“致孔剂”专利关键词查询_检索下载_查询列表_检索列表_行业专利分布_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果6379853个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[实用新型]干燥剂放置的一致性结构-CN201922039650.8有效
发明人：李雄 -专利权人：广州兴田节能科技有限公司
申请日： 2019-11-23 - 公布日： 2020-08-04 - 主分类号： B01D53/26 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种干燥剂放置的一致性结构，包括芯材和夹具，所述芯材的中部至少开设有两个放置孔，所述夹具配合在放置孔内，所述夹具包括插块和夹具壳，所述插块的一端设置有两个推动杆，所述夹具壳的一端为两个插脚，所述插脚内为配合孔，所述推动杆配合在配合孔内，所述插脚配合在放置孔内，所述放置孔内通过粘合剂配合有干燥剂，本实用新型旨在提供一种芯材无预留放干燥剂的孔，通过粘合剂把干燥剂黏结固定在芯材上，干燥剂可以通过夹具先定位然后再通过黏结固定，这样干燥剂就可以放在一致的位置，而且避免干燥剂在抽真空密封前的搬动造成移位的结构。
干燥剂放置一致性结构

[发明专利]一种复合纳米吸附剂及其制备方法和应用-CN201510918587.9在审
发明人：张婵;徐宏英;李秉正;郑伟 -专利权人：太原科技大学
申请日： 2015-12-11 - 公布日： 2016-05-04 - 主分类号： B01J20/26 文献下载
摘要：一种复合纳米吸附剂及其制备方法和应用，属于环境功能材料技术领域。以P(HB-HO)、CS、致孔剂、PVA为原料；按照P(HB-HO)溶于有机相中；将CS放入醋酸溶液中溶解，加入致孔剂混合，高速匀浆，形成初乳液；取部分PVA，溶解成PVA水溶液，再与初乳液混合，高速匀浆，形成复乳液，充分搅拌使有机相挥发，复乳液高速离心，弃上清液，收集沉淀物；将剩余PVA溶解成PVA水溶液，将收集的沉淀物分散于PVA水溶液中振荡过夜，洗去沉淀物中的残余致孔剂，高速离心收集沉淀物，将收集的沉淀物冷冻干燥，得P(HB-HO)/CS复合纳米吸附剂。本发明具有纳米吸附剂粒径分布均匀，分散度好，具有多孔结构，稳定性好，无二次污染，可同时去除污水中的重金属与疏水性有机物，提高了处理效率。
一种复合纳米吸附剂及其制备方法应用

[发明专利]陶瓷材料的烧结控制方法-CN201910474967.6在审
发明人：林宗立;林致扬;陈龙怡;陈家洁 -专利权人：睿健邦生医股份有限公司
申请日： 2019-06-03 - 公布日： 2019-12-20 - 主分类号： C04B35/64 文献下载
摘要：此方法包含有下列步骤：S1:制备含有一致孔材料的一致孔剂；S2:混合致孔剂与一陶瓷材料并形成一生坯；S3:于一无氧环境中以一第一温度烧结生坯以形成一陶瓷粗胚；以及S4:于一含氧环境中以一第二温度烧结陶瓷粗胚以形成一陶瓷物件当致孔材料为一碳基材料，第二温度介于300℃至600℃，且孔隙率可达到30％至70％。藉此方法，陶瓷物件的硬度与致密度被提高，且得以准确调控陶瓷物件的孔隙率以及孔洞的形状和尺寸。
陶瓷物件陶瓷材料孔隙率粗胚孔洞混合致孔剂含氧环境烧结生坯烧结陶瓷碳基材料致孔材料烧结孔材料氧环境孔剂制备陶瓷调控

