“电浆制程”专利关键词查询_检索下载_查询列表_检索列表_行业专利分布_钻瓜专利网_专利查询网

首页在售求购查询申请展会资讯专利榜企服商城升级VIP

立即登录免费注册

在售专利
求购专利
查询专利
新闻资讯
技术展会
招商加盟
专利榜

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

专利名称

专利名称
专利号码
专利分类
申请人
公布日期

农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

专利下载VIP

公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

钻瓜专利网为您找到相关结果1711484个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[实用新型]具有升降式冷却缓冲的线性电浆制程机构-CN202320761294.4有效
发明人：李原吉;刘品均;杨峻杰;林忠炫;赖青华;林岱蔚;纪宏鹏;卢志铭;杨正暐 -专利权人：友威科技股份有限公司
申请日： 2023-04-07 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本申请为一种具有升降式冷却缓冲的线性电浆制程机构，线性电浆制程机构包括：一传输模组、一镀膜腔体及一缓冲腔体。
具有升降冷却缓冲线性电浆制程机构

[发明专利]提高驱动芯片可靠度的电浆源表面处理装置及方法-CN202010217474.7在审
发明人：许原诚;时庆楠;李雨;周德榕 -专利权人：江苏汇成光电有限公司
申请日： 2020-03-25 - 公布日： 2020-07-03 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明公开了半导体集成电路领域内的一种提高驱动芯片可靠度的电浆源表面处理装置及方法，装置包括电浆机，电浆机内设置有反应室，反应室处于两个相互对应设置的电极之间，两个电极之间通过电源适配器与射频电源施加有电压，所述反应室内竖直设置有至少两根转轴，所述转轴上沿轴向间隔设置有若干圆形转盘，转盘与转轴相垂直，转盘表面设置有若干晶圆载台，所述反应室分别与抽真空组件、制程气体输送组件相连接，与所述电浆机的门体相对应地设置有晶圆上下料机构；方法包括将晶圆放入反应室进行氮气电浆处理。
提高驱动芯片可靠电浆源表面处理装置方法

[实用新型]提高驱动芯片可靠度的电浆源表面处理装置-CN202020394875.5有效
发明人：许原诚;时庆楠;李雨;周德榕 -专利权人：江苏汇成光电有限公司
申请日： 2020-03-25 - 公布日： 2020-11-03 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型公开了半导体集成电路领域内的一种提高驱动芯片可靠度的电浆源表面处理装置及方法，装置包括电浆机，电浆机内设置有反应室，反应室处于两个相互对应设置的电极之间，两个电极之间通过电源适配器与射频电源施加有电压，所述反应室内竖直设置有至少两根转轴，所述转轴上沿轴向间隔设置有若干圆形转盘，转盘与转轴相垂直，转盘表面设置有若干晶圆载台，所述反应室分别与抽真空组件、制程气体输送组件相连接，与所述电浆机的门体相对应地设置有晶圆上下料机构；方法包括将晶圆放入反应室进行氮气电浆处理。
提高驱动芯片可靠电浆源表面处理装置

[发明专利]薄膜沉积系统及其方法-CN202210157927.0在审
发明人：郑有翔;吴哲玮 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2022-02-21 - 公布日： 2022-07-29 - 主分类号： C23C16/505 文献下载
摘要：一种薄膜沉积系统及其方法，薄膜沉积系统包含定位于晶圆之上且用以在薄膜沉积制程期间产生电浆的顶板。薄膜沉积系统包含感测器，感测器用以产生指示薄膜沉积系统的组件的寿命、由薄膜沉积系统沉积的薄膜的特性或流入薄膜沉积系统中的制程材料的特性的感测器信号。薄膜沉积系统包含控制系统，控制系统用以回应于感测器信号在薄膜沉积制程期间调整薄膜沉积系统顶板相对于薄膜沉积系统中晶圆位置的相对位置。
薄膜沉积系统及其方法

