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[发明专利]薄膜成膜装置和薄膜成膜方法-CN200310101266.7有效
发明人：森中泰三;铃木寿弘;谷典明 -专利权人：爱发科股份有限公司
申请日： 2003-10-16 - 公布日： 2004-05-19 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：控制系统贮存在预定氩气流速条件下的氧气流速和溅射成膜速率，作为基准数据，该溅射成膜速率包括高、中和低速三种模式，即高速金属形式成膜模式，低速化合物形式成膜模式和中速成膜模式，这些模式取决于氧气流速。在预定氩气流速条件下，在成膜期间，选择对应于高速金属形式成膜模式的氧气流速和氩气流速。然后控制两种流速，使得选择的氧气和氩气两种流速的比值保持不变，然后操作具有氧气引入口和其近旁的氧气排气口的微波枪，进行反应工艺，并操作近旁具有氩气引入口的溅射靶，进行成膜工艺，交替地进行这两种工艺，达到以脉冲方式进行成膜
薄膜装置方法

[实用新型]自动控制氩气流量的蓝宝石导膜炉-CN201620724558.9有效
发明人：赵岩;张建玉;王庆国;刘建兴;王文;董建树;韩建峰;庄大伟;罗平;徐军 -专利权人：上海国晶和泰新材料科技有限公司
申请日： 2016-07-11 - 公布日： 2016-12-21 - 主分类号： C30B15/34 文献下载
摘要：一种自动控制氩气流量的蓝宝石导膜炉，包括：炉体，在所述炉体上设有氩气进气口；氩气管路，所述氩气管路的一端与所述氩气进气口连接，所述氩气管路与所述炉体连通；真空管路，所述真空管路连接在所述炉体的底部；真空压力计本实用新型自动控制氩气流量的蓝宝石导膜炉在炉体上增加氩气进气口、氩气质量流量计、氩气开关阀、氩气管路、真空压力计和在真空管路上增加电动蝶阀，设定氩气的进气量，通过真空压力计监测反馈数据与设定压力的比较来控制真空管路上电动蝶阀开闭角度的大小来实现压力的恒定控制
自动控制流量蓝宝石导膜炉

[实用新型]一种透明导电氧化物薄膜沉积设备-CN202320295611.8有效
发明人：项天星;刘胜康;彭勇 -专利权人：中山市武汉理工大学先进工程技术研究院
申请日： 2023-02-21 - 公布日： 2023-07-07 - 主分类号： C23C14/08 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种透明导电氧化物薄膜沉积设备，包括有真空室、设置于真空室外侧的空心阴极离子枪、以及可对真空室内部进行抽真空的抽真空系统，在真空室内设有基片承载板和聚焦水冷坩埚组件，并且真空室外侧设有氩气保护系统，该氩气保护系统包括有设置于真空室外部的氩气发生源，设置于氩气发生源与空心阴极离子枪之间的第一氩气导气管，以及由氩气发生源通入所述真空室底部的第二氩气导气管；该设备利用空心阴极弧光放电技术，在真空室内的真空环境下用通过百伏电压电离氩气产生阴极辉光放电和大量热电子，随后立刻转化为弧光放电，并且高密度的电子束在电场和偏转磁场的作用下定向轰击膜料，使膜料熔化蒸发，最终在基片上沉积出膜层。
一种透明导电氧化物薄膜沉积设备

[发明专利]一种复合型减反射膜及其制作方法-CN202110797334.6在审
发明人：周伟杰 -专利权人：信利光电股份有限公司
申请日： 2021-07-14 - 公布日： 2021-11-26 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开一种复合型减反射膜及其制作方法，制作方法包括步骤：将衬底置于磁控溅射设备中，控制氩气的流量，并控制ICP中氩气和氧气的流量比，在衬底上交替形成低致密度的多层第一膜层和多层第二膜层，其中第一膜层具有第一折射率，第二膜层具有第二折射率，第一折射率和第二折射率不同，且位于最外层的为第一膜层；降低氩气的流量，保持ICP中氩气和氧气的流量比，在最外层第一膜层上形成高致密度且具有第一折射率的第三膜层。本发明中，由第三膜层有效地“抵挡水汽”，减少反射率变化的可能性，从而减少影响光学效果的可能性。
一种复合型减反射膜及其制作方法

