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[发明专利]一种化学镀的方法-CN202110962729.7在审
发明人：李杰;许建平 -专利权人：清远敏惠汽车零部件有限公司
申请日： 2021-08-20 - 公布日： 2021-12-14 - 主分类号： C23C18/36 文献下载
摘要：本发明涉及化学镀技术领域，特别涉及一种化学镀的方法，该方法为：先在预处理后的基材上进行一次镀覆，然后再进行二次镀覆。本发明通过改进化学镀的工艺过程，可以改善漏塑的现象，增加镀件的良率，提高镀件的寿命。
一种化学方法

[实用新型]一种钛合金壳体组合件化学镀镍内腔防护工装-CN202120990210.5有效
发明人：孙境尧;师玉英;温冠云;张胜宝;刘星岑;郭利雄;朱万宝;孙中尧;张兴轶;曲军 -专利权人：中国航发哈尔滨东安发动机有限公司
申请日： 2021-05-10 - 公布日： 2022-03-29 - 主分类号： C23C18/16 文献下载
摘要：本实用新型属于表面处理技术领域，涉及一种壳体组合件化学镀镍内腔防护工装。工装选用耐酸碱胶材制造，胶耐温(90～120)℃，将钛合金壳体组合件加温至200℃，在组合件内腔防护刷涂耐高温、耐蚀性胶材，3～5遍，胶体厚度在(1.5～3)mm范围内，随炉温冷降至室温，剥离随零件型胶体工装，随型工装，可在(91～95)℃镀镍溶液中反复使用(4～5)次。通过上述方法，可以有效解决原有壳体组合件内腔结构复杂，手工防护繁琐，防护漏的问题，大幅提高的生产效率及防护效果，有效保证了壳体组合件复杂内腔结构与工装的贴合程度，有效提高了壳体组合件的防护位置准确度。
一种钛合金壳体组合化学镀镍内腔防护工装

[发明专利]一种集成电路引线框架机械模板无侧面漏银电镀装置-CN202111239010.7有效
发明人：康小明;马文龙;康亮 -专利权人：天水华洋电子科技股份有限公司
申请日： 2021-10-25 - 公布日： 2022-06-17 - 主分类号： C25D17/00 文献下载
摘要：本发明涉及电镀技术领域，尤其是一种集成电路引线框架机械模板无侧面漏银电镀装置，包括底座，所述底座的顶部固定安装有支撑架，所述底座的顶部中间固定安装有喷液箱，所述喷液箱的侧面设有输送机构，所述输送机构用于对引线框架进行输送，所述喷液箱的侧面固定连通有进液泵，所述进液泵的进液油管与外部供液机构固定连通，所述进液泵的出液油管与喷液箱内部固定连通，所述喷液箱的顶部固定安装有镀腔模具，所述镀腔模具的顶部开设有电镀口；下移的上压模会带动两侧的校正机构进行移动，实现对引线框架位置的校正，联合继续下移的上压模会促使密封机构对引线框架与电镀口的相贴处进行挤压密封，避免电镀时出现漏银的现象。
一种集成电路引线框架机械模板侧面电镀装置

[发明专利]一种带钢连续热浸镀锌系统-CN201810976194.7在审
发明人：张理扬;丁勇生;王骏飞;路智凤;王超 -专利权人：宝钢湛江钢铁有限公司
申请日： 2018-08-25 - 公布日： 2018-11-20 - 主分类号： C23C2/06 文献下载
摘要：本发明公开了一种带钢连续热浸镀锌系统，包括：镀前张紧辊室、密封装置、镀前转向辊室、镀前转向辊、膨胀节、热浸镀通道、排气风机、锌灰过滤器、炉鼻子、保护气体供气装置、放散管道、放散控制电磁阀、锌锅沉没辊设备和锌锅，所述热浸镀通道的上部向两侧拓宽，在两侧的拓宽部分设置有集灰槽，集灰槽的侧壁上设有清灰孔；本专利不仅适用于热镀纯锌、合金化热镀锌，而且还适用于热镀锌铝镁等其它热浸镀产品的生产，可以通过工艺选择和调整，解决带钢连续炉鼻子区域的漏镀问题，既可以生产IF钢、CQ料等普通强度产品，又可以生产QP钢、CP钢、DP钢、TRIP钢等超高强钢产品，而且生产这些超高强钢产品可以避免炉鼻子区域漏镀问题。
热浸镀带钢连续热浸镀锌超高强钢集灰槽炉鼻子转向辊锌锅生产合金化热镀锌过滤器控制电磁阀保护气体鼻子区域放散管道工艺选择供气装置排气风机热镀锌铝沉没辊镀纯锌连续炉膨胀节清灰孔张紧辊侧壁锌灰

