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[发明专利]一种太空紫外环境下航天材料与组件性能评估装置与方法-CN202310927569.1在审
发明人：沈自才;王胭脂;王志皓;李大伟;贺洪波;陆叶盛;陈宇;冯宇康;柳畅;邵建达 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2023-07-26 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G01N17/00 文献下载
摘要：一种太空紫外环境下航天材料与组件性能评估装置与方法，本发明可以准确评价太空紫外辐射对航天器敏感材料、元件或组件的抗激光损伤能力的影响及其抗激光损伤机制。对空间激光作用下的航天器外露材料及元件的研制、选用和评价提供了支持。
一种太空紫外环境航天材料组件性能评估装置方法

[发明专利]一种真空污染环境下航天器元件性能评价装置与方法-CN202310927579.5在审
发明人：沈自才;王胭脂;王志皓;李大伟;贺洪波;陆叶盛;陈宇;冯宇康;柳畅;邵建达 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2023-07-26 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： G01N17/00 文献下载
摘要：本发明属于航天器空间环境效应试验技术领域，具体涉及一种真空污染环境下航天器元件性能评价装置与方法。针对太空中真空环境引起的航天器材料尤其是有机材料的出气产物在航天器敏感材料或元件尤其是激光光学元件上沉积，这些产物作为污染源将对航天器敏感材料或激光元件的抗激光损伤能力的影响，该方法提出了真空污染环境下航天器元件性能评价装置，给出了开展太空服役状态下真空污染环境影响航天器抗激光损伤能力的方法。利用该方法，可以准确评价航天器敏感材料受真空污染作用后的抗激光损伤能力，对空间激光作用下的航天器材料及元件的研制、选用和评价提供了支持。
一种真空污染环境航天器元件性能评价装置方法

[发明专利]磷酸盐激光钕玻璃存储寿命预估及评定方法-CN202310841492.6在审
发明人：陈军;徐学科;顿爱欢;张建国;周天;邵建达 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2023-07-10 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： G11C29/10 文献下载
摘要：磷酸盐激光钕玻璃元件存储寿命预估及评定方法，包括：待存储磷酸盐激光钕玻璃元件的取样并测试；确定影响磷酸盐激光钕玻璃元件存储寿命的加速模型；开展磷酸盐激光钕玻璃元件存储寿命的环境参数加速实验；环境参数加速实验后元件性能测试；磷酸盐激光钕玻璃元件存储寿命的评定。本发明中存储寿命预估及评定方法在寿命影响条件下对磷酸盐激光钕玻璃元件进行环境加速，可以便捷有效评估现有存储条件下磷酸盐激光钕玻璃元件的存储寿命，缩短试验时间，降低试验成本，同时为未来新存储条件下的寿命预估提供技术支撑。
磷酸盐激光玻璃存储寿命预估评定方法

[发明专利]一种基于结构介电常数近零薄膜的可饱和吸收体器件、制备方法及应用-CN202310939899.2在审
发明人：王梦霞;蒋行;赵元安;马浩;邵建达 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2023-07-28 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： H01S3/1118 文献下载
摘要：一种基于结构介电常数近零薄膜的可饱和吸收体、制备方法及脉冲激光器方面的应用，属于激光技术及非线性光学技术领域。所述可饱和吸收体器件包括衬底、微结构阵列层和沉积在所述微结构陈列层上的结构ENZ薄膜。将结构ENZ可饱和吸收体放置在连续或长脉冲运转的激光谐振腔内，可以实现短脉冲激光输出。本发明提供的结构ENZ可饱和吸收体，具有在0°激光辐照下依然可以产生强的饱和吸收特性，可有效利用ENZ材料的ENZ效应引起的强的非线性光学性能；具有较高的损伤阈值，能够用于高功率激光器的研制；成本低，可大面积制备，便于集成，有利于产业化生产。本发明还提供了一种基于结构ENZ薄膜的可饱和吸收体的制备方法和应用。
一种基于结构介电常数薄膜饱和吸收体器件制备方法应用

