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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]在浸没式光刻术中使用超临界流体以干燥芯片及清洁透镜-CN200680023614.5有效
发明人： R·苏布拉马尼亚姆;B·辛格;K·A·潘 -专利权人：先进微装置公司;斯班逊有限公司
申请日： 2006-06-23 - 公布日： 2009-06-24 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明揭露浸没式光刻方法与系统，其包含透过浸没式光刻工具的透镜与浸没液体照射光阻，该浸没液体位于浸没空间中与透镜及光阻接触；从浸没空间移除浸没液体；将超临界流体注入于浸没空间中；从浸没空间移除超临界流体；以及将浸没液体注入于浸没空间中。
浸没光刻使用临界流体干燥芯片清洁透镜

[发明专利]一种浸没液体冷却系统的控制方法和装置、系统-CN202010307014.3在审
发明人：任华华 -专利权人：阿里巴巴集团控股有限公司
申请日： 2020-04-17 - 公布日： 2021-08-24 - 主分类号： G06F1/20 文献下载
摘要：本申请公开一种浸没液体冷却系统的控制方法、装置和系统，计算机存储介质和电子设备，其中所述方法包括：根据获取的基于第一监测维度监测的第一浸没液体冷却系统当前运行状态的第一监测信息，确定第一浸没液体冷却系统在第一监测维度上的运行状态不满足将第一浸没液体冷却系统工作状态切换到第二浸没液体冷却系统工作状态的切换条件时，根据获取的基于第二监测维度监测的第一浸没液体冷却系统当前运行状态的第二监测信息，确定第一浸没液体冷却系统在第二监测维度上的运行状态满足对第一浸没液体冷却系统工作状态进行调节的调节条件时，对第一浸没液体冷却系统的运行状态进行调节，从而能够保证浸没液体冷却系统不间断运行。
一种浸没液体冷却系统控制方法装置系统

[发明专利]液体泵设备和方法-CN201080030642.6有效
发明人： G.肖尔特 -专利权人：科尔德哈勃船舶有限公司
申请日： 2010-05-10 - 公布日： 2012-06-13 - 主分类号： F04F1/18 文献下载
摘要：本发明的实施例提供液体泵设备。该设备可包括浸没组件，其包括至少一个浸没构件，浸没构件中沿着其长度至少一部分设有液体管道，浸没组件布置为在使用中浸没组件的至少一部分浸没于待泵送的液体中，该设备被布置为在该组件的多个竖向间隔开的位置之一处通过该至少一个浸没构件提供气态流体供应到箱中液体，由此使得液体从该组件的液体入口通过该组件传递到该组件的液体出口，该设备被配置成将向浸没组件供应气态流体的位置选择为箱中液体压头在规定值范围内的位置。
液体设备方法

[发明专利]一种浸液供给系统及其浸没流场撤除方法-CN202011507502.5有效
发明人：付新;赵艺文;吴敏;徐宁;陈文昱 -专利权人：浙江启尔机电技术有限公司
申请日： 2020-12-18 - 公布日： 2022-07-15 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种浸液供给系统及其浸没流场撤除方法，包括浸液供给源、供液阀和浸没液体吸引组件，供液阀通过末端供液流路连接至浸液供给装置的主注液口，浸没液体吸引组件与末端供液流路形成流体连接；在关闭供液阀后，浸液吸引组件对末端供液流路中的残留浸没液体施加吸引作用，使残留浸没液体在大气压的作用下保持在末端供液流路中，或者使残留液体从末端供液流路中排出；从而避免残留浸没液体由主注液口泄漏至光刻机部件上造成污染和侵蚀，或者进一步地避免残留浸没液体对末端供液流路和浸液供给回收装置造成污染和侵蚀。有效减少撤除浸没流场后积蓄在末端供液流路中的浸没液体，减轻浸没液体对光刻机部件的污染和侵蚀。
一种浸液供给系统及其浸没撤除方法

[发明专利]一种浸没控制单元的洁净度检测系统及其洁净度检测方法-CN202011598538.9在审
发明人：徐文苹;赵美慧;何元杰;钮杭明;徐宁;付新 -专利权人：浙江启尔机电技术有限公司
申请日： 2020-12-29 - 公布日： 2021-05-11 - 主分类号： G01N15/06 文献下载
摘要：本发明公开了一种浸没控制单元的洁净度检测系统及其洁净度检测方法，液体源连接浸没控制单元，向浸没控制单元提供液体；使液体从浸没控制单元内部流路流过并从浸没控制单元内部流路抽排；从浸没控制单元抽排的液体导入颗粒检测装置；检测流过浸没控制单元液体的颗粒物浓度。模拟浸没式光刻机中的应用场景，使液体流过浸没控制单元内部的流路后流入颗粒检测装置进行颗粒物含量的检测，确保浸没控制单元洁净度检测评估结果有效性，颗粒检测装置中设置的气液分离器，避免气泡对颗粒物检测的影响，提高对被测液体的颗粒物含量检测精度，提高浸没控制单元洁净度检测评估可靠性和有效性。
一种浸没控制单元洁净检测系统及其方法

