专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]AlGaN GaN HEMT-CN202180022980.3在审
  • 张坤好;N·乔杜里 - 三菱电机株式会社
  • 2021-02-26 - 2022-11-04 - H01L29/778
  • 一种晶体管器件,包括源极(104)和漏极(105),所述源极和所述漏极位于沿竖直方向(V)的一位置处的水平面处。栅极(111)位于沿所述竖直方向比源极和漏极水平面更高的水平面处。所述源极和漏极水平面下方的第一区域包括第一III族氮化物(III‑N)层、所述第一III‑N层上的第二III‑N层。所述栅极下方的第二区域包括第一III‑N层、所述第一III‑N层上的第二III‑N层以及所述第二III‑N层上的第三III‑N层。所述第三III‑N层在沿晶体管的宽度的选择性位置处延伸穿过所述第二III‑N层并延伸到所述第一III‑N层的一部分中。所述第三III‑N层为P型掺杂的,并且所述第一III‑N和第二III‑N层为非故意掺杂的。
  • 超结选通alganganhemt
  • [发明专利]一种基于像素的扫描控制方法-CN202211474909.1在审
  • 张引;王欣睿;穆廷洲;季渊 - 无锡唐古半导体有限公司
  • 2022-11-23 - 2023-05-16 - G09G3/3225
  • 本发明提供了一种基于像素的扫描控制方法,涉及图像显示技术领域,能够实现对像素的分帧扫描,在有效提高分辨率的同时不增加显示屏尺寸;该方法将现有扫描基板上的每个像素块均划分成多个小像素块,即核心像素,多个核心像素定义成像素;相邻两像素错位放置;采用一个或多个存储器对相邻两个像素进行分时驱动,驱动某一像素时同时驱动该像素内的所有核心像素;一个存储器驱动时通过场选择信号和器来实现;具体:在每个核心像素处均设置一器,其中重叠像素处设置像素个数的器;存储器输出端与所有器连接;同一像素内的所有器均与同一个场选择信号连接;每个器均与其所在核心像素处的发光器件连接。
  • 一种基于像素扫描控制方法
  • [发明专利]自旋轨道扭矩磁随机存储单元、存储阵列及存储器-CN202010594037.7在审
  • 邢国忠;林淮;刘明 - 中国科学院微电子研究所
  • 2020-06-24 - 2020-10-02 - H01L43/08
  • 本公开提供了一种自旋轨道扭矩磁随机存储单元、存储阵列及存储器,其自旋轨道扭矩磁随机存储单元包括:磁隧道器;器为二维材料基器;磁隧道布置在所述器的上方;所述磁隧道包括反铁磁层和自由层,所述自由层与所述反铁磁层邻接;所述器开启,所述存储单元导,电流产生自旋流注入所述自由层,在所述自由层和所述反铁磁层的交换偏置效应作用下,所述自由层磁化方向翻转。本公开无外场利用交换偏置效应,通过施加磁隧道优化偏置电压可实现室温零磁场下的SOT‑MRAM存储单元的确定性磁化翻转,达到数据写入的目的,实现双端结构的SOT‑MRAM存储单元。
  • 自旋轨道扭矩随机存储单元阵列存储器
  • [发明专利]距离编码分辨率三维成像方法-CN201310233404.0有效
  • 王新伟;周燕 - 中国科学院半导体研究所
  • 2013-06-13 - 2013-12-11 - G01C11/00
  • 本发明公开了一种距离编码分辨率三维成像方法,其包括:步骤1、按照编码规则生成编码工作时序,以对脉冲激光器和成像器件进行时域编码调制产生所需的激光脉冲序列和脉冲序列;步骤2、在脉冲序列和激光脉冲序列卷积作用下,在空域产生M个具有三角形能量包络特征的编码空间采样序列GCS,并对成像视场内待三维成像的感兴趣区进行空间编码采样,生成M幅编码图像;步骤3、通过对所述M幅编码图像中N条不同码道的信号进行三角形分辨率三维成像解调实现三维重建
  • 距离编码分辨率三维成像方法
  • [发明专利]功率器件-CN201911184109.4有效
  • 龚轶;袁愿林;刘伟;刘磊;毛振东 - 苏州东微半导体股份有限公司
  • 2019-11-27 - 2022-04-15 - H01L27/088
  • 本发明实施例提供的一种功率器件,包括至少一个第一MOSFET单元和至少一个第二MOSFET单元,第一MOSFET单元在功率器件开启和关断时具有不同的阈值电压,功率器件在反向导时,反向电流可以流过第一MOSFET单元,这提高了功率器件的反向恢复速度;第二MOSFET单元相较于第一MOSFET单元具有更短的电流沟道,可以有效控制功率器件的芯片尺寸。本发明实施例的功率器件在具有快的反向恢复速度的同时还具有小的芯片尺寸。
  • 功率器件
  • [发明专利]连续谱照明空间门弹道光成像装置和方法-CN201710626454.3有效
  • 谭文疆;郑益朋;司金海;赵哲;马骏;刘晓晶 - 西安交通大学
  • 2017-07-27 - 2020-04-28 - G01J3/28
