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[实用新型]一种电子束蒸镀用坩埚及电子束蒸镀装置-CN202220346262.3有效
发明人：何秉轩 -专利权人：隆基绿能科技股份有限公司
申请日： 2022-02-21 - 公布日： 2022-10-04 - 主分类号： C23C14/30 文献下载
摘要：本实用新型公开一种电子束蒸镀用坩埚及电子束蒸镀装置，涉及物理气相沉积技术领域，以解决现有技术中电子束蒸镀装置的能量利用率较低的问题。电子束蒸镀用坩埚包括：用于容纳待沉积的蒸发料的坩埚本体和包覆设置于坩埚本体的外侧的导电保温托，导电保温托用于保温坩埚本体。电子束蒸镀装置包括上述技术方案所提的电子束蒸镀用坩埚。本实用新型提供的电子束蒸镀用坩埚及电子束蒸镀装置用于提高电子束蒸镀装置对能量的利用率。
一种电子束蒸镀用坩埚装置

[发明专利]自体离子轰击辅助电子束蒸镀装置及利用其镀膜的方法-CN201110418126.7无效
发明人：王浪平;王小峰;陆洋;姜巍 -专利权人：哈尔滨工业大学
申请日： 2011-12-14 - 公布日： 2012-06-13 - 主分类号： C23C14/30 文献下载
摘要：自体离子轰击辅助电子束蒸镀装置及利用其镀膜的方法，它涉及电子束蒸镀的装置及方法。本发明是要解决现有的电子束蒸镀方法的膜层与基体之间的结合力低，离子束辅助电子束蒸镀的方法成膜速度慢的技术问题。自体离子轰击辅助电子束蒸镀装置由电子束蒸镀装置和射频辉光放电系统和真空系统组成；其中射频辉光放电系统由射频放电电极和射频电源组成。镀膜方法：将基体放在样品架上，成膜物质放置于坩埚中，抽真空后，启动烘烤装置加热基体，启动电子束蒸发源产生电子束，加热坩埚内物质，形成蒸汽，启动射频电源2和射频放电电极，同时对样品架加电压，镀膜后，得到膜层
离子轰击辅助电子束装置利用镀膜方法

[发明专利]提升电子束蒸镀薄膜元件的光谱和应力时效稳定性的镀膜方法-CN202010239590.9有效
发明人：邵建达;曾婷婷;朱美萍;李静平;宋晨;赵娇玲;郭猛;胡国行 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2020-03-30 - 公布日： 2021-03-30 - 主分类号： C23C14/30 文献下载
摘要：采用常规电子束蒸镀和等离子体辅助沉积相结合的技术，提出一种提升电子束蒸镀薄膜元件光谱和应力时效稳定性的镀膜技术。利用常规电子束蒸镀技术制备功能性薄膜，以获得较高的抗激光损伤阈值；利用等离子体辅助沉积技术制备致密的外层包裹层，将整个常规电子束蒸镀薄膜包裹其中，以阻止水分子进出膜系。本发明能够在不增加膜系设计难度且维持电子束薄膜较高损伤阈值的同时，降低整个膜系的应力水平并提升电子束蒸镀薄膜元件的光谱和应力时效稳定性。
提升电子束薄膜元件光谱应力时效稳定性镀膜方法

[发明专利]e形多电子束蒸镀装置及电子枪电路-CN201911379047.2有效
发明人：鲁朝宇;邓荣斌;马兴民;张丽娟;段尧;方江璨 -专利权人：云南北方奥雷德光电科技股份有限公司
申请日： 2019-12-27 - 公布日： 2022-05-06 - 主分类号： C23C14/30 文献下载
摘要：本发明提供一种e形多电子束蒸镀装置，该蒸镀设备包括永久磁铁N极、S极、X/Y扫描线圈、坩埚、冷却水及电子束发射器；采用磁偏转式电子束，使得电子束路径呈现e字型，偏转角为270度，其中电子束发射器的由灯丝阴极从多电子束与旋转坩埚两方面应对电子枪故障问题。e形多电子束蒸镀设计大幅度提高了蒸镀效率和熔点，此外，为了提高蒸镀过程薄膜沉积速率精度和稳定性，本发明专利从热电子发射模块、高压电子加速模块和电子束偏转模块三个方面设计了新的电子枪电路。
电子束装置电子枪电路

