薄膜晶体管及制作方法，在通过金属诱导非晶硅晶化方法将非晶硅薄膜转换为多晶硅薄膜时，可以避免需单独制作金属隔离层，同时，也可以避免金属隔离层和金属层的去除工艺，降低将非晶硅薄膜转换为多晶硅薄膜的制作成本，简化工艺制作。本申请实施例提供的薄膜晶体管中的多晶硅薄膜的制作方法，包括在衬底基板上形成金属层；在所述金属层上形成缓冲层；在所述缓冲层上形成非晶硅膜层；通过金属原子对所述非晶硅膜层的催化作用，将所述非晶硅膜层转化为多晶硅膜层，其中，所述金属原子为所述金属层扩散的、并与所述非晶硅膜层接触的金属原子。
一种薄膜晶体管中的多晶薄膜制作方法

[发明专利]金属线栅偏振器及其制作方法、显示装置-CN201610027707.0有效
发明人：叶志杰;彭锐;王欣欣;贾文斌;黄磊;许凯 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司
申请日： 2016-01-15 - 公布日： 2018-12-18 - 主分类号： G02B5/30 文献下载
摘要：本发明涉及显示技术领域，公开了一种金属线栅偏振器制作方法，包括步骤：S1：在衬底基板上制作出间距为P，宽度为W的辅助线栅；S2：利用原子层沉积方式在辅助线栅上覆盖一层厚度大于P/2‑W的金属薄膜；S3：刻蚀辅助线栅顶部和沟槽对应区域的金属薄膜；S4：去掉辅助线栅，形成间距为P/2，宽度为P/2‑W的金属线栅，以形成金属线栅偏振器。还公开了一种金属线栅偏振器及显示装置。本发明的金属线栅偏振器制作方法制作的偏振器的金属线栅之间的间距可以为现有方法制作的偏振器的金属线栅的间距的一半，因此本发明的金属线栅偏振器的整体偏振性能得到了大大的提升。
金属线栅偏振器金属线栅辅助线制作金属薄膜显示装置偏振器原子层沉积衬底基板刻蚀辅助偏振性能层厚度线栅覆盖