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[发明专利]具有双冷凝器单元的两相浸没冷却系统-CN202210128073.3在审
发明人：高天翼 -专利权人：百度（美国）有限责任公司
申请日： 2022-02-11 - 公布日： 2022-12-27 - 主分类号： H05K7/20 文献下载
摘要：一种浸没冷却系统包括浸没罐和位于浸没罐内的一个或多个信息技术(IT)设备。IT设备配置为提供IT服务并且至少部分地浸没在相变液体内，其中，当IT设备提供IT服务时，IT设备产生被传递到相变液体的热量，从而使得相变液体中的至少一些转变成蒸汽相。浸没冷却系统包括初级冷凝器单元和次级冷凝器单元，初级冷凝器单元位于浸没罐上方，其中，初级冷凝器单元和次级冷凝器单元中的单个或两者配置为接收来自外部冷却单元的冷却液体，以将蒸汽相的相变液体冷凝回液体相。
具有冷凝器单元两相浸没冷却系统

[发明专利]一种消色差浸没干涉成像光刻系统-CN200610114360.X无效
发明人：周远;李艳秋;张强 -专利权人：中国科学院电工研究所
申请日： 2006-11-08 - 公布日： 2007-04-11 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种消色差浸没干涉成像光刻系统，包括激光器(1)、扩束准直空间滤波装置(2)、偏振控制装置(3)、定时快门(4)、分束光栅(5)、0级衍射光控制器件(10)，复合光栅(7)、浸没液体层、抗蚀剂硅片(11分束光栅(5)和复合光栅(7)间为浸没液体层(6)，复合光栅(7)与硅片工作台(12)间为浸没液体层(8)；分束光栅(5)和复合光栅(7)的种类、材料、栅距、结构以及厚度均相同，浸没液体层(6、8)为同种液体且浸没高度相等本发明采用双液体层来保持两光臂光程相等，得到对称结构实现消色差干涉成像。
一种色差浸没干涉成像光刻系统

[实用新型]一种浸没燃烧加热设备-CN202023351071.6有效
发明人：付超;项往;任志恒;孔凡磊;李豪;朱凯;王乃豪;战斗 -专利权人：松山湖材料实验室;中科卓异环境科技(东莞)有限公司
申请日： 2020-12-31 - 公布日： 2021-08-27 - 主分类号： F24H1/20 文献下载
摘要：本申请提供一种浸没燃烧加热设备，属于浸没加热技术领域。浸没燃烧加热设备的罐体被配置成用于装放液体介质。燃烧器设置于罐体，燃烧器被配置成能够燃烧燃气并产生高温烟气。浸没管具有能够热交换的第一腔体和第二腔体，浸没管的一端连接于燃烧器，另一端朝向罐体的内部延伸，浸没管被配置成第一腔体能够引导燃烧器产生的高温烟气，并使高温烟气进入到浸没管外的液体介质内以加热液体介质。换热管被配置成设置于液体介质内，以使换热管内的待加热流体与液体介质能够进行热交换；换热管的一端与第二腔体连通，换热管被配置成能够将待加热流体引入到第二腔体内。该浸没燃烧加热设备可以使待加热流体的加热温度高于液体介质的温度。
一种浸没燃烧加热设备

[实用新型]一种用于浸没式光刻机的气密封和气液隔离装置-CN201220591927.3有效
发明人：傅新;申英男;徐宁;陈文昱 -专利权人：浙江大学
申请日： 2012-11-12 - 公布日： 2013-06-26 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公布了一种用于浸没式光刻机的气密封和气液隔离装置。在浸没式光刻机中的投影物镜组和硅片之间装有气密封和气液隔离装置；气密封和气液隔离装置由浸没单元上端盖、浸没单元中间体和浸没单元下端盖组成。本实用新型用来完成浸没式光刻系统中缝隙流场的密封和液体注入回收功能，实现缝隙流场的稳定更新。本实用新型采用气密封结构防止液体泄漏，采用气液隔离装置将缝隙流场周围的密封气体与内部的浸没液体隔离开来，即采用气体密封液体，液体密封液体的两级密封结构，在保证气密封优点的同时，能够有效的避免气液两相流的产生
一种用于浸没光刻密封和气隔离装置

[发明专利]光刻装置和器件制造方法-CN200610008927.5无效
发明人： P·M·M·列布雷格特斯;J·H·W·雅各布斯;T·尤得迪杰克 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2006-01-12 - 公布日： 2006-08-02 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种浸没光刻装置，在所述装置中，一个或多个液体分流器设置在液体限制结构所包围的间隙中。液体分流器的功能是阻止一个或多个浸没液体回流区的形成，回流区可以导致在所述间隙中的浸没液体的折射率改变，进而造成成像错误。
光刻装置器件制造方法