[发明专利]真空处理装置-CN201180010394.3有效
发明人：饭岛荣一;池田裕人;矶佳树 -专利权人：株式会社爱发科
申请日： 2011-02-16 - 公布日： 2012-10-31 - 主分类号： C23C14/30 文献下载
摘要：本发明提供一种在高真空领域中也能够抑制电子束发散、防止蒸发率降低且稳定地成膜的真空处理装置。真空处理装置(蒸镀装置)(1)具有真空蒸镀室(50)、电子枪(20)和电子束聚集机构(150)。所述真空蒸镀室(50)中，设置有容纳蒸发材料(31)的蒸发源以及该蒸发材料(31)被加热并作为蒸镀膜被蒸镀的被处理部件(10)。所述电子枪与所述真空蒸镀室邻接设置，并发射对所述蒸发材料(31)加热的电子束。所述电子束聚集机构(150)设置于所述真空蒸镀室(50)内，对从电子枪(50)射出的所述电子束进行聚集。
真空处理装置

[发明专利]真空处理装置-CN200780033836.X无效
发明人：饭岛荣一;增田行男;矶佳树;箱守宗人 -专利权人：株式会社爱发科
申请日： 2007-09-11 - 公布日： 2009-10-21 - 主分类号： C23C14/30 文献下载
摘要：本发明提供一种真空处理装置，使用应用了皮尔斯式电子枪的真空蒸镀装置在被处理基板上形成蒸镀涂层时，使电子束向收容于真空槽内的蒸发源中的蒸镀材料的蒸发点诱导，使在上述蒸发点的电子束的照射范围最适化，可以以更快的成膜速度形成优良的蒸镀涂层作为使皮尔斯式电子枪的电子束向收容在真空槽内的蒸发源中的蒸镀材料的蒸发点偏向并诱导的装置，将形成相对于上述电子束的入射方向大致垂直且相对于上述蒸发源的电子束照射面大致平行的磁场的磁铁装置设在上述电子束照射面的背侧的真空槽外其结果是，与将电子束偏向装置置于真空槽内的现有的装置相比，真空槽内变得简单。不会产生机械及磁性的干扰，可以将电子束的照射范围最适化。
真空处理装置

[发明专利]眼镜镜片的制造方法-CN202180075414.9在审
发明人：野村琢美;植田恭辅 -专利权人：豪雅镜片泰国有限公司
申请日： 2021-11-09 - 公布日： 2023-07-14 - 主分类号： G02C7/02 文献下载
摘要：本发明提供一种眼镜镜片的制造方法，所述眼镜镜片具有含金属层，所述眼镜镜片的制造方法包括以下工序：通过电子束蒸镀形成所述含金属层，所述电子束蒸镀包括向在载体载持有金属颗粒的蒸镀源照射电子束的步骤。
眼镜镜片制造方法

[实用新型]电子束蒸镀装置-CN201420405903.3有效
发明人：清水祐辅;山成淳一 -专利权人：日立造船株式会社
申请日： 2014-07-22 - 公布日： 2014-12-10 - 主分类号： C23C14/30 文献下载
摘要：本实用新型提供电子束蒸镀装置，能抑制因电子束蒸镀产生的二次电子和反射电子入射到基板及进行电子屏蔽的磁体本身成为屏蔽物而妨碍蒸镀这两者。使蒸镀材料的收容容器(坩埚(2))位于进行蒸镀的基板(1)的下方，在比收容容器的中心靠向基板(1)中心方向的上方空间，夹着收容容器的中心且隔开规定的间隔，将一对磁体(4(4A、4B))各自的基板中心侧端部配置成比另一个端部向下方倾斜在与电子束蒸镀的同时向先形成在基板上的有机薄膜上照射电子束蒸镀时产生的反射电子和二次电子的情况下，能抑制有机器件的特性下降，能得到与用电阻加热式金属蒸镀制作的有机器件同等的特性。此外，所述机构本身不会成为蒸镀的屏蔽物，能在基板整个区域进行蒸镀。
电子束装置