[发明专利]中心注液式光学抛光头-CN202210388316.7在审
发明人：侯瑞;邵建达;嵇文超;顿爱欢;吴伦哲;杨扬;刘斌;吴令奇;徐学科 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2022-04-11 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： B24B13/00 文献下载
摘要：一种中心注液式光学抛光头，包括装置支架、驱动轴、涨紧轴和抛光轴。装置支架由高强度铝合金板拼接。驱动轴包括：驱动电机、联轴器套、联轴器、第一轴承(1对)、轴套、转轴、第一锁紧环和第一同步带轮。涨紧轴包括锁紧螺母、涨紧杆、反力块和涨紧轮。所述的抛光轴包括接头固定架、回转接头、第二轴承(1对)、抛光轴套、轴承压紧板、第二锁紧环、第二同步带轮、抛光盘、抛光海绵、抛光杆、胀套、夹头螺帽、内部液管和内部喷头。本发明适用于先进的光学镜片全自动抛光和修形，具有抛光液内部中心注液、出液均匀、定量可控的特点，在保证抛光质量的前提下，有效控制成本，配合工业机器人可实现全自动高速稳定抛光和修形。
中心注液式光学抛光

[实用新型]组合式家电的框架及组合式家电-CN202320992372.1有效
发明人：方姝豪;邵建达;蒋邑翔;鲍相桥;钟泽舢 -专利权人：松下家电(中国)有限公司;杭州松下家用电器有限公司
申请日： 2023-04-27 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： D06F39/12 文献下载
摘要：本实用新型公开了组合式家电的框架及组合式家电，属于家用电器领域，解决了框架通用性、稳定性不高的问题，本实用新型的组合式家电的框架及组合式家电，包括：底座；设于所述底座上方的第一横梁组件；多个下竖梁，支撑于所述底座与第一横梁组件之间，形成用于容纳第一家电的第一容置空间，且所述多个下竖梁向上伸出所述第一横梁组件；多个上竖梁，分别与所述多个下竖梁上伸出第一横梁组件的部分可拆式连接，形成用于容纳第二家电的第二容置空间。
组合式家电框架

[发明专利]一种去除光学薄膜节瘤缺陷表面球冠状凸起的抛光方法-CN202210329698.6在审
发明人：朱美萍;刘天宝;杜文云;李静平;邵建达 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2022-03-28 - 公布日： 2023-10-10 - 主分类号： C23C14/58 文献下载
摘要：本发明涉及光学薄膜领域，主要针对降低光学薄膜损伤阈值的节瘤缺陷，具体涉及一种基于去除节瘤缺陷表面球冠状凸起提高薄膜激光损伤阈值的方法。本发明提供的方法包括：使用粗糙度小于薄膜元件的光滑表面作为抛光面；利用润湿性良好的液体在抛光面和薄膜表面间形成液膜，液膜产生的毛细力作为作用在薄膜表面的正压力；膜面的节瘤凸起在抛光面和膜面的相对滑动过程中由摩擦力去除。本发明利用光滑表面和润湿性良好的液体去除薄膜表面的节瘤凸起，降低了节瘤缺陷引起的电场增强，在不影响薄膜光谱性能的前提下提升了薄膜元件的激光损伤阈值。与现有的提高光学薄膜激光损伤阈值的方法相比，本发明具有操作简单、成本低和适用范围广等特点。
一种去除光学薄膜缺陷表面冠状凸起抛光方法