[发明专利]一种壳层中包埋磁性纳米颗粒的介孔氧化硅空心微球的制备方法-CN201110344263.0有效
发明人：王祎龙;唐玉霖;王方英凯 -专利权人：同济大学
申请日： 2011-11-04 - 公布日： 2012-06-20 - 主分类号： B01J13/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种壳层中包埋磁性纳米颗粒的介孔氧化硅空心微球的制备方法。本发明磁性纳米颗粒采用共沉淀法制备，经过油酸表面修饰后分散在正辛烷中，由苯乙烯单体、十六烷、磁性纳米颗粒的正辛烷分散液、正硅酸烷基酯和硅烷偶联剂组成的油相，和溶解了表面活性剂的水相混合，经过预乳化和细乳化过程得到细乳液液滴体系，在液滴进行自由基聚合时，通过加入碱催化剂来控制氧化硅的形成及体系中有机、无机组分的相分离，得到嵌套结构的模板；基于该模板，以长链烷基硅烷偶联剂与正硅酸烷基酯为介孔氧化硅生成原料，一步烧蚀去除聚合物内核及致孔剂，或者以阳离子型表面活性剂为致孔剂，通过溶剂溶解的方法去除致孔剂和聚合物内核，也可得到磁性/介孔氧化硅空心复合微球。
一种壳层中包埋磁性纳米颗粒氧化空心制备方法

[发明专利]以二氧化硅为致孔剂的壳聚糖/丝素基双重结构多孔吸附过滤材料及其制备方法-CN202010671173.1在审
发明人：黄继伟;林海涛;陈玄墨;宁晚娥;凌新龙;岳新霞 -专利权人：广西科技大学
申请日： 2020-07-13 - 公布日： 2020-11-24 - 主分类号： B01J20/24 文献下载
摘要：本发明提供了一种以二氧化硅为致孔剂的壳聚糖/丝素基双重结构多孔吸附过滤材料，所述多孔吸附过滤材料由丝素、壳聚糖和致孔剂组成，丝素和壳聚糖的质量比为1‑9:9‑1，所述的壳聚糖分子量50000‑100000本发明的一种以二氧化硅为致孔剂的壳聚糖/丝素基双重结构多孔吸附过滤材料，对金属离子具有较好的吸附效果，可作为吸附过滤材料应用于生物医学材料、重金属处理、废水分解过滤、贵金属回收、卫生用品及吸液材料等领域
二氧化硅致孔剂聚糖丝素双重结构多孔吸附过滤材料及其制备方法

[发明专利]跨再分配层实现均匀性的系统和方法-CN201710363831.9有效
发明人：布赖恩·L·布卡卢;托马斯·A·波努什瓦米;史蒂文·T·迈尔;斯蒂芬·J·巴尼克二世;贾斯廷·奥伯斯特 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2017-05-22 - 公布日： 2021-07-06 - 主分类号： H01L21/48 文献下载
摘要：一种方法包括图案化在衬底上的光致抗蚀剂层。图案化限定用于导线的区域和设置在导线的区域下方的通孔。该方法还包括在图案化的光致抗蚀剂层之间沉积导电材料，使得导电材料填充通孔和导线的区域。沉积导致导线的导电材料的过度生长以在通孔上形成导电材料的隆起。该方法还包括平坦化导线的顶表面，同时保持图案化的光致抗蚀剂层在衬底上。通过在导线和隆起上施加水平剪切力来促进平坦化。
再分实现均匀系统方法

[发明专利]用于制备阻隔性材料的方法-CN201180067540.6在审
发明人： D.卢阿普雷;C.帕尔内;V.格里戈罗瓦;J.吉勒 -专利权人：圣戈班伊索福公司
申请日： 2011-12-07 - 公布日： 2013-10-30 - 主分类号： C04B26/02 文献下载
摘要：本发明涉及用于制备隔热性材料的方法，其包含以下步骤：a)制备具有大于5m2/g的比表面积S的悬浮液形式的固体无机物质的含水混合物；b)在混合物中加入至少一种致孔剂；c)搅拌以便获得均匀混合物；d)使用该均匀混合物预成型为基材；e)任选地至少部分地干燥该基材；f)至少部分地除去致孔剂；使得所述用m2/g表示并且通过BET进行测量的比表面积S和致孔剂的用微米表示并且通过动态光散射进行测量的平均粒径Dpm服从以下关系：1/S
用于制备阻隔材料方法