[发明专利]一种防止背钻孔板沉金漏镀的方法-CN201710832700.0在审
发明人：游传林;彭卫红;刘东;韩焱林;田小刚 -专利权人：深圳崇达多层线路板有限公司
申请日： 2017-09-15 - 公布日： 2018-03-23 - 主分类号： H05K3/42 文献下载
摘要：本发明公开了一种防止背钻孔板沉金漏镀的方法，含有单面背钻孔的线路板进行沉镍金表面处理的流程为预浸→活化→后浸→水洗→沉镍→镍后水洗→沉金，在活化处理、沉镍处理和沉金处理的过程中均采用插架生产，线路板在插架时倾斜插架本发明方法通过改变工艺流程，解决了含背钻孔的线路板在沉镍金过程中漏镀镍(金)的问题，减少因漏镀导致的沉金报废，节省生产成本。
一种防止钻孔板沉金漏镀方法

[发明专利]化学镀镍浴-CN201710953140.4有效
发明人：桥本大督;田边克久;西村直志;丸尾洋一 -专利权人：上村工业株式会社
申请日： 2017-10-13 - 公布日： 2021-09-07 - 主分类号： C23C18/34 文献下载
摘要：本发明提供了一种化学镀镍浴，该化学镀镍浴可以抑制镍漏镀和图案外析出，并且可以得到耐腐蚀性和外观良好的化学镀镍膜。本发明的化学镀镍浴，其特征在于，该化学镀镍浴含有还原剂和含有一个以上硝基的含硝基芳香族化合物。
化学镀镍浴

[发明专利]一种金属铜表面化学镀镍离子钯活化液及制备方法-CN201811178442.X在审
发明人：张毅;张新学;刘龙平 -专利权人：深圳市互连微电子材料有限公司
申请日： 2018-10-10 - 公布日： 2019-01-04 - 主分类号： C23C18/18 文献下载
摘要：本申请实施例公开了一种金属铜表面化学镀镍离子钯活化液及其制备方法，用于解决现有技术中在精细线路中容易出现渗镀、漏镀以及工序繁琐的问题。本申请实施例提供了一种金属铜表面化学镀镍离子钯活化液，以浓度计，所述活化液包括：钯盐8ppm‑15ppm；无机酸0.1mL/L‑20mL/L；表面活性剂0.01g/L‑1g/L；加速剂0.01g/L‑0.1g因此，通过对活化液配方的改进，解决现有技术中在精细线路中容易出现渗镀、漏镀以及工序繁琐的问题。
离子钯活化液金属铜表面化学镀镍精细线路渗镀制备表面活性剂活化液配方去离子水活化液加速剂络合剂浓度计无机酸钯盐申请改进