[发明专利]一种制备氧化钒薄膜的方法-CN02138793.1无效
发明人：黄光;陈长虹;王宏臣;李雄伟;陈四海;易新建 -专利权人：华中科技大学
申请日： 2002-07-13 - 公布日： 2003-01-22 - 主分类号： C23C14/08 文献下载
摘要：②溅射钒膜充入氩气至安放衬底的真空室，分别采用平行粒子束、聚焦粒子束清洗衬底和耙材；溅射镀制钒膜，直至镀膜结束。③氧化扩散和后退火在氩气气氛下加热退火炉，升温后充入氧气，氧气和氩气的流量比为1∶10～10∶1；氧化钒膜，制备氧化钒薄膜；钒膜氧化充分后，关闭氧气阀，氧化钒膜在纯氩气中退火；退火结束后，关闭退火炉，在氩气环境内冷却至室温
一种制备氧化薄膜方法

[发明专利]红外光学元件表面成型类金刚石膜工艺-CN201010185770.X无效
发明人：谷华;陈国清;李爽 -专利权人：江苏南晶红外光学仪器有限公司
申请日： 2010-05-28 - 公布日： 2010-09-15 - 主分类号： C23C16/27 文献下载
摘要：本发明涉及一种红外光学元件表面成型类金刚石膜工艺，其特征在于：首先向碳膜机内放置单晶硅的基片，接着在碳膜机内抽真空，碳膜机内的工作气压为1.3×10-1Pa～1.3×10-3Pa时停止抽真空，接着向碳膜机的射频源充入氩气，同时射频源放电将氩气离子化后形成氩离子，氩离子对准基片进行8-12分钟的轰击，然后停止释放氩气，最后向碳膜机内充满工作气体丁烷，即单晶硅基片表面沉积形成类金刚石膜。该工艺制成的类金刚石膜性能优越，抗腐蚀，硬度高。
红外光学元件表面成型金刚石工艺

[发明专利]超低辐射镀膜玻璃及其制备方法-CN201610272537.2在审
发明人：董清世;周枫;吕晶;蔡法清 -专利权人：信义节能玻璃（芜湖）有限公司
申请日： 2016-04-28 - 公布日： 2016-09-21 - 主分类号： C03C17/36 文献下载
摘要：该超低辐射镀膜玻璃包括至少一层红外反射膜层，所述红外反射膜层为银膜层或者银和掺杂元素混合形成的合金膜层；所述红外反射膜层在氪气、氙气、氩气与氪气的混合气体、氩气与氙气的混合气体、氪气与氙气的混合气体中的任一种气体氛围下溅射形成该玻璃的制备方法至少包括采用氪气、氙气、氩气与氪气的混合气体、氩气与氙气的混合气体、氪气与氙气的混合气体中的任一种气体溅射红外反射膜层。
辐射镀膜玻璃及其制备方法

[发明专利]类金刚石薄膜制备方法-CN202310222342.7在审
发明人：戴辉;尹士平;郭晨光 -专利权人：安徽光智科技有限公司
申请日： 2023-03-09 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： C23C16/26 文献下载
摘要：一种类金刚石薄膜制备方法包括步骤：将陪镀片置于射频等离子增强化学气象沉积设备的腔体内部的阴极工件盘上；将腔体抽真空，阴极工件盘加热；通入丁烷、氩气、锗烷/硅烷，以体积总量计，丁烷占65％‑75％，氩气占5％‑15％，锗烷/硅烷占20％‑30％，开启射频电源，通过射频电源使混合气体离子化并化学反应以在陪镀片的表面上沉积膜厚大于0但在200nm以下的膜，该膜为软膜；软膜制备完成后，通入丁烷和氩气的混合气，以体积总量计，丁烷占85％‑95％，氩气占5％‑15％，开启射频电源，通过射频电源使混合气离子化并化学反应以在软膜的表面上沉积膜厚为200nm‑800nm的膜，该膜为硬膜，陪镀片上的软膜和硬膜构成类金刚石薄膜能够降低整体类金刚石薄膜的应力，能够制备整体膜厚更厚的类金刚石薄膜。
金刚石薄膜制备方法