[发明专利]基于微腔激光的PUF器件-CN202110966993.8有效
发明人：邵宇川;王虎;董红星;高新宇;郑毅帆;邵建达;张龙 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2021-08-23 - 公布日： 2023-10-10 - 主分类号： G01N23/2252 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于微腔激光的光学PUF，包括衬底以及生长于衬底表面密度、位置、尺寸、形貌、接触数目随机变化的半导体微球。本发明利用半导体微球优异的增益与谐振特性，在较低泵浦阈值下实现高品质窄线宽单模微腔激光输出。基于半导体微腔对激光波长的调制，本发明利用微球制备工艺过程中微球特征的随机多样性可实现高强度窄线宽激射峰构成的随机光谱响应，具有硬件指纹特征，不可克隆的制备随机性与不可预测的激励——响应物理机制使得本光学PUF难以被逆向破解与复制篡改。因此，本发明提出的光学PUF是一种安全的物理不可克隆功能器件。
基于激光 puf 器件

[发明专利]一种用于核磁共振检测的薄膜态材料脱膜方法-CN202310710933.9在审
发明人：朱美萍;温家慧;李静平;邵建达 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2023-06-15 - 公布日： 2023-09-22 - 主分类号： G01N1/36 文献下载
摘要：本发明涉及薄膜材料表征领域，主要涉及一种用于核磁共振检测的薄膜态材料脱膜方法。本发明提供的具体方法为：使用氯化钠晶体作为待测薄膜的基底，将待测薄膜材料沉积在该基底上，形成薄膜样品；将所述薄膜样品放入盛有纯净水的玻璃培养皿中，且确保纯净水能够浸润所述薄膜样品的镀膜面，使薄膜脱落的同时，少量氯化钠晶体溶入纯净水中；待所述玻璃培养皿中的水分蒸发后，取出脱膜后的样品，放入玛瑙研钵中研磨制成粉末。本发明能够解决利用核磁共振仪在表征薄膜态材料时难以取样的问题，以及薄膜态材料在取样过程中损耗大、测量结果不清晰的问题。本发明具有操作简单、成本低和适用范围广等特点。
一种用于核磁共振检测薄膜材料方法

[发明专利]一种具有光滑表面和高损伤阈值熔石英元件的加工方法-CN202310843212.5在审
发明人：陈军;程鑫;王林;顿爱欢;徐学科;邵建达 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2023-07-10 - 公布日： 2023-09-15 - 主分类号： C03C23/00 文献下载
摘要：一种具有光滑表面和高损伤阈值熔石英元件的加工方法，包括：对熔石英坯料的切割、铣磨成型、等离子体深刻蚀、等离子体浅刻蚀和离子束抛光进行后处理抛光。本发明全工艺加工过程采用非接触式加工，基于非接触式的等离子体刻蚀和离子束抛光处理工艺，直接对精密铣磨后的熔石英坯料进行组合加工，获得具有光滑表面和高损伤阈值的熔石英元件。
一种具有光滑表面损伤阈值石英元件加工方法

[发明专利]一种啁啾体光栅的啁啾率测量方法-CN202310509612.2在审
发明人：晋云霞;莫建威;董元植;孔钒宇;邵建达 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2023-05-08 - 公布日： 2023-09-05 - 主分类号： G01M11/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种啁啾体光栅的啁啾率测量方法，包括构建测量光路；开启激光器和能量探测器；通过调整角度调节台和平移台控制待测啁啾体光栅样品与激光器输出光束的夹角和相对位置，记录啁啾体光栅发生衍射时的角度和位置，并计算角度平均值；根据公式计算得到待测啁啾体光栅样品的啁啾率。本发明测量原理简单，计算方法明了，可实现对任意规格啁啾体光栅的啁啾率测量。
一种啁啾光栅测量方法

[发明专利]一种激光损伤阈值和非线性吸收的共靶面测量装置和方法-CN202011207685.9有效
发明人：赵元安;邵宇辰;邵建达;马浩;李大伟;连亚飞;林祥坤 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2020-11-03 - 公布日： 2023-08-11 - 主分类号： G01M11/02 文献下载
摘要：一种激光损伤阈值和非线性吸收的共靶面测量装置和方法，装置包括：超快激光器、可调衰减片、快门、聚焦透镜、第一分光镜、第一光电探测器、待测样品、电控位移台、第二分光镜、第二光电探测器、扩束镜组、CCD相机、计算机和光束质量分析仪。沿所述的激光器的激光输出方向上依次是可调衰减片、快门、聚焦透镜、第一分光镜、待测样品、第二分光镜、扩束镜组、CCD相机；采用光束质量分析仪对激光焦点的有效面积进行测量。本发明还采用了同一聚焦光场和像传递法，确保了造成样品损伤的光源和激发样品非线性吸收的光源具有完全同等的靶面光斑分布，方便进一步分析激光损伤与样品非线性吸收的关系。
一种激光损伤阈值非线性吸收共靶面测量装置方法

