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[发明专利]一种离子钯活化液及其制备方法和塑料表面化学镀方法-CN201410375484.8在审
发明人：韦家亮 -专利权人：比亚迪股份有限公司
申请日： 2014-07-31 - 公布日： 2016-04-06 - 主分类号： C23C18/30 文献下载
摘要：本发明提供了一种离子钯活化液及其制备方法和塑料表面化学镀方法，所述离子钯活化液包括可溶性钯盐、氯化铜、氯化物络合剂、1，10-菲咯啉和4-氰基吡啶；所述离子钯活化液的pH为6-12。用本发明的活化液寿命长，且用本发明的活化液活化后的材料的上渡时间短，没有溢镀或漏镀现象，附着力强。
一种离子活化及其制备方法塑料表面化学

[发明专利]一种用于聚酰亚胺化学粗化的调整液和一种聚酰亚胺表面化学粗化的方法-CN201410373201.6有效
发明人：韦家亮 -专利权人：比亚迪股份有限公司
申请日： 2014-07-31 - 公布日： 2018-05-29 - 主分类号： C23C18/22 文献下载
摘要：用本发明的调整液处理后的聚酰亚胺膜进行化学镀后得到的镀件没有漏镀现象，同时附着力好，表面无起泡，无针孔，金属层表面平整细腻。
聚酰亚胺调整液粗化强碱表面化学附着力针孔金属层表面聚酰亚胺膜起泡氢氧化钾氢氧化钠化学镀水合肼乙醛酸镀件平整

[发明专利]一种晶圆镀液搅拌机构-CN202210611606.3在审
发明人：吴娖;刘盈楹;陈苏伟;高津平;康国雨 -专利权人：北京半导体专用设备研究所（中国电子科技集团公司第四十五研究所）
申请日： 2022-05-31 - 公布日： 2022-08-12 - 主分类号： C25D21/10 文献下载
摘要：本发明涉及晶圆生产加工技术领域，具体而言，涉及一种晶圆镀液搅拌机构，包括驱动机构和搅拌组件，所述驱动机构与所述搅拌组件连接；所述搅拌组件包括连接件和搅拌盘，所述搅拌盘通过所述连接件与所述驱动机构连接，所述搅拌盘位于电镀腔内的镀液中，所述驱动机构用于驱动所述搅拌盘对电镀腔内的镀液进行搅拌以提高晶圆上硅穿孔的镀液填充良率；本申请的晶圆位于电镀腔的镀液中，搅拌组件的搅拌盘也位于电镀腔的镀液中，通过驱动机构驱动搅拌盘移动，对镀液进行搅拌，能够有效提高镀液的搅拌均匀性和晶圆硅通孔内的镀液交换速率，从而有效提高硅通孔镀制的填充良率和镀层厚度均匀性。
一种晶圆镀液搅拌机构

[发明专利]真空蒸镀设备及真空蒸镀方法-CN201510004716.3有效
发明人：张永峰 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2015-01-06 - 公布日： 2019-07-02 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明提供了一种真空蒸镀设备及真空蒸镀方法，属于真空蒸镀领域。其中，真空蒸镀设备包括蒸镀腔室和设置在所述蒸镀腔室内的M个相互独立的蒸发源装置，M为大于1的整数，所述蒸发源装置包括：子腔室；位于所述子腔室内的蒸发源；位于所述蒸发源上方、能够阻挡蒸发源的源材料排出的第一挡板；位于所述第一挡板上方的第一晶振片；位于所述第一晶振片上方、能够阻挡蒸发源的源材料排出的第二挡板，其中，所述第一挡板和第二挡板均具有与所述蒸发源对应的用于使蒸镀物质通过的挡板开口。本发明的技术方案能够提高蒸镀流片的效率，缩短蒸镀流片的时间，同时能够对源材料进行回收，从而降低蒸镀流片的成本。
真空设备方法