[发明专利]氧化铟锡低温镀膜方法-CN201410812550.3在审
发明人：王学雷;朱景河;王鹏;黄伟东;黄亚清;李建华 -专利权人：信利（惠州）智能显示有限公司
申请日： 2014-12-24 - 公布日： 2015-07-01 - 主分类号： C23C14/08 文献下载
摘要：本发明提供一种氧化铟锡低温镀膜方法，所述方法包括以下步骤：在真空腔室里安装氧化铟锡靶材；对上述真空腔室抽真空后充入氩气及水蒸气，在真空压力为0.2~0.7Pa的条件下制作第一膜层，所述氩气及水蒸气的体积比为90~110:1；于所述真空腔室内充入氩气及氧气，在真空压力为0.2~0.7Pa的条件下，在所述第一膜层上制作第二膜层，所述氩气及氧气的体积比为25~35:1。本发明氧化铟锡低温镀膜方法提高了氧化铟锡膜层的耐渗透、易蚀刻且结晶的特性，保证了产品性能的稳定性及耐候性，提升了产品的质量及使用寿命。
氧化低温镀膜方法

[发明专利]一种用于增强低辐射镀膜玻璃耐钢化性能的方法-CN201710038453.7在审
发明人：唐晶;武瑞军;宋保柱;米永江 -专利权人：吴江南玻华东工程玻璃有限公司
申请日： 2017-01-19 - 公布日： 2017-05-31 - 主分类号： C03C17/36 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于增强低辐射镀膜玻璃耐钢化性能的方法，其中在玻璃制备的过程中，磁控镀设沉积底层氮化硅层及中间氮化硅层时采用氩气比例多、氮气比例少的氩气‑氮气混合气体作为反应气体，在磁控镀设沉积顶层氮化硅层时采用氩气比例较少、氮气比例较高的氩气‑氮气混合气体作为反应气体，改善各膜层内的应力分布情况，使得获得的双银低辐射玻璃产品的膜层的耐钢化性能有了大幅提升，在经过长时间的加热后膜面仍然能够完好无损。
一种用于增强辐射镀膜玻璃化性方法

[发明专利]提高膜厚均匀性的物理气相沉积方法-CN202211417179.1在审
发明人：周成龙;邱宗钰;谷丹;王康康;李淮斌 -专利权人：江苏时代芯存半导体有限公司;北京时代全芯存储技术股份有限公司
申请日： 2022-11-14 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明提供一种提高膜厚均匀性的PVD方法，该方法包括：通气步骤：通过供气装置向腔室中通入氩气；点火步骤：通过直流磁控装置向腔室中的氩气放电，使氩气电离为氩离子，氩离子轰击相变材料靶材，将相变材料靶材中的相变材料的原子轰击出来；沉积步骤：相变材料的原子沉积在晶圆的上表面，形成相变材料薄膜，并且通过供气装置向所述腔室中通入氧气；降温步骤：直流磁控装置停止向腔室中的氩气放电，供气装置停止向腔室中通入氧气，供气装置继续向腔室中通入氩气，从而降低晶圆的温度；以及抽气步骤：供气装置停止向腔室中通入氩气，并且通过抽气装置抽出腔室中的氩气，从而使腔室恢复真空状态。采用本发明的方法，可以提高膜厚均匀性。
提高均匀物理沉积方法