[实用新型]AMOLED低掺杂度漏极TFT制作工序中的结构-CN201320039137.9有效
发明人：赵大庸;徐正勋;郭钟云 -专利权人：四川虹视显示技术有限公司
申请日： 2013-01-24 - 公布日： 2013-07-24 - 主分类号： H01L29/786 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种AMOLED低掺杂度漏极TFT制作工序中的结构，所述制作工序包括在玻璃基板上蒸镀氧化物缓冲层、非晶硅、Ni原子单位，结晶化a-Si及一次蒸镀绝缘膜、二次蒸镀绝缘膜等工序，所述一次蒸镀绝缘膜后，AMOLED低掺杂度漏极TFT制作工序中的结构包括玻璃基板及依次覆盖于玻璃基板上的氧化物缓冲层、非晶硅层、栅极绝缘层、栅极金属层和绝缘膜，所述绝缘膜厚度为本实用新型的有益效果：通过控制绝缘膜形成斜面区和平面区组合的特殊结构，实现在经过离子注入等后续工序后自然形成具备低掺杂度漏极的AMOLED用TFT，采用分两次蒸镀绝缘膜的手段减小了离子注入对绝缘膜的影响。
amoled 掺杂度漏极 tft 制作工序中的结构

[发明专利]湿法腐蚀制备精细金属掩膜漏板的方法-CN201010228796.8无效
发明人：李志明;孙晓娟;宋航;黎大兵;陈一仁;缪国庆;蒋红 -专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请日： 2010-07-16 - 公布日： 2010-11-17 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：湿法腐蚀制备精细金属掩膜漏板的方法，涉及真空镀精细图形镀膜的过程中的掩膜漏板的加工领域，它解决了现有采用化学腐蚀的方法制备金属掩板尺寸误差大，并且在加工过程中金属掩膜漏板容易发生侧腐的问题，本发明方法为：首先选择铁铬合金薄片作为金属掩膜漏板基材，其次对所述的金属基材双面蒸镀不同的金属材料，再次采用光刻方法实现双面精确紫外曝光，最后通过自制的具有选择性腐蚀特性的化学腐蚀液进行腐刻，实现金属掩膜漏板的精细加工本发明所述的方法能够制备出高精细的图形完整的金属掩膜漏板。本发明适用于精细金属掩膜漏板的制备领域。
湿法腐蚀制备精细金属掩膜漏板方法

[发明专利]一种薄膜晶体管液晶显示器的像素结构及其制造方法-CN201110124716.9有效
发明人：耿军;郑载润;吴代吾;王世凯;訾玉宝;王建伟 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司
申请日： 2011-05-13 - 公布日： 2012-08-22 - 主分类号： H01L29/786 文献下载
摘要：该方法为：在基板上依次溅镀像素电极薄膜和钝化绝缘层薄膜，采用第一掩膜板进行掩膜曝光后再进行刻蚀，形成像素电极、钝化绝缘层和漏极过孔，然后依次溅镀源、漏极薄膜和欧姆接触层薄膜，采用第二掩膜板进行掩膜曝光后再进行刻蚀，形成源极、漏极、源漏沟槽以及覆盖在源极和漏极之上的欧姆接触层，再依次溅镀有源层薄膜、绝缘层薄膜和栅极薄膜，采用第三掩膜板进行掩膜曝光后再进行刻蚀，形成有源层、绝缘层、栅极以及源极驱动过孔。
一种薄膜晶体管液晶显示器像素结构及其制造方法

[实用新型]一种提高镀层均匀性的化学镀槽-CN202022934920.4有效
发明人：丁将 -专利权人：上海聚晶电子设备有限公司
申请日： 2020-12-09 - 公布日： 2021-09-10 - 主分类号： C23C18/16 文献下载
摘要：本申请涉及一种提高镀层均匀性的化学镀槽，涉及表面处理设备领域，其包括镀槽，镀槽包括不断补充溶液的补液腔和浸泡镀件的镀件腔，补液腔位于镀件腔的下方，补液腔与镀件腔之间设置有隔板进行分隔，隔板上贯穿开设有多个连通补液腔和镀件腔的连通孔针对现有的化学镀槽中镀件表面镀层均匀程度难以保证的问题，本申请具有提高镀槽内溶液流动性的效果，通过提高溶液流动性使镀槽内镀件的各个部位与溶液充分反应，进而提高镀件表面镀层的均匀程度。
一种提高镀层均匀化学