[发明专利]磊晶基材及其制造方法-CN201110131460.4有效
发明人：钱俊逸;叶哲良;徐文庆;何思桦 -专利权人：昆山中辰矽晶有限公司
申请日： 2011-05-20 - 公布日： 2012-11-21 - 主分类号： H01L33/22 文献下载
摘要：本发明的磊晶基材的磊晶表面为纳米尺度高低不平且非图案化的表面，具有协助化合物半导体材料横向磊晶的功效，以成长具良好质量的磊晶层，且该纳米尺度高低不平且非图案化的磊晶表面是经过沉积多晶材料层、第一湿式蚀刻制程、电浆蚀刻制程以及第二湿式蚀刻制程制得，具有制造成本低、生产快速的优点。
基材及其制造方法

[发明专利]晶圆上的校正符号的清洁方法以及化学机械研磨制程后续再清洁制程的方法-CN02146352.2无效
发明人：陈志容 -专利权人：矽统科技股份有限公司
申请日： 2002-10-24 - 公布日： 2004-04-28 - 主分类号： H01L21/306 文献下载
摘要：本发明揭示一种晶圆上的校正符号的清洁方法以及化学机械研磨制程后续再清洁制程的方法，包括将晶圆与一强酸试液或氧电浆接触，移除晶圆上的附着物质。上述的晶圆主要是指经过化学机械研磨处理后残留有机物质附着于校正符号的芯片，能够使得校正符号的位置更清楚且容易判断，使后续制程的对准不致发生错误，有效解决有机残留物覆盖住校正符号的问题，并降低黄光再加工的频率
晶圆上校正符号清洁方法以及化学机械研磨后续

[发明专利]在彩色滤光片上提高喷墨打印产出量率的制程方法及其装置-CN200710088811.1无效
发明人：赖中平 -专利权人：赖中平
申请日： 2007-03-28 - 公布日： 2008-10-01 - 主分类号： H05H1/24 文献下载
摘要：本发明公开一种薄层大气压电浆装置及一种在彩色滤光片上提高喷墨打印产出量率的制程方法，这个电浆装置将改变黑色矩阵(blackmatrix)的表面物理性质，与固体屏蔽(solid mask)一起在喷墨打印生产过程中使用
彩色滤光提高喷墨打印产出方法及其装置

[发明专利]一种半导体废气处理系统-CN202111049605.6在审
发明人：寇崇善 -专利权人：日扬科技股份有限公司;明远精密科技股份有限公司
申请日： 2021-09-08 - 公布日： 2023-03-10 - 主分类号： B01D53/78 文献下载
摘要：本发明提供一种半导体废气处理系统是由真空抽气装置、电浆处理装置及射流式微气泡湿式洗涤装置组成。真空抽气装置采用增压泵及干式泵的两段式组合。电浆处理装置安装在两泵之间进行低气压电浆处理，可在低耗能下完成高效率的气体解离反应，同时克服生成物可能回流污染制程系统的困难。最后采用射流式微气泡湿式洗涤装置，可有效处理电浆解离后的反应生成气体及微粒，更可于真空抽气装置输出端产生粗真空，提升排气效率，并大幅降低微粒阻塞的问题。
一种半导体废气处理系统

[实用新型]一种半导体废气处理系统-CN202122164447.0有效
发明人：寇崇善 -专利权人：日扬科技股份有限公司;明远精密科技股份有限公司
申请日： 2021-09-08 - 公布日： 2022-06-28 - 主分类号： B01D53/78 文献下载
摘要：本实用新型提供一种半导体废气处理系统是由真空抽气装置、电浆处理装置及射流式微气泡湿式洗涤装置组成。真空抽气装置采用增压泵及干式泵的两段式组合。电浆处理装置安装在两泵之间进行低气压电浆处理，可在低耗能下完成高效率的气体解离反应，同时克服生成物可能回流污染制程系统的困难。最后采用射流式微气泡湿式洗涤装置，可有效处理电浆解离后的反应生成气体及微粒，更可于真空抽气装置输出端产生粗真空，提升排气效率，并大幅降低微粒阻塞的问题。
一种半导体废气处理系统

[实用新型]电浆激发装置-CN201320357058.2有效
发明人：陈庆安;张宏隆;胡肇汇 -专利权人：志圣工业股份有限公司
申请日： 2013-06-20 - 公布日： 2014-01-15 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种电浆激发装置，适于通一射频后对一真空的反应腔体提供均匀的磁场，所述电浆激发装置包括多个线圈单元，所述的多个线圈单元沿一轴线间隔排列于所述反应腔体的一侧面，每一线圈单元包括一沿所述轴线的方向延伸并环绕的螺线圈本实用新型的电浆激发装置能够提供均匀时变的交流磁场，从而提高制程的良率。
激发装置

