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[发明专利]提高靶材利用率的溅射方法、溅射阴极装置及溅射设备-CN202311133407.7在审
发明人：解传佳;武瑞军;张永胜;罗金豪;潘俊杰;周振国 -专利权人：苏州迈为科技股份有限公司
申请日： 2023-09-05 - 公布日： 2023-10-10 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明涉及真空溅射镀膜技术领域，尤其涉及一种提高靶材利用率的溅射方法、溅射阴极装置及溅射设备。将靶材的表面的刻蚀跑道的线性区域划分为相对排布的第一侧跑道和第二侧跑道，提高靶材利用率的溅射方法包括如下步骤：获取相应的靶材进行镀膜的镀膜基片的膜厚分布情况，根据镀膜基片的膜厚分布情况，判断第一侧跑道和第二侧跑道两者中哪一者为等离子体增强侧跑道，哪一者为等离子体非增强侧跑道，将等离子体增强侧跑道的磁场强度整体减弱。溅射阴极装置及溅射设备通过应用上述提高靶材利用率的溅射方法，使得靶材被均匀刻蚀，提高靶材的利用率，无需增设阳极组件，降低成本，提升产品良率。
提高利用率溅射方法阴极装置设备

[实用新型]一种隧道仰拱边墙的凿毛辅助支架-CN202321224913.2有效
发明人：李伟东;张寅;乔瑞涛;陈传明;王伟洁;武瑞军;潘安全;任少江;王官丁;赵国鹏;任鹏英;吴晓雄;刘凯 -专利权人：中铁六局集团有限公司;中铁六局集团太原铁路建设有限公司
申请日： 2023-05-19 - 公布日： 2023-10-10 - 主分类号： E21D11/10 文献下载
摘要：本实用新型属于涉及凿毛施工技术领域，尤其涉及一种隧道仰拱边墙的凿毛辅助支架，解决了背景技术中的技术问题，其包括两根沿仰拱矮边墙曲度布置的弯曲支撑杆以及多根支撑横杆，多根支撑横杆焊接至两根弯曲支撑杆之间，相邻支撑横杆间隔设置，支撑横杆与弯曲支撑杆组焊后形成与仰拱矮边墙曲面适配的曲面结构，每根弯曲支撑杆上分别焊接有至少三组支撑在仰拱矮边墙上的三角撑；顶部的支撑横杆的底部焊接有与其并列的洒水管路，洒水管路上设置有至少两个朝向仰拱矮边墙的除尘喷头，洒水管路一端封闭且另一端通过软管与水泵相连。使用该支架能起到支撑风镐的作用，减轻了工人的劳动强度，提高工作效率，减少风镐晃动，保证凿毛质量。
一种隧道仰拱边墙辅助支架

[发明专利]磁控溅射装置-CN202310872187.3在审
发明人：张永胜;高通;解传佳;周振国;武瑞军 -专利权人：苏州迈为科技股份有限公司
申请日： 2023-07-17 - 公布日： 2023-10-03 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明涉及溅射镀膜工艺技术领域，尤其涉及一种磁控溅射装置。包括支撑座和磁铁组件。支撑座上设置有调节组件。磁铁组件包括磁轭、第一类磁铁块、第二类磁铁块和第三类磁铁块，调节组件与磁轭连接，调节组件被配置为调节磁铁组件与靶材之间的距离。第一类磁铁块、第二类磁铁块和第三类磁铁块均设置在磁轭上，沿第一方向，第一类磁铁块位于磁轭的两端位置处，第三类磁铁块位于磁轭的中部位置处，第二类磁铁块位于第一类磁铁块和第三类磁铁块之间；通过对第一类磁铁块、第二类磁铁块和第三类磁铁块充磁方向进行相应调整，进而改善磁铁组件的磁场分布。该磁控溅射装置能够提高靶材的利用率，节约成本。
磁控溅射装置

[实用新型]煤矿气动履带吊车-CN202222001757.5有效
发明人： 武瑞军;武鹏 -专利权人：陕煤集团神木红柳林矿业有限公司
申请日： 2022-07-29 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： B66C23/36 文献下载
摘要：本实用新型公开的煤矿气动履带吊车，包括底座及分别设置于底座两侧的行走机构，行走机构连接有气动马达，底座上分别固接有推土铲、气动系统和工作臂，工作臂与工作机构活动连接。本实用新型的吊车通过行走机构和起吊机构的配合，可以在灵活将起吊的重物移动至煤矿井中所需位置，并且配有推土铲，能够对地面进行简单处理，方便设备工作时履带可以正常移动。
煤矿气动履带吊车