[实用新型]一种液体浸没式散热的计算机-CN202220616934.8有效
发明人：刘红志 -专利权人：深圳市万弘达科技有限公司
申请日： 2022-03-21 - 公布日： 2022-08-23 - 主分类号： G06F1/18 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种液体浸没式散热的计算机，包括散热计算机主体，所述散热计算机主体的一侧设置有计算机支撑台，所述计算机支撑台的内部设置有待浸没计算机，所述待浸没计算机的四角设置有计算机固定片；该一种液体浸没式散热的计算机通过设置计算机支撑台、支撑台伸缩杆、伸缩杆驱动气缸、底部分隔板、液体挡板，使用者打开伸缩杆驱动气缸，使得散热液体无法直接接触待浸没计算机，不会造成待浸没计算机的损坏，实现了该液体浸没式散热的计算机的保护功能；通过设置散热液体入口管、散热液体导管、散热液体传输管、散热液体导出管，实现了该液体浸没式散热的计算机快速散热的功能。
一种液体浸没散热计算机

[发明专利]用于浸没式光刻机的多级负压回收密封和气密封装置-CN201310205734.9有效
发明人：傅新;陈文昱;童章进;徐宁 -专利权人：浙江大学
申请日： 2013-05-29 - 公布日： 2013-08-28 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了用于浸没式光刻机的多级负压回收密封和气密封装置。在浸没式光刻机中的投影物镜组和硅片之间装有由浸没单元上端盖和浸没单元下端盖组成的多级负压回收密封和气密封装置。本发明利用负压回收液体的同时，还能对液体实现密封。多级负压回收适应硅片较高的扫描速度，提高密封的效果；在浸没单元外侧采用气密封结构，在气体压力均布腔的作用下，密封气体能够很好的约束浸没液体，允许光刻系统具有更高的扫描和步进速度；负压回收密封和气密封结合使用能更好地约束浸没液体，防止浸没单元的内部液体在高速扫描时发生泄漏。
用于浸没光刻多级回收密封和气装置

[发明专利]传感器、光刻设备以及器件制造方法-CN201380026160.7有效
发明人： T·劳伦特;J·H·W·雅各布斯;H·考克;Y·范德维基维尔;J·范德瓦尔;B·克拿伦;R·J·伍德;J·S·C·维斯特尔拉肯;H·范德里基德特;E·库伊克尔;W·M·J·赫肯斯-墨腾斯;Y·B·Y·特莱特 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2013-03-19 - 公布日： 2016-11-23 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种用于浸没类型的光刻设备中的传感器(100)，其在使用时接触浸没液体(11)，布置成使得从传感器的变换器(104)至温度调节装置(107)的第一热流路径的热阻小于从变换器至浸没液体的第二热流路径的热阻因此，热流更倾向于流向温度调节装置而不是浸没液体，使得能够减小或最小化浸没液体中的温度引发的扰动。
传感器光刻设备以及器件制造方法

[发明专利]光刻设备和运行该设备的方法-CN200910173503.8有效
发明人： J·P·J·布鲁依杰斯腾斯;R·J·布鲁尔斯;H·詹森;S·兰德柯尔;A·J·梅斯特;B·詹森;I·A·J·托马斯;M·A·C·米兰达;G·特纳萨 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2009-09-15 - 公布日： 2010-03-24 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：所述光刻设备包括投影系统，和液体限制结构，该液体限制结构配置用以至少部分地将浸没液体限制到由投影系统、所述液体限制结构和衬底和/或衬底台所限定的浸没空间，其中在投影系统、液体限制结构和浸没空间内的浸没液体之间限定湿润气体空间
光刻设备运行方法

[发明专利]具有分配挡板的冰箱-CN200880025606.3有效
发明人： J·迪博尔德 -专利权人： BSH博世和西门子家用器具有限公司
申请日： 2008-07-08 - 公布日： 2010-07-14 - 主分类号： F25C5/00 文献下载
摘要：一种制造可消费的冰块的设备，包括至少一个浸没元件(46)以及冰箱(34)，其中所述浸没元件设有导电冰附着表面(46a)。浸没元件(46)适于借助于其冰附着表面(46a)浸没在可消费的液体(58)中。冰箱(34)结构性连接至所述浸没元件(46)，并且具有预定传热装置，用于至少将冰附着表面(46a)冷却至液体(58)的冷冻温度，从而在浸没元件(46)处于浸没状态中时，相对靠近冰附着表面(46a)的液体(58)可以被冷冻，并且冰块可以在所述冰附着表面(46a)上由一些液体(58)形成。
具有分配挡板冰箱