[实用新型]用于电子束蒸镀的容纳装置、蒸镀源及真空镀膜系统-CN202320012811.8有效
发明人：谢斌平;陈飞;郭维 -专利权人：费勉仪器科技（上海）有限公司
申请日： 2023-01-04 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： C23C14/30 文献下载
摘要：本公开提供了一种用于电子束蒸镀的容纳装置，包括：真空腔体，真空腔体包括：容纳段，用于与电子束蒸镀装置真空密封连接并且容纳电子束蒸镀装置的至少一部分；以及输出段，与容纳段连通，用于输出源材料的束流；以及冷却装置
用于电子束容纳装置蒸镀源真空镀膜系统

[发明专利]真空镀膜工艺-CN201510878685.4在审
发明人：翟文喜 -专利权人：东莞市金世尊电子科技有限公司
申请日： 2015-12-04 - 公布日： 2016-04-06 - 主分类号： C23C14/10 文献下载
摘要：本发明公开一种真空镀膜工艺，包括产品的清洗、分别采用电子束蒸镀、溅射镀或热气流蒸镀的方式在清洗后的产品表面形成SiO2膜层、采用电子束蒸镀、溅射镀或热气流蒸镀的方式在清洗后的产品表面形成防污膜层以及成品的包装等步骤，通过在产品为表面设置一层SiO2膜层以及一层防污膜层，镀膜的方式包括电子束蒸镀方式、溅射镀方式以及热气流蒸镀方式，从而达到了油水物质均不会直接接触到产品表面，从而使得产品表面不会发生腐蚀或者划伤的可能
真空镀膜工艺

[其他]电子枪装置-CN201290000132.9有效
发明人：盐野一郎;佐藤望;林达也;中村拓也 -专利权人：株式会社新柯隆
申请日： 2012-04-09 - 公布日： 2014-01-01 - 主分类号： C23C14/30 文献下载
摘要：提供一种电子枪装置，在适于装置运转的位置具备极片，该极片在坩埚的上方位置朝着坩埚沿水平方向延伸。电子枪装置（1）具备：坩埚（3），其收容蒸镀材料；电子束射出机构（7），其射出电子束（EB），以使坩埚（3）内的蒸镀材料加热蒸发；壳体（10），其在内部收容电子束射出机构（7）；第1极片（11）以及第2极片（12），其在固定于壳体（10）的状态下使电子束（EB）朝着坩埚（3）内的蒸镀材料偏转；以及第3极片（13），其为了调整电子束（EB）对坩埚（3）内的蒸镀材料的照射位置，使向壳体（10）外射出的电子束
电子枪装置

[发明专利]低缺陷光学薄膜制备方法及其制品-CN201910370632.X有效
发明人：蒲云体;马平;彭东旭;邱服民;乔曌;卢忠文;吕亮;张明骁 -专利权人：成都精密光学工程研究中心
申请日： 2019-05-06 - 公布日： 2021-07-06 - 主分类号： C23C14/46 文献下载
摘要：薄膜制备方法包括：热处理过程、采用离子束溅射方式镀制第一膜层的过程、采用离子束辅助电子束蒸镀方式镀制第二膜层的过程、薄膜表面平坦化处理的过程，采用电子束蒸镀方式镀涂第三膜层和第四膜层的过程，采用离子束溅射方式镀制保护膜层的过程本发明还公开了一种利用镀膜装置制备薄膜的方法，镀膜装置为顺序连接的多真空腔室，各腔室分别对元件热处理，采用离子束溅射方式镀制第一膜层和保护层，采用电子束蒸镀方式镀制第二膜层、第三膜层和第三膜层，平坦化处理本发明结合离子束溅射和电子束蒸镀的方式，设计出了可制备强附着力、高激光损伤阈值、低应力、抗激光损伤性能好的薄膜的方法。
缺陷光学薄膜制备方法及其制品