[发明专利]蒸镀坩埚提取装置-CN201710539065.7有效
发明人：金鑫;刘暾;闫华杰;战泓升 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2017-07-04 - 公布日： 2019-11-12 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明公开了一种蒸镀坩埚提取装置，属于蒸镀技术领域。所述蒸镀坩埚提取装置包括：长杆、控制单元和提取单元；提取单元设置在长杆的一端，控制单元设置在长杆的另一端且与提取单元连接，提取单元能够在控制单元的控制下由第一状态切换至第二状态；当提取单元处于第一状态时，提取单元能够通过蒸镀坩埚的盖子上的通孔，当提取单元处于第二状态时，提取单元不能够通过通孔。使用该装置进行蒸镀坩埚提取时，由于作业人员不需要到蒸镀坩埚跟前取坩埚，减少了作业人员在蒸镀腔滞留的时间，从而减少了作业人员进入蒸镀腔对蒸镀腔造成的污染，同时降低了蒸镀腔内的残留气体或粉尘也会对作业人员的人身健康产生的不良影响
坩埚提取装置

[实用新型]一种线源蒸镀坩埚-CN202120576729.9有效
发明人：林少钦;林志斌 -专利权人：福建华佳彩有限公司
申请日： 2021-03-22 - 公布日： 2021-12-03 - 主分类号： C23C14/26 文献下载
摘要：本实用新型公布一种线源蒸镀坩埚，包括本体和上盖；所述本体设置容置腔，所述容置腔用于容置蒸镀材料，所述容置腔的顶部具有开口，回字形的本体的中心为中空区域；所述上盖设置在所述容置腔的顶部开口处，所述上盖设置多个的喷嘴，多个的喷嘴围绕所述中空区域，所述喷嘴的内腔通过所述开口和所述容置腔连通。上述技术方案设置“回字形”的本体，一方面增加容置腔中蒸镀材料的受热均匀性，保证蒸镀速率的均一性，提高膜层厚度的均匀性；另一方面增大容置腔的容量，减小添加蒸镀材料的频率，避免坩埚频繁开腔。上述技术方案设置至少一排的喷嘴，提升蒸镀的速率。
一种线源蒸镀坩埚

[发明专利]背面金属化工艺方法-CN201510052284.3有效
发明人：傅荣颢 -专利权人：上海华虹宏力半导体制造有限公司
申请日： 2015-01-31 - 公布日： 2017-11-24 - 主分类号： H01L21/28 文献下载
摘要：本发明的背面金属化工艺方法，包括提供半导体衬底，将所述半导体衬底置于蒸镀腔室中，对所述蒸镀腔室抽真空；打开所述蒸镀腔室内的卤素灯，所述蒸镀腔室内的温度升到第一预定温度；保持所述第一预定温度，在所述半导体衬底的背面沉积一第一金属层，所述第一金属层与所述半导体衬底背面接触的部分形成一合金层；关闭所述蒸镀腔室内的所述卤素灯，将蒸镀腔室内的温度降至第二预定温度。
背面金属化工艺方法

[发明专利]一种蒸镀装置-CN201410182185.2在审
发明人：马利飞;张鹏 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2014-04-30 - 公布日： 2014-08-13 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明实施例提供了一种蒸镀装置，涉及显示技术领域的制造设备，可使金属掩模板与待蒸镀基板紧密贴合，从而在子像素单元蒸镀时形成正确的图案，在此基础上，可使作用于金属掩膜板的磁场均匀，避免由于磁场不均而对上述图案造成影响该蒸镀装置包括：蒸镀腔室、设置于蒸镀腔室内的蒸镀源、掩模板支撑架和基板支撑架，掩模板支撑架用于承载金属掩模板，基板支撑架用于承载待蒸镀基板，且金属掩模板设置于蒸镀源和待蒸镀基板之间；还包括：设置于蒸镀腔室内的吸附装置，包括：设置于待蒸镀基板远离金属掩模板一侧的多个呈矩阵排列的磁块，和用于调节每个磁块上下移动的牵引装置。用于OLED显示器制造过程中的蒸镀工艺。
一种装置