[发明专利]通孔刻蚀方法-CN200610030796.0有效
发明人：韩秋华 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2006-09-04 - 公布日： 2008-03-12 - 主分类号： H01L21/311 文献下载
摘要：一种通孔刻蚀方法，包括：形成通孔刻蚀结构，所述通孔刻蚀结构包含顺序沉积的粘接层、刻蚀终止层、介质层及图案化的光致抗蚀剂层；刻蚀抗反射涂层；刻蚀介质层；移除光致抗蚀剂层；进行刻蚀终止层的刻蚀；所述介质层的刻蚀过程包括第一刻蚀过程和第二刻蚀过程采用本发明方法，可提高光致抗蚀剂层的致密度，进而有效地控制刻蚀通孔的形貌；并可进一步调整横向、纵向的刻蚀选择比，精确控制刻蚀通孔的形状，以避免损伤栅极侧墙，保证器件可正常工作。
刻蚀方法

[发明专利]包衣材料和致孔剂的混合物在制备中药组合物方面的应用-CN200810207356.7有效
发明人：果德安;吴婉莹;高志刚;侯晋军;姚帅;笪娟;夏振 -专利权人：中国科学院上海药物研究所
申请日： 2008-12-19 - 公布日： 2010-06-23 - 主分类号： A61K36/537 文献下载
摘要：本发明提供了包衣材料和致孔剂的混合物在制备一种中药组合物方面的应用。通过所述包衣材料和致孔剂的混合物对一种中药组合物中组分进行包衣后制备而成的制剂成功掩盖了苦味，改善了口感，而且尤为关键的是该应用使制剂符合药物质量控制的技术要求。
包衣材料致孔剂混合物制备中药组合方面应用

[发明专利]由再生纤维素连续制备海绵体的方法和海绵体-CN201080009982.0无效
发明人： M·洪格尔;J·豪斯多夫;H·诺沃特尼克;N·克瓦恩洛夫;P·伦哈特 -专利权人：卡尔·弗罗伊登伯格公司
申请日： 2010-03-17 - 公布日： 2012-02-01 - 主分类号： A47L13/16 文献下载
摘要：使用至少部分聚集的由十水硫酸钠构成的致孔剂由再生纤维素连续制备海绵体(1)的方法，其中，首先提供粘胶溶液，向该粘胶溶液中混入致孔剂，将粘胶溶液置于连续移动的传送带上，其中将粘胶溶液在传送带上引导通过浴槽
再生纤维素连续制备海绵方法

[发明专利]电路板制作方法-CN201010123290.0有效
发明人：郑建邦 -专利权人：富葵精密组件(深圳)有限公司;鸿胜科技股份有限公司
申请日： 2010-03-12 - 公布日： 2011-09-21 - 主分类号： H05K3/06 文献下载
摘要：一种电路板制作方法，包括步骤：提供一个覆铜基板，所述覆铜基板具有第一导电层，所述覆铜基板包括多个产品区和一个非产品区，所述非产品区围绕所述多个产品区；在所述覆铜基板的非产品区形成多个第一通孔；在所述第一导电层上形成第一光致抗蚀剂层；图案化所述第一光致抗蚀剂层，以使得图案化的第一光致抗蚀剂层露出多个第一通孔和每个产品区内的部分第一导电层；向所述覆铜基板喷淋蚀刻液以蚀刻从图案化的第一光致抗蚀剂层露出的第一导电层，以将每个产品区内的第一导电层均形成第一导电图形
电路板制作方法