  • 本发明提供一种连续谱照明空间门弹道光成像装置和方法。该成像光路上依次设有透镜,水,透镜,成像目标物体,透镜,空间滤波器,透镜及CCD;连续谱照明抑制散斑使之成为均匀噪声背底;直接空间门弹道光成像利用低通滤波器滤除散射光噪声;直接空间门弹道光成像利用高通滤波器可以得到噪声背底,再用连续谱照明成像减去噪声背底提取弹道光成像结果。该成像方法为:将飞秒激光聚焦到水中产生连续谱,利用连续谱照明,再利用空间滤波技术弹道光成像。本发明具有光路简单、成像对比度高的特定,迂回空间门还具有高分辨率的特点。
  • 连续谱照明空间弹道成像装置方法
  • [发明专利]一种千万帧频超高速太赫兹成像系统-CN202310362735.8有效
  • 李泽仁;阮双琛;孙帅;徐芳;王小胡;李佳;张维 - 深圳技术大学
  • 2023-04-07 - 2023-10-13 - G03B39/00
  • 太赫兹成像主物镜和太赫兹分光物镜共同作用将被成像目标的成像在太赫兹n面分光棱锥的入射面上;太赫兹n面分光棱锥将投射的太赫兹波等分为n束不同空间方向的的波,其中任一束辐射到对应的太赫兹反光镜的入射面上,太赫兹反光镜将入射的太赫兹波反射入超快太赫兹门组件的入射窗口,快太赫兹门组件用于对入射窗口面上的图像进行成像,太赫兹门控脉冲产生模块用于控制快太赫兹门组件的延时打开时刻与开门时间宽度,太赫兹中继成像模块用于将快太赫兹门组件入射的太赫兹波聚焦于太赫兹面阵相机
  • 一种千万帧频超高速赫兹成像系统
  • [发明专利]一种具有类晶格结构的管及其制备方法-CN202011476276.9在审
  • 童浩;王伦;王位国;缪向水 - 华中科技大学
  • 2020-12-15 - 2021-04-13 - H01L45/00
  • 本发明公开了一种具有类晶格结构的管及其制备方法,属于微纳米电子技术领域。该管包括衬底、以及依次层叠在衬底上的第一金属电极层、类晶格层以及第二金属电极层,类晶格层包括周期性交替层叠的n+1个第一子层和n个第二子层,第一子层的材料为非晶碳,第二子层的材料为具有通性能的硫系化合物第一子层的非晶碳作为缓冲层与第一金属电极层和第二金属电极层接触,可以阻止高温导致的具有通性能的硫系化合物材料中的原子漂移,还可以避免引入新材料交叉污染。由于非晶碳的低热导率,本申请的管不仅能够保证管阈值电压不受影响,还使得与相变存储单元集成后,相变材料融化时扩散到管单元的热量更小。
  • 一种具有晶格结构选通管及其制备方法
  • [发明专利]高集成度忆阻器及其制备方法-CN202211509885.9在审
  • 段瑞斌;邱晨光;孟德欢 - 湘潭大学;北京大学
  • 2022-11-29 - 2023-03-03 - H10B51/30
  • 本发明涉及一种高集成度忆阻器及其制备方法,属于微电子器件技术领域,该忆阻器包括一MOSFET晶体管和一铁电隧道,MOSFET晶体管和铁电隧道均包括第一共用电极、第二共用电极、共用半导体层、第一石墨烯层和第二石墨烯层本申请提供的高集成度忆阻器及其制备方法,将MOSFET晶体管和铁电隧道结结合,具有抑制交叉开关矩阵阵列的旁路电流的能力;同时,将MOSFET和铁电隧道混合,具有高开关速度、非易失性、低功耗、高可扩展性以及与CMOS工艺相兼容等特点;此外,高集成度忆阻器及其制备方法省略MOSFET晶体管的源金属电极,直接将MOSFET晶体管的半导体源端扩展部分作为铁电隧道的一端,能够充分实现1T1R存储功能,大大提高了器件的集成度
  • 集成度选通忆阻器及其制备方法
  • [发明专利]器件及其制造方法-CN201610530616.9有效
  • 曾大杰;肖胜安;李东升 - 深圳尚阳通科技有限公司
  • 2016-07-07 - 2021-01-12 - H01L29/78
  • 本发明公开了一种器件,电荷流动区中形成有结结构,器件包括第一原胞,第一原胞的步进大于单元的步进,通过较小的单元的步进使器件的耐压能力增加以及导通电阻降低,通过较大的第一原胞的步进使第一原胞的平面栅覆盖的结结构的面积增加并从而提高超器件的输入电容本发明还公开了一种器件的制造方法。本发明能够提高超器件的击穿电压和降低导通电阻的同时,还能在很低Vds下获得更高的Ciss且在较大的Vds范围内能使得Ciss的下降比较缓慢,从而能减缓了开关过程的速度、能有效降低器件在应用电路中的电磁干扰性能以及能减低导状态到截止状态的切换过程中
  • 器件及其制造方法
  • [发明专利]一种IGBT终端结构-CN202111582030.4有效
  • 陈万军;万贻虎;夏云;孙瑞泽;刘超;张波 - 电子科技大学
  • 2021-12-22 - 2023-05-26 - H01L29/06
  • 本发明属于功率半导体技术领域,特别涉及一种具有反向导能力以及高关断速度的IGBT终端结构。本发明的功率器件终端结构引入的p+短路区、n+短路区、浮空金属以及p型电阻区的结构在器件关断时能起到加速电子抽取的作用,同时也使器件具备反向导能力。本发明中的终端结构,使IGBT具有反向导能力,同时在关断过程中提供了一条电子泄放通路,加速了IGBT的关断过程。
  • 一种igbt终端结构

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