专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种光刻机投影物镜像差在线测量装置和方法-CN201310032880.6有效
  • 刘广义;齐月静;张清洋;周翊;王宇 - 中国科学院光电研究院
  • 2013-01-29 - 2013-04-17 - G03F7/20
  • 本发明公开了一种光刻机投影物镜像差在线测量装置和方法,所述装置包括光源、投影物镜、探测器、工件台和掩模板,掩模板包括多照明模式模板和测试标记,激光将该测试标记经由投影物镜成像;探测器具有参考标记和在该参考标记下方的光电传感器,测试标记进行成像的激光经过该参考标记后照射在光电传感器上;工作台承载探测器,并在水平或垂直方向能够移动,根据光电传感器输出的电信号的强度能够判断测试标记像的位置,根据表示投影物镜像差和位置偏移量关系的矩阵可在线得到所述投影物镜的像差本发明只需要经过一次照明和一次测量即可实现多照明模式下位置偏移量的测量,显著地提高了投影物镜像差检测的速度。
  • 一种光刻投影物镜波像差在线测量装置方法
  • [实用新型]一种光刻机投影物镜像差在线测量装置-CN201320047881.3有效
  • 刘广义;齐月静;张清洋;周翊;王宇 - 中国科学院光电研究院
  • 2013-01-29 - 2013-08-14 - G03F7/20
  • 本实用新型公开了一种光刻机投影物镜像差在线测量装置,所述装置包括光源、投影物镜、探测器、工件台和掩模板,掩模板包括多照明模式模板和测试标记,激光将该测试标记经由投影物镜成像;探测器具有参考标记和在该参考标记下方的光电传感器,测试标记进行成像的激光经过该参考标记后照射在光电传感器上;工作台承载探测器,并在水平或垂直方向能够移动,根据光电传感器输出的电信号的强度能够判断测试标记像的位置,根据表示投影物镜像差和位置偏移量关系的矩阵可在线得到所述投影物镜的像差本实用新型只需要经过一次照明和一次测量即可实现多照明模式下位置偏移量的测量,显著地提高了投影物镜像差检测的速度。
  • 一种光刻投影物镜波像差在线测量装置
  • [发明专利]一种筛选光学系统像差敏感度的方法-CN202111448235.3在审
  • 刘畅;董立松;张世鑫;韦亚一 - 南京诚芯集成电路技术研究院有限公司
  • 2021-11-30 - 2022-03-01 - G03F7/20
  • 本发明涉及光学系统技术领域,具体涉及一种筛选光学系统像差敏感度的方法,通过基于光刻曝光系统针对的图层特征设计测试图形和设定光刻曝光的工艺条件并建立包含光刻曝光质量特征的评价函数,并对光刻曝光质量变化进行评估,得到评估结果;基于评估结果改变光刻投影系统的像差分布,并对光刻曝光质量进行仿真,结合评价函数完成像差参数的敏感度分析,得到敏感度分析结果;设置与评价函数对应的敏感度阈值,并对敏感度分析结果中的阈值以上的泽尼克项进行筛选,得到筛选结果;对筛选结果进行控制,得到满足光刻成像性能指标的像差分布,解决了传统的像差控制方法获得像差分布的速度较慢的问题。
  • 一种筛选光学系统敏感度方法
  • [发明专利]低偏振像差三反光学系统设计方法、系统、设备及介质-CN202310822655.6有效
  • 罗敬 - 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
  • 2023-07-06 - 2023-09-22 - G02B27/00
  • 本发明涉及光学设计领域,具体提供低偏振像差三反光学系统设计方法、系统、设备及介质,根据目标三反光学系统的要求确定自由设计参数的数目,并生成相应数目的随机数,根据赛德尔像差计算公式,以消除目标三反光学系统的初级球差初级像散和初级彗差为目标,通过自由设计参数和多个方程确定剩余设计参数,根据高斯光学理论,得到目标三反光学系统中三块有光焦度反射镜的全部结构参数,将所有参数输入到光学设计软件中并计算得到目标三反光学系统的像差和偏振像差,根据像差和偏振像差构建评价函数,若评价函数不满足需求,则重新以随机数的形式生成新的自由设计参数,并再次计算评价函数,直到像差和偏振像差均满足需求时完成设计。
  • 偏振像差三反光学系统设计方法系统设备介质

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