[发明专利]流体的紫外线处理装置-CN99816451.8无效
发明人：亨利·科兹罗维斯基 -专利权人：亨利·科兹罗维斯基
申请日： 1999-06-04 - 公布日： 2002-02-27 - 主分类号： C02F1/32 文献下载
摘要：一种利用放射线进行液体处理的方法。一种处理方法是让液体流过浸没在液体中的紫外线灯和镇流器总成。用于这种处理方法的装置含有一个浸没于液体的长形框架件。连接于该框架件上并浸没于液体的是一组多个紫外线灯以及所附带的镇流器。
流体紫外线处理装置

[发明专利]一种浸没燃烧加热设备及其使用方法-CN202011645322.3在审
发明人：付超;项往;任志恒;孔凡磊;李豪;朱凯;王乃豪;战斗 -专利权人：松山湖材料实验室;中科卓异环境科技(东莞)有限公司
申请日： 2020-12-31 - 公布日： 2021-05-18 - 主分类号： F24H1/20 文献下载
摘要：本申请提供一种浸没燃烧加热设备及其使用方法，属于浸没加热技术领域。浸没燃烧加热设备的罐体被配置成用于装放液体介质。燃烧器设置于罐体，燃烧器被配置成能够燃烧燃气并产生高温烟气。浸没管具有能够热交换的第一腔体和第二腔体，浸没管的一端连接于燃烧器，另一端朝向罐体的内部延伸，浸没管被配置成第一腔体能够引导燃烧器产生的高温烟气，并使高温烟气进入到浸没管外的液体介质内以加热液体介质。换热管被配置成设置于液体介质内，以使换热管内的待加热流体与液体介质能够进行热交换；换热管的一端与第二腔体连通，换热管被配置成能够将待加热流体引入到第二腔体内。该浸没燃烧加热设备可以使待加热流体的加热温度高于液体介质的温度。
一种浸没燃烧加热设备及其使用方法

[发明专利]一种用于浸没式光刻机的浸没液体控制装置-CN201510552449.3有效
发明人：傅新;刘同焰;徐宁;陈文昱 -专利权人：浙江大学
申请日： 2015-09-01 - 公布日： 2017-06-23 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于浸没式光刻机的浸没液体控制装置。包括浸没单元基体和回收网孔板，基体中间为圆形薄衬板，周围为环形方体结构，圆形薄衬板中心开有矩形通孔，环形方体部设有对称的水平注液腔和水平注液口，环形方体部设有对称的水平回液腔和水平回液口，水平注液口和水平回液口水平两侧的浸没单元基体侧壁均分别开有注气口和垂直回收口，浸没单元基体环形方体部的下表面向外依次开有均浸没液体缓冲槽、垂直回收槽和注气槽。本发明能够有效地提高浸没液体的利用率和增强核心流场区域的稳定性，能够有效地提高硅片的扫描速度，提高浸没单元的垂直回收效率以及减小流场振动，实现了对浸没液体的稳定更新与动态密封的控制功能。
一种用于浸没光刻液体控制装置

[发明专利]光刻设备和制造光刻设备的方法-CN201580035549.7在审
发明人： G·彼得斯;T·W·波莱;J·J·M·巴塞曼斯;W·J·博曼;T·M·默德曼;C·M·诺普斯;B·斯米特斯;K·斯蒂芬斯;R·范德哈姆 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2015-06-04 - 公布日： 2017-05-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种浸没光刻设备包括投影系统，用于通过投影系统的最终透镜元件的光学上有效的部分将图案化的辐射束朝向由衬底台支撑的衬底投影，最终透镜元件具有露出的底部表面；液体限制结构，被配置用于将浸没液体供给至浸没空间并限制在浸没空间中，所述浸没空间在投影系统的最终透镜元件与由衬底和衬底台中的至少一个形成的表面之间；和处于投影系统与液体限制结构之间的通路形成件，以及在通路形成件与最终透镜元件的光学上有效的部分之间的通路，所述通路通过开口与浸没空间液体连通，并且相对于投影系统的光轴沿径向向外延伸至少至最终透镜元件的露出的底部表面的边缘，所述通路被构造和配置成使得在使用时通过毛细作用、由来自浸没空间的液体填充所述通路。
光刻设备制造方法

[发明专利]服务器的多相变热管理系统-CN202210127644.1在审
发明人：高天翼 -专利权人：百度（美国）有限责任公司
申请日： 2022-02-11 - 公布日： 2022-12-23 - 主分类号： H05K7/20 文献下载
摘要：一种浸没冷却系统，包括浸没罐和一个或多个信息技术(IT)设备，IT设备配置为提供IT服务并且至少部分地浸没在浸没罐内的第一相变液体内，其中，当IT设备提供IT服务时，IT设备产生被传递到第一相变液体的热量，从而使得第一相变液体中的至少一些转变成蒸汽相。冷却系统包括冷凝器单元，该冷凝器单元具有在冷凝器单元处循环的第二相变液体。冷凝器单元包括真空端口、真空端口处的密封阀。该冷却系统包括热交换芯，该热交换芯在与冷凝器单元连接的浸没箱内联接，以将热量从第一相变液体传送到第二相变液体。
服务器多相变热管理系统