[发明专利]一种浸没式高精度测量系统-CN202010739464.X在审
发明人：赵华;沈沉;雷传杰;史秀婷;江雨婷;雷秀军;严德斌;金一 -专利权人：合肥富煌君达高科信息技术有限公司
申请日： 2020-07-28 - 公布日： 2020-11-13 - 主分类号： G01N21/01 文献下载
摘要：本发明公开了一种浸没式高精度测量系统，包括供图像传感器处于恒温状态的浸没液体腔体，浸没液体腔体中包括充满图像传感器外部的恒温介质，浸没液体腔体中的恒温介质能够将图像传感器控制在恒温的环境中，图像传感器的变形量得到很好的控制，从而得到高精度的检测装置，包括供浸没液体腔体内的恒温介质处于恒温状态的水循环腔体，水循环腔体中具有循环流动的换热介质，水循环腔体中的换热介质循环流动供浸没液体腔体中的恒温介质保持恒温状态，水循环腔体中循环流动的换热介质保证了浸没液体腔体中的恒温介质保持恒温状态
一种浸没高精度测量系统

[发明专利]用于浸没式光刻机的气密封和气液隔离装置-CN201210449140.8有效
发明人：傅新;申英男;徐宁;陈文昱 -专利权人：浙江大学
申请日： 2012-11-12 - 公布日： 2013-02-20 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公布了一种用于浸没式光刻机的气密封和气液隔离装置。在浸没式光刻机中的投影物镜组和硅片之间装有气密封和气液隔离装置；气密封和气液隔离装置由浸没单元上端盖、浸没单元中间体和浸没单元下端盖组成。本发明用来完成浸没式光刻系统中缝隙流场的密封和液体注入回收功能，实现缝隙流场的稳定更新。本发明采用气密封结构防止液体泄漏，采用气液隔离装置将缝隙流场周围的密封气体与内部的浸没液体隔离开来，即采用气体密封液体，液体密封液体的两级密封结构，在保证气密封优点的同时，能够有效的避免气液两相流的产生
用于浸没光刻密封和气隔离装置

[发明专利]用于浸没式光刻机的气密封和微孔密封装置-CN201410172815.8有效
发明人：傅新;徐宁;陈文昱 -专利权人：浙江大学
申请日： 2014-04-25 - 公布日： 2014-08-06 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于浸没式光刻机的气密封和微孔密封装置。在浸没式光刻机中的投影透镜组和硅片之间设置有气密封和微孔密封装置；气密封和微孔密封装置包括浸没单元基体、浸没单元上端盖、浸没单元下端盖和浸没单元气密封端盖；浸没单元基体上面与浸没单元上端盖接触，浸没单元基体下面依次与浸没单元下端盖和浸没单元气密封端盖接触紧固连接本发明用来完成浸没式光刻系统中缝隙流场的密封和液体注入回收功能，采用气密封结构和微孔结构防止液体泄漏，在微孔上加上负压对液体进行回收并约束缝隙流场，通过气密封结构实现缝隙流场的密封，同时能够保证缝隙流场边缘的稳定性通过大流量注液和回收实现缝隙流场内浸没液体的稳定更新。
用于浸没光刻密封微孔装置

[发明专利]浸没式光刻系统以及浸没式光刻中原地清洁透镜的方法-CN201110022569.4无效
发明人：哈里·休厄尔;路易斯·约翰·马克亚 -专利权人： ASML控股股份有限公司
申请日： 2008-02-14 - 公布日： 2011-05-25 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：提供了一种浸没式光刻设备，其包括：能量源；投影光学系统；台；包括浸没液体供应装置和浸没液体排出装置的喷头在曝光区域内产生液体流；和清洁装置，所述清洁装置使用清洁气体清洁投影光学系统与浸没液体接触的部分。还提供了一种用于在具有向浸没式光刻系统的曝光区域提供浸没流体的浸没流体喷头的浸没式光刻系统中原地清洁最后的透镜元件的方法。
浸没光刻系统以及原地清洁透镜方法

[发明专利]浸没式光刻系统以及浸没式光刻中原地清洁透镜的方法-CN200810109204.3无效
发明人：哈里·休厄尔;路易斯·约翰·马克亚 -专利权人： ASML控股股份有限公司
申请日： 2008-02-14 - 公布日： 2008-12-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：提供了一种浸没式光刻设备，其包括：能量源；投影光学系统；台；包括浸没液体供应装置和浸没液体排出装置的喷头在曝光区域内产生液体流；和清洁装置，所述清洁装置使用清洁气体清洁投影光学系统与浸没液体接触的部分。还提供了一种用于在具有向浸没式光刻系统的曝光区域提供浸没流体的浸没流体喷头的浸没式光刻系统中原地清洁最后的透镜元件的方法。
浸没光刻系统以及原地清洁透镜方法

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