[发明专利]一种新型真空蒸镀机-CN202011618412.3在审
发明人：薛蒙晓 -专利权人：苏州佑伦真空设备科技有限公司
申请日： 2020-12-31 - 公布日： 2021-04-09 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本申请提出一种新型真空蒸镀机，包括：蒸镀机本体、加热灯结构、镀锅结构、水冷隔热机构、坩埚、离子源、控制机构、和驱动机构，所述蒸镀机本体内部分为蒸镀腔体和控制件腔体，加热灯结构、镀锅结构、水冷隔热机构、坩埚、离子源和驱动机构均设置于蒸镀腔体内，控制机构设置于控制件腔体内，所述驱动机构包括马达和抽真空泵组，蒸镀腔体的一侧面设有主阀腔，主阀腔的下部设有与主阀腔通过真空管连通的抽真空泵组，抽真空泵组位于蒸镀机本体外部的支架上，蒸镀腔体为中空的圆柱体或者为中空的椭圆柱体，镀锅结构的伞架有3个，设置在蒸镀腔体的腔体侧面内壁上的防着板，能够与蒸镀腔体的腔体侧面内壁挂住固定及拆卸。
一种新型真空蒸镀机

[发明专利]一种蒸镀点源材料回收盒-CN202310484270.3在审
发明人：严明会;李玉峰 -专利权人：普诺逊真空科技（苏州）有限公司
申请日： 2023-04-28 - 公布日： 2023-07-18 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明提出了一种蒸镀点源材料回收盒，涉及蒸镀技术领域。包括蒸镀设备以及点源，蒸镀设备内为蒸镀腔室；蒸镀设备且位于蒸镀腔室内设有基板，基板位于点源的喷射口上方；还包括底部开口的材料回收盒，材料回收盒设于蒸镀设备且位于蒸镀腔室内，材料回收盒罩设于点源上方，材料回收盒顶部设有蒸镀口，基板位于蒸镀口上方。采用本发明，其可以遮蔽在点源上，只暴露出蒸镀口位置。一方面，可以很大程度降低了薄膜材料成本，特别是对比较昂贵的薄膜材料，成本控制相当可观。另一方面，避免了在蒸镀工艺过程中点源和点源之间薄膜材料的交叉污染，从而能沉积性能更好的薄膜。再者，避免了热量损失，同时节省了二次蒸发的热量消耗。
一种蒸镀点源材料回收

[发明专利]一种实验用水平镀装置-CN202310494198.2在审
发明人：孙黎明 -专利权人：无锡市振华开祥科技有限公司
申请日： 2023-05-04 - 公布日： 2023-07-21 - 主分类号： C25D17/00 文献下载
摘要：本发明涉及电镀技术领域，尤其涉及一种实验用水平镀装置，其包括槽体，槽体的上端设置有盖板，盖板上开设有镀槽口，镀槽口的外圈设置有胶圈，待镀工件以电镀面朝下地压放于镀槽口上，并与胶圈接触密封，盖板的内壁上吊装有安装座，安装座上设置有子槽，子槽的内部开设有盛装镀液的容腔，容腔中设置有阳极板，且容腔中伸出有与待镀工件的电镀面接触的阴极导电针，子槽的侧面开设有镀液进口，子槽的上端口伸入镀槽口中并向待镀工件的电镀面喷射镀液上述实验用水平镀装置结构紧凑，阳极、阴极部件防护性好，镀液溢出量小，维护成本低。
一种实验水平装置