[发明专利]浸没式光刻设备、干燥装置、浸没量测设备和器件制造方法-CN200910141992.9有效
发明人： M·瑞鹏;N·R·凯姆波;J·P·M·B·沃麦乌伦;D·J·M·迪莱克斯;D·M·H·飞利浦斯;A·J·范普腾 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2009-05-08 - 公布日： 2009-11-11 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开一种浸没式光刻设备、干燥装置、浸没量测设备和器件制造方法。在所述浸没式光刻设备中，液体去除装置布置成：例如在曝光期间，通过沿一条线布置且与该线形成角度的多个细长的狭槽从衬底去除液体。液体去除装置用作浸没罩(hood)中的弯液面钉扎装置，或用在干燥装置中以从衬底上去除液滴。
浸没光刻设备干燥装置器件制造方法

[实用新型]衬底台、光刻设备和液体限制系统-CN201922170733.0有效
发明人： T·波耶兹;B·D·斯霍尔滕;D·W·哈伯特;L·H·J·斯蒂文斯;L·M·费尔南德斯迪亚兹;J·A·C·M·皮耶宁堡;A·A·索图特;W·J·J·韦尔特斯;J·M·W·范德温克尔 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2019-12-06 - 公布日： 2021-05-04 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：公开了一种衬底台、一种光刻设备和一种液体限制系统。提供了一种用于浸没系统的衬底台，所述浸没系统包括：投影系统，布置成将图像投影到衬底上；和液体限制系统，配置成将浸没液体限制在所述投影系统和所述衬底之间的空间中。所述衬底台包括：衬底保持器，配置成保持衬底；和电流控制装置，布置成在所述浸没液体被限制在所述空间中的同时减小在所述衬底和所述衬底保持器之间流动的电流。
衬底光刻设备液体限制系统

[发明专利]分解的计算机系统-CN202180063676.3在审
发明人： H·A·阿利萨;I·曼努萨基斯;C·L·贝拉迪;M·F·方图拉;R·G·比安基尼;W·A·桑德斯;M·E·肖 -专利权人：微软技术许可有限责任公司
申请日： 2021-06-10 - 公布日： 2023-05-30 - 主分类号： H05K7/20 文献下载
摘要：一个示例可以监测多个两相液体浸没罐。个体两相液体浸没罐可以容纳单个类型的组件类型的多个组件。该示例可以接收针对虚拟机的请求，并且从个体两相液体浸没罐分配组件集合，以一起工作以支持虚拟机请求。
分解计算机系统

[发明专利]一种近场光刻浸没系统及其浸没单元和接口模组-CN202110434777.9有效
发明人：罗先刚;赵泽宇;赵承伟;蒲明博;罗云飞 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2021-04-22 - 公布日： 2023-08-11 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种近场光刻浸没系统及其浸没单元和接口模组，包括设备基板；掩模装载模块，安装在设备基板上并用于安装掩模板；近场光刻浸没单元，通过接口模组安装在设备基板上；供给回收系统，用于通过接口模组向近场光刻浸没单元提供气体、液体并回收液体；控制系统，与供给回收系统和近场光刻浸没单元电连接以控制供液、供气、回收和制动。近场光刻浸没系统为近场光刻掩模板和基片之间形成稳定浸没场，以及如何在增设浸没场的情况下更加方便的自动上下掩模提供了解决方案。
一种近场光刻浸没系统及其单元接口模组

[实用新型]一种绝对密度测量装置-CN202222293401.3有效
发明人：曹毅;王万里;杨振;宇胜男 -专利权人：烟台卓明仪器设备有限公司
申请日： 2022-08-30 - 公布日： 2022-12-13 - 主分类号： G01N9/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种绝对密度测量装置，属于物质物理特性测量的技术领域，包括样品输送装置、液体浸没装置、称重装置及主控制系统；样品输送装置用于暂存待测试的样品并根据主控制系统的指令将样品输送给称重装置；称重装置用于测量样品在空气中的质量及浸没在液体中的质量，并将测量结果传送给所述主控制系统；液体浸没装置用于根据主控制系统的指令，将样品浸没在已知密度的液体中；主控制系统控制所述输送装置、液体浸没装置、称重装置的动作，并根据所述称重装置传递来的质量信息计算待测样品的绝对密度
一种绝对密度测量装置