[发明专利]镀膜装置-CN202310100810.3在审
发明人：解传佳;张永胜;武瑞军 -专利权人：苏州迈为科技股份有限公司
申请日： 2023-02-10 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明涉及真空镀膜技术领域，具体公开了一种镀膜装置。本发明提供的镀膜装置包括箱体、基片载具、靶材和金属栅网，箱体具有真空腔体，满足镀膜的真空环境需求，基片载具用于承载待镀膜的基片，在基片载具和靶材之间设置金属栅网，金属栅网连接正极电压，靶材连接负极电压，金属栅网能吸附和中和氧负离子和电子，降低了PVD成膜过程中氧负离子和电子对基片的非晶硅膜层的损伤和以及对基片的温升，提高了异质结太阳能电池的开路电压和填充因子，提升了太阳能电池的转换效率。
镀膜装置

[实用新型]用于磁控溅射的阴极装置及磁控溅射设备-CN202222766180.7有效
发明人：解传佳;高通;张永胜;武瑞军 -专利权人：苏州迈为科技股份有限公司
申请日： 2022-10-20 - 公布日： 2023-06-20 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本申请公开了一种用于磁控溅射的阴极装置及磁控溅射设备，属于磁控溅射装置领域。一种用于磁控溅射的阴极装置，包括：靶筒，设于靶筒内的磁棒组件，及设于靶筒外表面的溅射靶材；其中磁棒组件包括封装件，设于封装件内的磁棒、调节机构、温度检测部件和处理器；封装件的外表面与靶筒的内壁之间形成有冷却介质通道；磁棒包括磁铁和磁轭，磁铁安装在磁轭上，磁轭背离磁铁的一侧表面设有多个调节点，多个调节点分别与调节机构连接，以通过调节机构调整磁铁与溅射靶材的间距；调节机构、温度检测部件分别与处理器信号连接。本申请的阴极装置无需与外部通讯，可以实现磁场强度的调节，降低了漏水或漏气的风险，故障率相对较低，可靠性相对较高。
用于磁控溅射阴极装置设备

[发明专利]动态镀膜装置及其动态镀膜方法-CN202211632285.1在审
发明人：张永胜;解传佳;武瑞军;彭孝龙;杨肸曦 -专利权人：苏州迈为科技股份有限公司
申请日： 2022-12-19 - 公布日： 2023-04-18 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明涉及一种动态镀膜装置及其动态镀膜方法，动态镀膜装置包括控制模块及沿第一方向依次排布的缓冲腔、过渡腔及镀膜腔，过渡腔包括至少三个检测元件，相邻两个检测元件限定出一过渡区间，过渡区间内设有一驱动机构，驱动机构具有工艺速度、传动速度及极限速度；控制模块与检测元件、驱动机构通信连接，用于在靠近镀膜腔的检测元件检测到前一基片远离镀膜腔的尾部离开时控制驱动机构加速至传动速度，且靠近镀膜腔的检测元件检测到后一基片靠近镀膜腔的头部开始离开时控制驱动机构降速至工艺速度；多次追赶的加速度和传动速度较小，降低基片碎片率，缩短相邻基片的间距，实现20mm以下间距连续镀膜，减少靶材浪费，提升镀膜工艺稳定性及产品良率。
动态镀膜装置及其方法

[发明专利]一种磁控溅射阴极装置及磁控溅射设备-CN202211351999.5在审
发明人：张永胜;解传佳;周振国;武瑞军;彭孝龙;莫超超 -专利权人：苏州迈为科技股份有限公司
申请日： 2022-10-31 - 公布日： 2022-12-30 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明涉及真空溅射镀膜技术领域，尤其涉及一种磁控溅射阴极装置及磁控溅射设备。磁控溅射阴极装置包括靶材筒组件、磁棒组件及汇聚磁铁组件，靶材筒组件位于真空腔室内，磁棒组件位于靶材筒组件的内部，汇聚磁铁组件设置在靶材筒组件靠近真空腔室侧壁的一侧，汇聚磁铁组件产生的磁力线能够朝靠近待镀膜基片的方向挤压磁棒组件产生的磁力线，避免溅射的原子沉积到真空腔室的侧壁上，使更多的原子沉积到待镀膜基片上。磁控溅射设备通过应用上述磁控溅射阴极装置，减少了靶材的损耗，降低了生产成本，提升了产品良率，延长了磁控溅射设备的维护周期，提高了设备的开机效率。
一种磁控溅射阴极装置设备

