专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]光学参数检测系统及方法-CN202110257005.2在审
  • 苗亮;陈新东;张鑫;马庆坤 - 长春长光华大智造测序设备有限公司
  • 2021-03-09 - 2022-09-13 - G01M11/02
  • 本申请提供一种光学参数检测系统,用于检测待测物镜的光学参数,包括:波前传感器,波前传感器收发测试光;光引导组件,光引导组件包括转台和设置于转台上的转折镜;转台旋转带动转折镜旋转以将测试光以不同角度反射至待测物镜,并将待测物镜处的测试光以不同角度反射至波前传感器;以及球面反射镜,待测物镜的检测位置位于光引导组件与球面反射镜之间,球面反射镜位于待测物镜的像侧且可沿待测物镜的光轴移动,用于将待测物镜出射的测试光反射至待测物镜;波前传感器基于转台的旋转角度检测待测物镜在不同视场下的像差并根据像差及球面反射镜的位移获得待测物镜的光学参数。本申请还提供一种光学参数检测方法。
  • 光学参数检测系统方法
  • [发明专利]投影物镜像差检测装置及检测方法-CN201811288720.7有效
  • 孙慧慧;李天鹏 - 上海微电子装备(集团)股份有限公司
  • 2018-10-31 - 2021-08-10 - G03F7/20
  • 本发明实施例公开了一种投影物镜像差检测装置及检测方法,包括测定模块和计算模块;测定模块包括沿光线传播路径依次设置的光源、照明系统、物方掩模版、待测投影物镜和像方掩模版以及波前传感器;物方掩模版包括多个第一通光孔和多个第一衍射孔;像方掩模版包括多个第二通光孔和多个第二衍射孔;波前传感器用于检测标定状态下的波前信息和检测状态下的波前信息;计算模块与波前传感器连接,用于基于标定状态下的波前信息以及检测状态下的波前信息,得到待测投影物镜的像差,以实现提供一种对光源相干性要求低、结构简单、标定时效性较佳、环境变化对测量结果影响较小的投影物镜像差检测装置。
  • 投影物镜检测装置方法
  • [发明专利]像差减轻系统和方法-CN202080088353.5在审
  • 任岩 - ASML荷兰有限公司
  • 2020-12-16 - 2022-08-12 - H01J37/153
  • 一种减少像差的方法,包括:基于射束(811)的带电粒子的能量(810)分离(830)带电粒子以形成束(812至814),这些束中的每个束被配置为包括处于中心能级的带电粒子;以及使(950)束偏转,使得具有不同中心能级的束被不同地偏转。像差校正器包括分散元件(830)(可选地,820),被配置为基于能量(810)来使得射束(811)(例如,带电粒子射束)的组成部分分散开;孔径阵列(840),被配置为从经分散射束形成束(812至814);以及偏转器阵列(950),被配置为基于形成束的粒子的中心能级来使束不同地偏转。
  • 色像差减轻系统方法
  • [发明专利]光刻机投影物镜像差在线检测装置及方法-CN201110199582.7有效
  • 李艳秋;汪海;刘克 - 北京理工大学
  • 2011-07-16 - 2011-12-07 - G03F7/20
  • 本发明提出一种光刻机投影物镜像差在线检测装置及方法,所述在线检测装置包括物方掩模板和像方掩模板;物方掩模板位于光刻机的物方工件台上,且设有二维周期布局的方形针孔阵列A和二维周期布局的方孔A;像方掩模板位于光刻机的像方工件台上本发明利用设有二维周期布局的针孔阵列以及二维周期布局的方孔阵列的掩膜板,一方面消除了照明系统对光刻投影物镜像差检测的影响,另一方面极大提高了曝光光源光强的利用率,弥补了采用点光源时投影物镜曝光时间长及干涉条纹对比度低的不足,从而可以极大提高检测速度和检测精度。
  • 光刻投影物镜波像差在线检测装置方法
  • [发明专利]光学头装置-CN200510075869.3无效
  • 窪田浩;酒井博;坂本学 - 株式会社三协精机制作所
  • 2005-05-27 - 2006-01-18 - G11B7/09
  • 本发明提供一种光学头装置,所述光学头装置在光路规定用光学系统和物镜之间配置了像差修正元件的情况下,调整物镜倾角时,像差修正元件和光路规定用光学系统的相对位置也不会错位。光学头装置1中,在光路规定用光学系统8的向上反射镜19和物镜4之间,在装置框架6的上表面一侧的洼部30中安装了像差修正元件25,在物镜驱动装置5的下表面一侧的片插入孔32中安装了1/4片20。因此,可以一起修正包括向上反射镜19的整个光路规定用光学系统8的像差,同时,通过调整物镜驱动装置5的倾斜而调整物镜4的倾角时,像差修正元件也不会随之倾斜。
  • 光学装置

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