[发明专利]一种蒸镀设备及蒸镀方法-CN201910599323.X有效
发明人：饶勇;岳小非 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2019-07-04 - 公布日： 2022-05-10 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明公开了一种蒸镀设备及蒸镀方法。所述蒸镀设备包括：传送机构、第一蒸镀腔室和第二蒸镀腔室；其中，所述传送机构，被配置为将待蒸镀基板在所述第一蒸镀腔室和所述第二蒸镀腔室间传送；所述第一蒸镀腔室，被配置为在待蒸镀基板上形成第一蒸镀膜层；以及所述第二蒸镀腔室所述蒸镀设备及蒸镀方法能够降低蒸镀腔室温度，降低白点不良的概率。
一种设备方法

[发明专利]双层上电极有机场效应晶体管的制作方法-CN200910077673.6有效
发明人：刘舸;刘明;刘兴华;商立伟;王宏;柳江 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2009-02-11 - 公布日： 2010-08-11 - 主分类号： H01L51/40 文献下载
摘要：本发明公开了一种双层上电极有机场效应晶体管的制作方法，该方法包括：步骤1、在导电硅基底上热氧化生长绝缘介质薄膜；步骤2、在绝缘介质薄膜表面上真空蒸镀一层有机半导体材料；步骤3、通过漏版用电子束蒸发蒸镀一层金属电极；步骤4、再真空蒸镀一层有机半导体材料；步骤5、通过漏版用电子束蒸发蒸镀第二层金属电极，完成器件的制作。本发明提供的双层上电极有机场效应晶体管的制作方法，采用漏版蒸镀工艺，保证了生长的有机半导体薄膜的性能。而且，采用双层上电极结构，有效的减小了电极与沟道之间的距离，同时又保证了有源层的厚度。
双层电极有机场效应晶体管制作方法

[发明专利]一种消除热浸镀Zn-Al-Mg-Zr合金镀层漏镀的助镀剂及使用方法-CN202310432537.4在审
发明人：王建华;周诗骏;苗华磊;林文军;李智伟;王琦 -专利权人：常州大学;株洲冶炼集团股份有限公司
申请日： 2023-04-21 - 公布日： 2023-07-04 - 主分类号： C23C2/06 文献下载
摘要：本发明属于热浸镀锌铝镁合金技术领域，具体涉及一种消除热浸镀Zn‑Al‑Mg‑Zr合金镀层漏镀的助镀剂及使用方法，所述助镀剂包括以下组分：NH4Cl120‑220g本发明的助镀剂用KCl部分替代NH4Cl，再配合使用K2ZrF6，可以消除Zn‑Al‑Mg‑Zr合金镀层的漏镀现象，还能降低合金液在基体表面的粘度，提高润湿性，使合金镀层更光亮。
一种消除热浸镀 zn al mg zr 合金镀层助镀剂使用方法

[实用新型]一种防漏镀电镀池-CN202221421707.6有效
发明人：林惠娟;黎应伦;刘宁波;王尧溶 -专利权人：嘉讯科技（深圳）有限公司
申请日： 2022-06-08 - 公布日： 2022-10-21 - 主分类号： C25D17/00 文献下载
摘要：本申请公开了一种防漏镀电镀池，属于电镀池技术领域，包括电镀反应池，所述电镀反应池的内底壁安装有转动电机，转动电机的输出端安装有搅拌扇叶，电镀反应池的内壁安装有支撑挡条，电镀反应池的内部卡接有移动反应筐，该一种防漏镀电镀池，通过设置有电镀反应池、转动电机、搅拌扇叶、支撑挡条、移动反应筐、把手、反应漏板、支撑安装板、卡槽和卡接块的配合，能够使在移动反应筐内的反应漏板上反应的被镀物，来使搅拌扇叶带动电镀液在电镀反应池内流动，从而使被镀物表面电镀液浓度提高，起到能够加快电镀效率，也能够使被镀物表面不漏镀的作用。
一种防漏电镀