[实用新型]一种旋钮组件及电器-CN202320078389.6有效
发明人：诸葛益江;邵建达;杨煜斌 -专利权人：松下家电(中国)有限公司;杭州松下家用电器有限公司
申请日： 2023-01-10 - 公布日： 2023-07-25 - 主分类号： G05G1/10 文献下载
摘要：本实用新型公开一种旋钮组件，属于电器领域，解决了在安装槽的外周采用挡液方式导致防水效果不理想甚至失效的问题，解决该问题的技术方案主要是安装槽内设有安装控制模组的安装凸台，旋钮包括与控制模组连接的旋转支架，旋转支架与安装槽的侧壁之间具有第一漏水间隙，安装凸台的外周与安装槽的侧壁之间形成空腔，旋转支架设有伸入空腔内的第一挡水环，第一挡水环环绕在控制模组外周来阻挡从第一漏水间隙流入的液体接触控制模组，第一挡水环的底端低于安装凸台的顶端。本实用新型主要用于用户操作电器，有效避免液体接触控制模组，提高防水效果。本实用新型还提供一种电器，采用上述的旋钮组件。
一种旋钮组件电器

[发明专利]一种RB-SiC表面飞秒激光改性预处理方法-CN202310418443.1在审
发明人：魏朝阳;陈欢;曹珍;邵建达;蒋志刚;彭小聪 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2023-04-19 - 公布日： 2023-07-21 - 主分类号： B23K26/352 文献下载
摘要：本发明涉及一种RB‑SiC表面飞秒激光改性预处理方法，通过飞秒激光对RB‑SiC表面上的预置Si粉进行改性处理，以提高RB‑SiC表面的抛光效率。本发明可以直接对RB‑SiC的切割表面进行表面改性，预置在RB‑SiC表面的Si粉在飞秒激光的高峰值功率作用下被迅速氧化，并随着氧化深度的不断加深，使得氧化后的改性层与RB‑SiC基体形成键合，得到一个具有高粘附强度、高质量的改性涂层。该方法具有操作简便、对RB‑SiC基体和工作环境要求低、可在空气中直接进行等优点，可以应用于面形复杂的RB‑SiC表面改性，能够显著提高其抛光效率。
一种 rb sic 表面激光改性预处理方法

[发明专利]用于脉冲压缩金光栅衍射效率带宽拓展的方法-CN202310262902.1在审
发明人：晋云霞;韩昱行;孔钒宇;曹红超;邵建达 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2023-03-17 - 公布日： 2023-07-18 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：一种用于脉冲压缩金光栅衍射效率带宽拓展的方法，其特征在于利用光栅镀膜的自遮挡效应和超短脉冲激光辐照的局部熔化，对光栅脊迎光面结构进行调控。包括以下步骤：光栅掩模制备、磁控溅射金膜镀制生成槽底凸起结构、构建光栅槽形和衍射效率与镀膜参数数据集、超短脉冲激光辐照、构建光栅槽形和衍射效率与辐照参数数据集、激光二维平面扫描光栅。本发明的可以精密调控光栅槽底的凸起结构、斜面结构，使原光栅的高衍射效率区向短波处拓展。本发明的方法兼容全息干涉光刻金光栅的全套工艺，产品口径可拓展至米级，在高能激光领域具有重要的经济和实用价值。
用于脉冲压缩金光衍射效率带宽拓展方法

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