[发明专利]一种异质结电池效率提升方法-CN202210466722.0在审
发明人：张永胜;解传佳;武瑞军;彭孝龙;莫超超 -专利权人：苏州迈为科技股份有限公司
申请日： 2022-04-29 - 公布日： 2022-07-29 - 主分类号： H01L31/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种异质结电池效率提升方法，涉及异质结电池技术领域，能够同步解决硅片表面污染、氧化和水汽吸附问题，不影响PVD设备的工作节拍。该方法步骤包括制绒清洗、非晶硅沉积、TCO膜制备和栅线制备，在TCO膜制备步骤之前增加非晶硅表面处理，用于改善异质结电池制备过程中非晶硅表面可能存在的污染和氧化问题，并去除托盘表面吸附水汽；非晶硅表面处理采用面状ICP等离子源来实现；具体地，在真空侧的顶部设置若干线圈；线圈与外部RF匹配器连接，用于产生射频磁通，射频磁通沿轴向感应出的射频电场对其中的电子进行加速，从而产生等离子体；待表面处理的沉积了非晶硅的硅片位于线圈下方且按预设速度依次通过等离子体区域。
一种异质结电池效率提升方法

[发明专利]一种提高旋转靶材利用率的溅射方法及溅射设备-CN202210506190.9在审
发明人：张永胜;解传佳;武瑞军;莫超超;杨肸曦;彭孝龙;周振国 -专利权人：苏州迈为科技股份有限公司
申请日： 2022-05-10 - 公布日： 2022-07-22 - 主分类号： C23C14/54 文献下载
摘要：本发明属于溅射镀膜技术领域，公开了一种提高旋转靶材利用率的溅射方法及溅射设备。该提高旋转靶材利用率的溅射方法中，在线获取位于真空室内的所述靶材的形貌信息；根据所述靶材的形貌信息自动生成所述靶材的外径形貌拟合图；根据所述外径形貌拟合图，自动控制所述靶材轴向各处的磁场强度，以使所述靶材均匀消耗。在线获取靶材刻蚀情况并自动调整磁场强度，不需要对真空室破除真空后取出靶材调整更方便，且有利于提高调整频率，从而能够及时调整靶材轴向各处的磁场强度，有利于增大靶材利用率的调整幅度。本发明提供的溅射设备能够在线获取靶材表面刻蚀情况并调整对应位置磁场强度，不需人工操作，效率高，调整及时，能明显改善靶材的利用率。
一种提高旋转利用率溅射方法设备

[实用新型]一种电池片成膜用气体发生装置和成膜系统-CN202220181400.7有效
发明人：解传佳;董刚强;张永胜;武瑞军;莫超超;刘浏 -专利权人：苏州迈为科技股份有限公司
申请日： 2022-01-24 - 公布日： 2022-06-28 - 主分类号： H01L31/18 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种电池片成膜用气体发生装置和成膜系统，属于电池成膜技术领域。它包括储液箱、送气管路和抽气管路，送气管路和抽气管路上均设有阀门；所述送气管路的一端与储液箱连通，另一端与成膜腔体连通，送气管路上设有质量流量控制器；所述抽气管路的一端与质量流量控制器的进气端连通，另一端与质量流量控制器的出气端连通。本实用新型在常温条件下即可完成向真空腔体中稳定通入水汽，能够提高装置的适用性并降低控制难度，避免产生冷凝水，从而提升电池片的性能。
一种电池片成膜用气体发生装置系统

