专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]孔板磁场调试系统-CN200920012671.4有效
  • 高国灿;肖伟;孙岩 - 沈阳东软波谱磁共振技术有限公司
  • 2009-04-01 - 2010-01-06 - G01R33/3873
  • 本实用新型涉及医疗器械领域,公开了一种孔板磁场调试系统。所述螺纹通孔在以基板圆心为中心的一系列同心圆周上均匀分布,同一同心圆周上的螺纹通孔圆心角相同,同一同心圆周上的螺纹通孔直径相同,在靠近基板圆心处,各同心圆状排布的螺纹通孔的孔径大小交替;所述螺纹通孔安装相应规格的螺钉本实用新型的优点是:使用孔板调试系统替代使用钐钴磁片在涡流盘上,可以使磁体均匀度达到磁共振系统的要求。
  • 匀场孔板磁场调试系统
  • [实用新型]用于磁共振成像系统的超导磁体-CN201520604948.8有效
  • 宋啸坤 - 上海联影医疗科技有限公司
  • 2015-08-12 - 2015-12-02 - H01F6/04
  • 本实用新型提出一种用于磁共振成像系统的超导磁体,所述用于磁共振成像系统的超导磁体包括用于容纳制冷剂的制冷剂容器,以及线圈,所述线圈由超导材料制成,所述线圈内置于所述制冷剂容器内。本实用新型采用超导材料制成的主动线圈内置于制冷剂容器内,使得主磁场均匀性得到改善,由于本实用新型中的线圈是零电阻闭环模式运行,无需单独配置高精度高稳定电源,随时都可方便改变电流来微调主磁场均匀度
  • 用于磁共振成像系统超导磁体
  • [实用新型]磁共振设备-CN201620286888.4有效
  • 吴征天;牛福洲;张扬 - 苏州科技学院
  • 2016-04-02 - 2016-09-07 - G01R33/385
  • 本实用新型涉及一种磁共振设备,其包括梯段线圈支撑装置以及盒,所述梯段线圈支撑装置设有收容盒的通道,所述盒上设有第一锁定装置,所述通道上设有第二锁定装置,在磁共振设备磁场的作用下,第一锁定装置和第二锁定装置压紧在一起以使盒固定到梯段线圈支撑装置上本实用新型的磁共振设备通过设置第一锁定装置和第二锁定装置,在磁共振设备磁场的作用下使第一锁定装置和第二锁定装置固定在一起,以起到使盒安装方便、固定性好的技术效果。
  • 磁共振设备
  • [发明专利]一种双光束无掩模光刻系统-CN202110209817.X有效
  • 陈冠楠;梅文辉 - 中山新诺科技股份有限公司
  • 2021-02-24 - 2022-04-12 - G03F7/20
  • 所述双光束无掩模光刻系统包括:第一和第二光源、扩束化单元(2)、光调制单元(3)和光束调节单元(4),第一光源用于发射激发光;第二光源用于发射损耗光;光束调节单元(4)用于将扩束化单元(2)和光调制单元(3)处理后形成的图形化平行光束阵列转化为成像平面上的像素点阵,像素点阵的非零像素点的中心为第一光束实心圆(601)、外环为第二光束中空(602),其中,第一光束实心圆(601)的直径大于第二光束中空(602)的内直径,小于第二光束中空(602)的外直径。
  • 一种光束无掩模光刻系统
  • [发明专利]一种具有多晶硅耦合机制的器件及制造方法-CN202211072251.1在审
  • 章文通;田丰润;赵泉钰 - 电子科技大学
  • 2022-09-02 - 2022-11-22 - H01L29/06
  • 本发明提供一种具有多晶硅耦合机制的器件及其制造方法。第一介质氧化层和多晶硅电极构成纵向浮空场板,同一列的纵向浮空场板多晶电极连接至金属等势,所述纵向浮空场板分布在整个第二导电类型漂移区中。浮空的多晶硅板和栅多晶硅电极一起形成,覆盖在场氧表面。本发明中纵向浮空场板辅助耗尽第二导电类型漂移区,提高了器件耐压。但由于不同金属等势距离较远,耦合能力较弱,通过在相邻的等势之间覆盖多晶硅板,增加了等势之间的耦合。另外由于浮空多晶硅板的辅助耗尽作用,可以增加第二导电类型漂移区的浓度,提高比导。
  • 一种具有多晶耦合机制器件制造方法
  • [发明专利]半导体工艺设备及其承载装置-CN202210381543.7有效
  • 田西强;叶华;陈智勇;王冲;朱磊;刘国杰 - 北京北方华创微电子装备有限公司
  • 2022-04-12 - 2023-03-24 - H01L21/687
  • 该承载装置设置于工艺腔室内,包括:基座、承载件以及限位结构;限位结构套设于基座的外周,内周壁与基座的外周壁之间形成有吹气流道及第一流空间,第一流空间与吹气流道连通;承载件与基座相互叠置且位于基座的下方,并且承载件与基座之间设置有气流道结构;气流道结构通过连接流道与第一流空间连通;气流道结构用于将吹扫气体通过连接流道输送至第一流空间;第一流空间用于对吹扫气体进行流;吹气流道用于将流后的吹扫气体吹出本申请实施例实现了边缘吹气对晶圆的底面及侧面气流影响是一致的,从而大幅提高了工艺均匀性及工艺良率。
  • 半导体工艺设备及其承载装置
  • [发明专利]具有冷铁能力的超导磁体-CN201110335808.1有效
  • W·沈;Y·利沃夫斯基;张震宇 - 通用电气公司
  • 2011-10-21 - 2012-05-16 - H01F6/00
  • 本发明涉及具有冷铁能力的超导磁体。一种对超导磁体组件(11)进行的方法(100),该超导磁体组件(11)包括低温恒温器和配置成装设在该低温恒温器中的超导磁体(12)。该方法(100)包括:当该超导磁体(12)在室温时并且在该超导磁体(12)被密封在该低温恒温器中之前,确定该超导磁体(12)的多个不均匀特性;以及当该超导磁体(12)在室温时,将初始一组被动片(64、66)装设在所述低温恒温器内部,当该超导磁体(12)在正常的操作温度操作时该初始一组被动片(64、66)降低所确定的不均匀特性。
  • 具有冷铁匀场能力超导磁体
  • [发明专利]光系统及微透镜阵列的制备方法-CN202211132177.8在审
  • 袁铭;罗群 - 上海悠睿光学有限公司
  • 2022-09-16 - 2023-01-03 - H01S5/42
  • 本发明提供一种光系统、微透镜阵列的制备方法以及计算机可读存储介质。其中光系统包括光源和微透镜阵列,光源包括多个同步控制开关或单独控制开关的子光源,子光源以预设规则分成多个子光源分组。每个子分区内的微透镜结构接收对应的子光源分组内子光源发射的光束,以形成光光。本发明的实施例能够同时或分时形成满足不同需求的光光,且光光之间互不干扰,降低具有形成多种不同光光需求的光系统的生产成本,并为光系统的小型化提供结构条件。
  • 系统透镜阵列制备方法

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