[实用新型]用于电子束蒸镀的锅盘-CN201921686788.0有效
发明人：叶小兵;孔德兴 -专利权人：张家港志辰光学技术有限公司
申请日： 2019-10-10 - 公布日： 2020-06-16 - 主分类号： C23C14/30 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于电子束蒸镀的锅盘，其包括盘底和侧壁部，侧壁部呈截头的倒锥状，也即侧壁部的上边缘的外径大于下边缘的外径，侧壁部从上到下逐渐向靠近用于电子束蒸镀的锅盘的纵向中轴线方向倾斜，在侧壁部的外侧面上设置有多个朝向用于电子束蒸镀的锅盘的纵向中轴线凹陷的落料槽本实用新型的锅盘还包括与侧壁部的上边缘连接的物料遮挡部，物料遮挡部包括从下到上向靠近用于电子束蒸镀的锅盘的纵向中轴线倾斜设置的物料遮挡坡面。利用本实用新型的锅盘进行电子束蒸镀时可有效减少从锅盘中掉落的膜料量并可避免膜料卡在锅盘与EBG中间而影响锅盘转动，因而确保了更佳的蒸镀镀膜效果。
用于电子束

[发明专利]一种铟铝共掺硫化锌薄膜及其制备方法-CN201911214221.8在审
发明人：李文剑;陈伟新;赖文彬 -专利权人：福建省电子信息应用技术研究院有限公司
申请日： 2019-12-02 - 公布日： 2020-02-04 - 主分类号： C23C14/30 文献下载
摘要：本发明涉及一种铟铝共掺硫化锌薄膜的及其制备方法，所述制备方法以下步骤：基片清洗：通过超声波反复震荡清洗玻璃基片，然后烘干玻璃基片；本征ZnS材料第一次蒸镀：在真空环境中，通过电子束在玻璃基片上蒸镀ZnS材料，形成第一层薄膜；铟铝掺杂：当形成第一层薄膜后，首先在第一层薄膜上真空蒸镀单质In，蒸镀单质In后，再次通过电子束蒸镀ZnS材料，形成第二层薄膜；在第二层薄膜上真空蒸镀Al单质；本征ZnS材料第三次蒸镀：蒸镀Al单质后，再次通过电子束蒸镀ZnS材料，形成第三层薄膜，得到掺杂硫化锌薄膜；快速退火：通过在氩气对得到的掺杂硫化锌薄膜进行退火。通过真空电子束蒸发制备的铟铝掺杂硫化锌薄膜，成份易控制，成本低，产品性能优良。
薄膜蒸镀硫化锌薄膜单质玻璃基片掺杂第一层铟铝制备电子束蒸镀真空蒸镀本征电子束退火真空电子束氩气产品性能基片清洗快速退火真空环境震荡清洗超声波第三层烘干共掺蒸发

[发明专利]一种铝合金电子束真空蒸镀复合表面强化的方法-CN202111523178.0在审
发明人：魏德强;贤锐华;李新凯 -专利权人：桂林电子科技大学
申请日： 2021-12-14 - 公布日： 2023-06-16 - 主分类号： C23C14/16 文献下载
摘要：本发明公开一种铝合金电子束真空蒸镀复合表面强化的方法，具体方法包括以下步骤：步骤1：前处理，对铝合金试块工件表面进行铣削、打磨，然后用清洗剂对加工后的工件和蒸镀靶材进行清洗。步骤2：电子束真空蒸镀处理，用电子束流对蒸镀靶材进行加热使其蒸发。步骤3：电子束处理，用电子束流对铝合金镀层表面连续处理。步骤4：组织和性能测试，用扫描电子显微镜观察内部组织，通过电化学工作站检测其耐腐蚀性，显微硬度计测量硬度。
一种铝合金电子束真空复合表面强化方法

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