[发明专利]一种电池片成膜气氛控制方法、成膜系统和成膜方法-CN202111644533.X在审
发明人：张永胜;解传佳;武瑞军;刘浏;莫超超;陆晓星;常新新 -专利权人：苏州迈为科技股份有限公司
申请日： 2021-12-29 - 公布日： 2022-04-12 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本发明公开了一种电池片成膜气氛控制方法、成膜系统和成膜方法，属于电池成膜技术领域。它包括预先设定电池片成膜气氛中所需的标准水汽分压P标＝P1±P2，其中P1‑P2为标准水汽分压的最低值，P1+P2为标准水气分压的最高值；将待成膜电池片置于成膜腔体中，成膜腔体中设有温度可调的冷阱盘管，冷阱盘管的温度调节范围为‑180℃～‑100℃；电池片成膜气氛中的实际水汽分压为P实，若P实＞P1+P2，则通过降低冷阱盘管的温度来降低P实并使其在P1±P2范围内；若P实＜P1‑P2，则通过增加冷阱盘管的温度来增加P实并使其在P1±P2范围内。本发明能有效控制电池片成膜气氛中的水汽含量，进而提升成膜电池片的转换效率Eta等性能。
一种电池片成膜气氛控制方法系统

[发明专利]载板的清洗方法及其应用-CN202111310480.8在审
发明人： 武瑞军;张永胜;董刚强;杨肸曦;彭孝龙;宋文化 -专利权人：苏州迈为科技股份有限公司
申请日： 2021-11-08 - 公布日： 2022-03-25 - 主分类号： C23G1/08 文献下载
摘要：本申请公开了一种载板的清洗方法及其应用，属于载板清洗技术领域。一种载板的清洗方法，所述方法包括：S100、对载板进行预镀膜处理，使载板的表面形成有预镀膜层，所述预镀膜层的材料包括不耐酸的金属氧化物；S200、将硅片置于步骤S100得到的载板中，以载板作为硅片镀膜载具对硅片进行镀膜处理，镀膜处理后，载板的表面形成有透明导电膜；S300、将步骤S200的载板进行酸洗，以去除载板表面的预镀膜层和透明导电膜。本申请能够改善载板的清洗效果，且在清洗过程中能够避免载板的变形，可以实现载板的反复利用。
清洗方法及其应用

[实用新型]一种三银低辐射镀膜玻璃-CN202022195959.9有效
发明人：梁干;赵习军;唐晶;余华骏;武瑞军 -专利权人：吴江南玻华东工程玻璃有限公司;中国南玻集团股份有限公司
申请日： 2020-09-29 - 公布日： 2021-06-15 - 主分类号： C03C17/36 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种三银低辐射镀膜玻璃，所述三银低辐射镀膜玻璃包括：包括玻璃基层和镀膜于所述玻璃基层上的12个膜层，所述12个膜层从下至上依次为：第一层氧化锌层、第二层银层、第三层氧化锌铝层、第四层氧化锌层或氧化锌锡层或者二者的混合层、第五层银层、第六层铜层、第七层镍铬合金层、第八层氧化锌铝层、第九层氧化锌层或氧化锌锡层或者二者的混合层、第十层银层、第十一层氧化锌铝层和第十二层氮化硅层。本实用新型所述的三银低辐射镀膜玻璃具有室外色为银灰色、侧面颜色较正面灰、室内外正侧面颜色变化小等优点。
一种三银低辐射镀膜玻璃

[发明专利]过渡态氧化镍铬膜层的制备方法及包含该过渡态氧化镍铬膜层的可钢化低辐射镀膜玻璃-CN202011374104.0在审
发明人：唐晶;梁干;武瑞军 -专利权人：吴江南玻华东工程玻璃有限公司;中国南玻集团股份有限公司
申请日： 2018-07-19 - 公布日： 2021-03-09 - 主分类号： C03C17/36 文献下载
摘要：本发明涉及玻璃生产技术领域，具体涉及过渡态氧化镍铬膜层的制备方法及包含该过渡态氧化镍铬膜层的可钢化低辐射镀膜玻璃，本发明的制备方法包括如下步骤：采用NiCr合金靶材，在直流电源或直流脉冲电源的控制下，保持磁控溅射镀膜设备的背景本底真空度优于5×10‑4Pa，在工艺气氛点采用反应式溅射的方式在上一膜层的表面顺次进行沉积，所述的工艺气氛点对应为氩氧氛围，得到过渡态氧化镍铬膜层，由本发明的制备方法制得的过渡态氧化镍铬膜层，将其作为阻挡层应用于可钢化低辐射镀膜玻璃可大幅减少玻璃钢化前后的色差，有利于生产过程中的颜色控制，并且还能大幅提高透过率，透过色更加中性。
过渡氧化镍铬膜层制备方法包含可钢化低辐射镀膜玻璃

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