[发明专利]一种带有防水防尘透气膜的光谱仪氩气过滤器的滤芯-CN201510986658.9有效
发明人：罗建华 -专利权人：罗建华
申请日： 2015-12-26 - 公布日： 2017-04-05 - 主分类号： B01D46/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种带有防水防尘透气膜的光谱仪氩气过滤器的滤芯。主要特点是芯管的内孔壁面周圈沿左、右长度方向设有内层防水防尘透气膜，芯管的外径表面周圈沿左、右长度方向设有外层防水防尘透气膜，外层防水防尘透气膜的外表面周圈沿左、右长度方向设有毛线过滤层；内层防水防尘透气膜和外层防水防尘透气膜由聚四氟乙烯膨化拉伸扩展而成，拉伸之后的聚四氟乙烯膜的表面每平方寸有90多亿个微孔，每个微孔直径为0.1~0.3微米。光谱仪检测过程中，流到光谱仪发射检测台的氩气经过光谱仪氩气过滤器的滤芯进行三次过滤，能够杜绝氩气中的尘埃、杂质和空气中的尘埃、水雾流到光谱仪发射检测台，提高光谱仪检测结果的精准性和产品质量。
一种带有防水防尘透气光谱仪过滤器

[实用新型]一种带有防水防尘透气膜的光谱仪氩气过滤器的滤芯-CN201521094335.0有效
发明人：罗建华 -专利权人：罗建华
申请日： 2015-12-26 - 公布日： 2016-05-04 - 主分类号： B01D46/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种带有防水防尘透气膜的光谱仪氩气过滤器的滤芯。主要特点是：芯管的内孔壁面周圈沿左、右长度方向设有内层防水防尘透气膜，芯管的外径表面周圈沿左、右长度方向设有外层防水防尘透气膜，外层防水防尘透气膜的外表面周圈沿左、右长度方向设有毛线过滤层；内层防水防尘透气膜和外层防水防尘透气膜由聚四氟乙烯膨化拉伸扩展而成，拉伸之后的聚四氟乙烯膜的表面每平方寸有90多亿个微孔，每个微孔直径为0.1~0.3微米。光谱仪检测过程中，流到光谱仪发射检测台的氩气经过光谱仪氩气过滤器的滤芯进行三次过滤，能够杜绝氩气中的尘埃、杂质和空气中的尘埃、水雾流到光谱仪发射检测台，提高光谱仪检测结果的精准性和产品质量。
一种带有防水防尘透气光谱仪过滤器

[发明专利]金属零件的表面镀膜方法-CN202111125998.4在审
发明人：何际福 -专利权人：东莞新科技术研究开发有限公司
申请日： 2021-09-26 - 公布日： 2023-03-31 - 主分类号： C23C14/02 文献下载
摘要：本发明涉及金属表面处理技术领域，公开了一种金属零件的表面镀膜方法，包括：将金属零件放置在处理室内；对所述金属零件进行离子清洗；以氩气和氧气作为溅射气体，溅射钨靶，以在清洗后的金属零件上形成钨层；以甲烷气体和氩气作为溅射气体，溅射石墨靶，以在所述钨层上形成DLC膜层；以氩气作为溅射气体，溅射铝靶，以在所述DLC膜层上形成铝层；以氩气作为溅射气体，同时溅射铝靶和铬靶，以在所述铝层上形成铝铬合金层。采用本发明实施例，能够在金属零件表面形成耐磨损且附着力强的膜层。
金属零件表面镀膜方法

[发明专利]一种类富勒烯纳米结构含氢碳膜及其制备方法-CN202110571745.3在审
发明人：郑小平;张星;刘广桥;陈奎;张天云;董向成 -专利权人：兰州城市学院
申请日： 2021-05-25 - 公布日： 2021-08-20 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明提供了一种类富勒烯纳米结构含氢碳膜的制备方法，将预处理的金属基体置于真空条件后通入氩气，在氩气气氛下进行活化处理；将活化处理的金属基体在氩气气氛下沉积过渡层，得到含过渡层的金属基体；通入混合气体，在过渡层上沉积类富勒烯纳米颗粒，得到类富勒烯纳米结构含氢碳膜；混合气体包含流量比为1：0.5～0.8：1～3的氩气、氢气和碳氢气源。本发明的类富勒烯纳米结构含氢碳膜的摩擦系数显著减小，耐磨性能和耐磨寿命显著提高，具有优异的减摩抗磨作用；含氢碳膜具有高硬度和高韧性，与金属基体之间形成很强的结合力。
种类富勒烯纳米结构含氢碳膜及其制备方法

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