专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种方块及拉链-CN201921710417.1有效
  • 周铺;李国浩;杨兴怀 - 浙江伟星实业发展股份有限公司
  • 2019-10-12 - 2020-07-24 - A44B19/36
  • 本实用新型公开一种方块,包括压槽与限位块,限位块凸出固定在压槽的背部,用于阻挡拉头;压槽内用于插接压布带,压槽与布带固定为一体;压槽的至少一个内侧壁上设置挡块,其中一个内侧壁上设置的挡块能够与另一个内侧壁接触,通过挡块限定压槽两个内侧壁之间的间距,当挡块限位时压槽恰好压布带。压槽的边缘用于压住布带,压前压边缘的宽度大于布带的厚度,通过挡块限定压槽的间距,在压槽达到最小间距时恰好压紧布带,布带与压槽牢固连接,由于挡块的阻挡,压槽之间的间距无法进一步被压缩,防止布带被压坏,方块与布带之间达到合适的固定效果。
  • 一种方块拉链
  • [发明专利]通过边缘检测来进行晶圆对准的方法-CN202310553447.0有效
  • 李璇;王晨;马双义 - 拓荆键科(海宁)半导体设备有限公司
  • 2023-05-17 - 2023-10-20 - H01L21/68
  • 一种通过边缘检测来进行晶圆对准的方法,包括:光源组放置于一标准晶圆边缘的下方,并对标准晶圆的边缘进行照明;显微镜组放置于标准晶圆边缘的上方,并对标准晶圆的边缘进行成像;通过对标准晶圆边缘图像组进行圆拟合处理,对显微镜组中的每个显微镜的相对位置进行标定,并建立整个晶圆范围的大坐标系;显微镜组位于一第一位置对上晶圆的边缘进行聚焦成像,得到上晶圆边缘图像组并绘制在大坐标系中;显微镜组从第一位置向下移动至第二位置对下晶圆的边缘进行聚焦成像,得到下晶圆边缘图像组,并绘制在大坐标系中;通过对上晶圆边缘图像组和下晶圆边缘图像组的图像进行处理得到上晶圆与下晶圆的位置差;进行位置差补偿以实现对准并进行
  • 通过边缘检测进行晶圆键合对准方法
  • [发明专利]结构-CN202080009049.7在审
  • B·哈巴;R·卡特卡尔;I·莫哈梅德;J·A·德拉克鲁斯 - 伊文萨思粘合技术公司
  • 2020-01-13 - 2021-08-31 - H01L23/00
  • 结构可以包括第一重构元件,第一重构元件包括第一元件并且具有包括第一表面的第一侧以及与第一侧相对的第二侧。第一重构元件可以包括围绕第一元件的第一侧壁表面设置的第一保护材料。结构可以包括第二重构元件,第二重构元件包括第二元件并且具有包括第二表面的第一侧以及与第一侧相对的第二侧。第一重构元件可以包括围绕第二元件的第二侧壁表面设置的第二保护材料。第二重构元件的第一侧的第二表面在没有沿着界面的中间粘合剂的情况下可以被直接合到第一重构元件的第一侧的第一表面。
  • 结构
  • [发明专利]-CN202110696577.0在审
  • 种宝春;常亮;张文斌;徐品烈;孙莉莉;张彩山 - 北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)
  • 2021-06-23 - 2021-09-24 - H01L21/68
  • 本发明提供的一种机,涉及芯片设备技术领域,以在一定程度上解决现有的机无法为不同尺寸规格的芯片进行连接的问题。本发明提供的机,包括机体、机构以及承载机构;机构以及承载机构均设置于机体上;承载机构包括承载组件、第一位移组件以及第二位移组件,第一位移组件与机体滑动连接,且第一位移组件能够相对机体沿竖直方向往复运动第二位移组件与第一位移组件滑动连接,且第二位移组件能够相对第一位移组件在第一方向上往复运动;承载组件设置于第二位移组件上,且承载组件能够相对第二位移组件在第二方向上往复运动,并能够相对第二位移组件旋转;机构设置于机体上,且机构的端朝向承载组件设置。
  • 键合机
  • [发明专利]方法-CN202211194002.X在审
  • 李恒林 - 细美事有限公司
  • 2022-09-28 - 2023-03-31 - H01L21/77
  • 本发明构思提供了一种方法。方法包括:将第二合到第一物的步骤;将保护剂提供到第一物的未与第二的区域的保护剂提供步骤;以及蚀刻第二物的背面的蚀刻步骤。
  • 方法
  • [发明专利]方法-CN201780003128.5有效
  • 吉野秀纪;三浦雅明 - 株式会社海上
  • 2017-02-28 - 2021-01-08 - H01L21/60
  • 本发明提供能够高精度地对工作台进行定位的方法。本发明的一方式是使用了具有使工作台(1)以θ轴为中心而旋转的旋转驱动机构的装置的方法,具备:相对于所述θ轴锁定所述工作台,在保持于所述工作台的基板的一部分区域引线或凸点的工序(e);将所述工作台相对于所述θ轴的锁定解除,利用所述旋转驱动机构使所述工作台以所述θ轴为中心而旋转的工序(f);以及相对于所述θ轴锁定所述工作台,在所述基板的剩余的区域引线或凸点的工序(g
  • 方法
  • [发明专利]方法-CN202010121126.X有效
  • 龚燕飞;张恺 - 上海新微技术研发中心有限公司
  • 2020-02-26 - 2022-03-29 - H01L21/18
  • 本申请提供一种方法,所述方法包括:在第一基片的表面形成第一对准标记以及第一凹槽,所述第一凹槽具有第一深度;在所述第一基片的表面形成第一材料层,其中,所述第一凹槽的底部也被覆盖所述第一材料层;根据所述第一对准标记,对覆盖所述第一凹槽底部的所述第一材料层进行刻蚀,在所述第一凹槽底部形成第二对准标记;将第二基片的表面与所述第一材料层的表面;以及从所述第二基片的背面对所述第二基片进行减薄处理,从所述第二基片的背面观察到所述第一凹槽底部的所述第二对准标记
  • 方法

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