[发明专利]一种干法刻蚀机及其使用方法-CN202110328670.6有效
发明人：邵帅 -专利权人：江苏粤通泰科技有限公司
申请日： 2021-03-26 - 公布日： 2022-12-16 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：制程气体装置产生的气体通过输送管被输送至电浆隔离板多个内腔内，两个电浆隔离板相对面出气，使得两个电浆隔离板之间的气体形成电浆团，这样能够增加失电子的数量，进而增加了刻蚀的质量和效率。
一种刻蚀及其使用方法

[发明专利]一种光伏玻璃镀膜制程腔气体导入装置-CN201110455950.X无效
发明人：周文彬;刘幼海;刘吉人 -专利权人：吉富新能源科技(上海)有限公司
申请日： 2011-12-31 - 公布日： 2013-07-03 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明系提供一种光伏玻璃镀膜制程腔气体导入装置，主要包含：一反应制程腔体、一气体导引管路、一导引管路框架所组成，通过外接入之气体透过气体导引管所设置的气体导入接头进入，气体导引管路上设有依照气体导入管路长度分布平均的小孔作为气体喷出口，形成一侧边向下喷出的动作，导引管路框架支撑气体导引管路，使其能水平置放于导引管路框架上，使得制成气体能有效集中于反应区，完成一种光伏玻璃镀膜制程腔气体导入装置，藉此，可达到有效均匀分布气体于镀膜制程腔内部，完成均匀分布之电浆粒子内。
一种玻璃镀膜制程腔气体导入装置

[发明专利]具有含电镀钇涂层的制程腔室构件-CN200510064542.6无效
发明人：韩年慈;许里;施宏;张扬;卢丹尼;珍妮佛·Y·桑 -专利权人：应用材料有限公司
申请日： 2005-04-13 - 公布日： 2005-11-02 - 主分类号： C25D5/10 文献下载
摘要：本发明是有关于一种具有含电镀钇涂层的制程腔室构件，此构件可暴露于制程腔室的电浆中，此构件具有一结构111，此结构具有一电镀403涂层117，此电镀涂层117包括含钇物种。此电镀403涂层117可抗电浆腐蚀，且涂层117中的含钇物种随着涂层117厚度具有一组成梯度。
具有电镀涂层制程腔室构件

[实用新型]具有冷却缓冲腔的线性电浆制程机构-CN202320759905.1有效
发明人：李原吉;刘品均;杨峻杰;林忠炫;赖青华;林岱蔚;纪宏鹏;卢志铭;杨正暐 -专利权人：友威科技股份有限公司
申请日： 2023-04-07 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本申请为一种具有冷却缓冲腔的线性电浆制程机构，线性电浆制程机构包括一输送单元、一镀膜腔体及一缓冲腔体。
具有冷却缓冲线性电浆制程机构

[发明专利]使用原位修整制程的化学机械平面化制程控制-CN200580003054.2有效
发明人：斯蒂文·J·贝纳;李玉琢 -专利权人： TBW工业有限公司
申请日： 2005-01-25 - 公布日： 2007-02-07 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：一种用于提供CMP系统中的制程控制的系统和方法，其使用用于修整晶片研磨垫的真空辅助设备，从而来自修整制程的流出物(即晶片碎屑、研磨浆、化学或其它副产物)从废流中转移开，而引入分析模块，进行进一步的处理。所述分析模块用于确定所述流出物内的至少一个参数，且基于分析来产生制程控制信号。所述制程控制信号然后反馈到平面化制程，以允许多种参数例如研磨浆的成分、温度、流速等的控制。所述控制信号还可用于控制制程和/或确定所述平面化制程自身的终点。
使用原位修整化学机械平面化程控

友情链接：交换友情链接需要网站权重大于4，网站收录10W以上，如符合条件，请联系QQ：76009968。

关于我们寻求报道投稿须知广告合作版权声明网站地图友情链接企业标识联系我们

在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

版权所有钻瓜科技（天津）有限公司津ICP备15000985号津公网安备 12019202000206号http://www.vipzhuanli.com/公布日期

咨询在线客服

咨询在线客服

tel code back_top