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- [发明专利]光学材料用组合物及使用其的光学材料-CN201680035823.5有效
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今川阳介;堀田明伸;山本良亮;堀越裕
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三菱瓦斯化学株式会社
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2016-06-10
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2020-12-04
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C08G75/06
- 根据本发明，提供一种光学材料用组合物，其是含有环状化合物(a)、环硫化合物(b)及硫(c)的光学材料用组合物，该光学材料用组合物中的环状化合物(a)的比率处于5～70质量％的范围、环硫化合物(b)的比率处于所述环状化合物(a)为选自由二硫杂环丙烷、1,2‑二硫杂环丁烷、1,3‑二硫杂环丁烷、三硫杂环丁烷、1,2,3‑三硫杂环戊烷、1,2,4‑三硫杂环戊烷、四硫杂环戊烷、1,2,3‑三硫杂环己烷、1,2,4‑三硫杂环己烷、1,2,3,4‑四硫杂环己烷、1,2,4,5‑四硫杂环己烷、五硫杂环己烷、1,2,3,4‑四硫杂环庚烷、1,2,3,5‑四硫杂环庚烷、1,2,4,5‑四硫杂环庚烷、1,2,4,6‑四硫杂环庚烷、1,2,3,4,5‑五硫杂环庚烷、1,2,3,4,6‑五硫杂环庚烷、1,2,3,5,6‑五硫杂环庚烷、六硫杂环庚烷、二硒杂环丁烷、三硒杂环丁烷、三硒杂环戊烷、四硒杂环戊烷、四硒杂环己烷、五硒杂环己烷、四硒杂环庚烷、五硒杂环庚烷、六硒杂环庚烷、二碲杂环丁烷、三碲杂环丁烷、三碲杂环戊烷、四碲杂环戊烷、四碲杂环己烷、五碲杂环己烷、四碲杂环庚烷、五碲杂环庚烷、及六碲杂环庚烷组成的组中的1种以上。
- 光学材料组合使用
- [发明专利]一种氧杂蒽荧光染料及其制备方法和应用-CN201410525405.7无效
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曾宪顺;梁丽娟
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天津理工大学
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2014-10-09
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2015-02-04
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C09B57/00
- 一种氧杂蒽荧光染料及其制备方法和应用，所述荧光染料为3’,3’’-二(氧代螺异苯并呋喃)-3-羟基-7-(二乙氨基)苯并吡喃-呫吨，本发明的优点是：设计并合成一种氧杂蒽染料，该染料具有双螺环的六元环稠合体系，染料光学信号的释放受到双螺环结构的控制，螺环结构的开关调控整个分子结构中荧光团氧杂蒽环共轭体系(醌式体系形成或消失)，拓展其吸收和发射波长，使光学信号强度发生相应变化。进一步衍生化合成的异硫氰酸酯衍生物分子荧光探针对Hg2+响应快、选择性高、检测的灵敏度高，检测限低。总之，本发明提供了一种氧杂蒽染料的设计合成方法，并利用该染料为光学信号报告基团设计了检测Hg2+的分子荧光探针。
- 一种氧杂蒽荧光染料及其制备方法应用
- [发明专利]2-氧代二氢吲哚衍生物-CN94194288.0无效
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山田幸一郎;彦田匡毅;鹿野俊朗;长崎正明
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田边制药株式会社
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1994-11-25
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1996-11-20
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C07D209/40
- 公开了一种式(I)表示的2-氧代二氢吲哚衍生物及其药物上可接受的盐，其中环A表示取代的或未取代的苯环；R1表示氢原子、环烷基、取代的或未取代的芳基、含氮杂环基、含氧杂环基、含硫杂环基、含氮原子和氧原子的杂环基、含氮原子和硫原子的杂环基、低级烷氧基、可被酯化的羧基、氰基、低级烷硫基、低级烷基亚硫酰基、低级烷基磺酰基、环氧乙烷基或2-(低级烷硫基)-1-羟乙基；R2表示取代的或未取代的芳基，上式表示的基团。取代的或未取代的含氮杂单环基、取代的或未取代的含氮杂双环基、上式表示的基团，(见II式)(其中n表示1或2)、含氧杂环基、含硫杂环基、含氮原子和氧原子的杂环基或含氮原子和硫原子的杂环基；R3表示取代的或未取代的低级烷基
- 氧代二氢吲哚衍生物
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