[实用新型]一种蒸镀装置-CN201420222130.5有效
发明人：马利飞;张鹏 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2014-04-30 - 公布日： 2014-09-03 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本实用新型实施例提供了一种蒸镀装置，涉及显示技术领域的制造设备，可使金属掩模板与待蒸镀基板紧密贴合，从而在子像素单元蒸镀时形成正确的图案，在此基础上，可使作用于金属掩膜板的磁场均匀，避免由于磁场不均而对上述图案造成影响该蒸镀装置包括：蒸镀腔室、设置于蒸镀腔室内的蒸镀源、掩模板支撑架和基板支撑架，掩模板支撑架用于承载金属掩模板，基板支撑架用于承载待蒸镀基板，且金属掩模板设置于蒸镀源和待蒸镀基板之间；还包括：设置于蒸镀腔室内的吸附装置，包括：设置于待蒸镀基板远离金属掩模板一侧的多个呈矩阵排列的磁块，和用于调节每个磁块上下移动的牵引装置。用于OLED显示器制造过程中的蒸镀工艺。
一种装置

[实用新型]一种新型真空蒸镀机-CN202023304257.6有效
发明人：薛蒙晓 -专利权人：苏州佑伦真空设备科技有限公司
申请日： 2020-12-31 - 公布日： 2021-09-10 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本申请提出一种新型真空蒸镀机，包括：蒸镀机本体、加热灯结构、镀锅结构、水冷隔热机构、坩埚、离子源、控制机构、和驱动机构，所述蒸镀机本体内部分为蒸镀腔体和控制件腔体，加热灯结构、镀锅结构、水冷隔热机构、坩埚、离子源和驱动机构均设置于蒸镀腔体内，控制机构设置于控制件腔体内，所述驱动机构包括马达和抽真空泵组，蒸镀腔体的一侧面设有主阀腔，主阀腔的下部设有与主阀腔通过真空管连通的抽真空泵组，抽真空泵组位于蒸镀机本体外部的支架上，蒸镀腔体为中空的圆柱体或者为中空的椭圆柱体，镀锅结构的伞架有3个，设置在蒸镀腔体的腔体侧面内壁上的防着板，能够与蒸镀腔体的腔体侧面内壁挂住固定及拆卸。
一种新型真空蒸镀机

[发明专利]蒸镀装置及蒸镀方法-CN201310225232.2无效
发明人：李嘉宸;黄添旺 -专利权人：上海和辉光电有限公司
申请日： 2013-06-06 - 公布日： 2014-12-24 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本公开提出一种蒸镀装置及蒸镀方法，所述蒸镀装置包括：主腔室，用于容置所述蒸发源和所述基板；及第一扩展腔室和第二扩展腔室，能够与所述主腔室分别相互连通和相互隔离，其中，所述第一扩展腔室包括第一金属遮罩，所述第二扩展腔室包括第二金属遮罩，在蒸镀中，所述第一金属遮罩或所述第二金属遮罩交替伸入所述主腔室中并位于所述基板和所述蒸发源之间以遮罩所述基板。本公开的第一金属遮罩和第二金属遮罩在蒸镀作业时能够交替使用，因此能够提高作业效率。
装置方法

[发明专利]利用面蒸发源的高分辨率AMOLED元件的量产设备-CN201880001041.9在审
发明人：黄昌勋;金圣洙 -专利权人：株式会社OLEDON
申请日： 2018-04-02 - 公布日： 2018-12-21 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：本发明涉及一种利用面蒸发源的高分辨率AMOLED薄膜的量产设备，其特征在于：包括基板装载腔(40)、双重面源蒸镀腔(42)、面源倒置腔(43)、双重面蒸发源蒸镀腔(44)、面源冷却腔(45)、基板保存腔(46)、遮罩保存腔(47)及基板卸载腔(41)，还包括具备与上述各腔连接的机器人腔(30)的八角模块(110)，连续在基板上蒸镀细微图案薄膜。通过使用本发明的利用面蒸发源的高分辨率AMOLED元件的量产设备，具有在基板上蒸镀细微图案时，防止因有机物气体的扩散现象导致的细微图案蒸镀的困难，通过基板和遮罩之间的细微空间大幅减少阴影现象，可连续进行蒸镀工艺
蒸发源基板蒸镀高分辨率细微图案量产面源保存腔蒸镀腔遮罩薄膜基板装载腔有机物气体基板卸载使用效率阴影现象制造成本制造工艺倒置高真空冷却腔生产性有机物八角机器人闲置扩散