[发明专利]蚀刻方法、金属膜结构体的制造方法以及蚀刻结构体-CN200610126630.9无效
发明人：海部胜晶;见田充郎 -专利权人：冲电气工业株式会社
申请日： 2006-08-30 - 公布日： 2007-03-07 - 主分类号： H01L21/311 文献下载
摘要：即，衬底结构体具备衬底、覆盖衬底的保护膜、覆盖保护膜的光致抗蚀剂(14)以及形成在光致抗蚀剂上的孔部(16)。孔部具有形成在光致抗蚀剂表面上的开口部(16b)和与开口部在光致抗蚀剂的厚度方向上连续并且到达保护膜的中空部(16c)。
蚀刻方法金属膜结构制造以及结构

[发明专利]双镶嵌结构形成方法-CN200610116902.7无效
发明人：林益世 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2006-09-30 - 公布日： 2008-04-02 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：一种双镶嵌结构形成方法，包括：形成双镶嵌基体，所述双镶嵌基体包含顺序叠加的刻蚀终止层、介质层、第一抗反射涂层及图案化的第一光致抗蚀剂层；顺序刻蚀第一抗反射涂层、介质层，形成通孔；移除图案化的第一光致抗蚀剂层及第一抗反射涂层；涂覆第二抗反射涂层；利用确定机台完成所述第二抗反射涂层的第一烘干过程；利用上述机台或另一机台完成所述第二抗反射涂层的第二烘干过程，并形成图案化所述第二光致抗蚀剂层；刻蚀第二抗反射涂层及介质层，并去除通孔底部刻蚀终止层可在集成电路的制造过程中不必引入附加工艺或强化生产调度即可有效抑制光致抗蚀剂中毒现象发生。
镶嵌结构形成方法

[发明专利]曝光设备,图案、沟道、孔形成方法,液晶显示器及制造方法-CN200810173007.8有效
发明人：梁埈荣;李正一;金正五;安俞庆;康永权;李相振;方政镐 -专利权人：乐金显示有限公司
申请日： 2008-10-29 - 公布日： 2009-05-06 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种曝光设备，即使曝光设备具有低分辨率，也可以通过改变掩模图案形成微米图案，本发明还涉及用于分别形成图案、沟道和孔的方法，和液晶显示器件及其制造方法。用于形成图案的方法包括如下步骤：在基板上形成薄膜，在薄膜上涂覆光致抗蚀剂膜，将掩模在光致抗蚀剂膜上对准，该掩模形成在基底材料上，且包括光遮蔽部分和限定在除光遮蔽部分以外区域的透射部分，所述的光遮蔽部分具有线性支持部分和在该支持部分的边界处的非平坦部分，利用掩模将光致抗蚀剂膜曝光于波长大于300nm的UV光束，以在非平坦部分邻近处引起折射，并且对曝光的光致抗蚀剂膜显影，由此形成光致抗蚀剂膜图案，利用形成的光致抗蚀剂膜图案构图薄膜。
曝光设备图案沟道形成方法液晶显示器制造

[发明专利]石墨烯改性的干膜光致抗蚀剂及其在印刷线路板中的应用-CN201810176044.8有效
发明人：钱晓春;衡京;胡春青;翁云峰 -专利权人：常州强力电子新材料股份有限公司;常州强力先端电子材料有限公司
申请日： 2018-03-02 - 公布日： 2021-10-08 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供了一种石墨烯改性的干膜光致抗蚀剂及其在印刷线路板中的应用。该石墨烯改性的干膜光致抗蚀剂包括石墨烯改性的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯、碱可溶性树脂、光聚合单体及光引发剂。上述干膜光致抗蚀剂中采用了石墨烯改性的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯，因石墨烯具有低原子层厚度、较高的拉伸断裂伸长率和抗冲击强度，利用石墨烯改性的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯能够极大提高干膜光致抗蚀剂的柔韧性、盖孔性和抗电镀性，使得本发明提供的干膜光致抗蚀剂能更好地应用在多层印刷线路板和微型印刷线路板的制备中。
石墨改性干膜光致抗蚀剂及其印刷线路板中的应用