专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]塔内结晶氨法脱硫塔-CN200520073083.3无效
  • 徐长香;罗静;傅国光 - 镇江市江南环保设备研究所
  • 2005-06-28 - 2006-07-26 - B01D53/78
  • 本实用新型属于环保设备,涉及一种用于对烟气中的二氧化硫进行脱除和回收处理的塔内结晶氨法脱硫塔。其特征是,脱硫塔的进烟口以下,由上至下设置有结晶段和氧化段,结晶段与氧化段之间通过隔板相分隔;氧化段底部设置有与压缩空气相通的空气分布器,氧化段下部设置有吸收液入口,吸收液入口与主吸收段下部的出口连接,氧化段上部设置有吸收液出口,吸收液出口通过脱硫塔外部的循环系统与降温吸收段和主吸收段的喷淋装置相连接;结晶段上部设置有结晶液溢流口。本实用新型可在脱硫塔内实现副产品硫酸铵的结晶,无需在后处理工序消耗大量蒸汽进行浓缩结晶,从而在保证正常脱硫效率前提下,既节省了投资又大大降低了运行成本。
  • 结晶脱硫
  • [发明专利]半导体器件及其制造方法-CN201080053857.X无效
  • 松田高一 - 佳能株式会社
  • 2010-11-17 - 2012-08-08 - H01L29/49
  • 为了解决在等离子体CVD法的膜生成的初始阶段中,难以形成结晶度优异的硅层的问题,提供一种半导体器件,包括:基板;结晶硅层;包含氧化钛作为主要成分的氧化钛层;和与所述结晶硅层电连接的一对电极,其中:所述氧化钛层和所述结晶硅层是从基板侧起按照所描述的顺序在基板上形成的;所述氧化钛层和所述结晶硅层被形成为相互接触。
  • 半导体器件及其制造方法
  • [发明专利]一种回收处理高氯盐污水的系统及方法-CN201710976494.0在审
  • 刘玲玲 - 北京沃特尔水技术股份有限公司
  • 2017-10-19 - 2017-12-29 - C02F9/10
  • 系统包括纳滤膜装置,高级氧化装置及结晶器;所述纳滤膜装置设有透过液出口和浓缩液出口,所述透过液出口连接有第一结晶器,所述浓缩液出口依次连接高级氧化装置和第二结晶器。方法包括以下步骤使待处理的高氯盐污水通过纳滤膜,并分别收集浓缩液和透过液;使所述透过液进入第一结晶器进行结晶处理,回收以氯化物为主的低价盐;使所述浓缩液进入高级氧化装置,进行氧化处理,产生的废水进入第二结晶器进行结晶处理本发明能充分回收高盐污水中的盐分,并提高结晶盐的纯度,又能减小氯化物对氧化去除有机质的不利影响。
  • 一种回收处理高氯盐污水系统方法
  • [实用新型]石灰石‑石膏法脱硫浆液分隔池-CN201621003575.X有效
  • 钱来 - 常州市武进东方除尘设备有限公司
  • 2016-08-31 - 2017-07-11 - B01D53/80
  • 本实用新型涉及脱硫浆液分隔池技术领域,尤其是一种石灰石‑石膏法脱硫浆液分隔池,包括反应池,反应池内由池分离器分隔为氧化区和结晶区,氧化区位于结晶区上方,结晶区设有石灰石浆液入口、浆液排出口、吸收塔循环泵、去喷淋层,石灰石浆液入口位于结晶区上方,浆液排出口位于结晶区上方另一侧,吸收塔循环泵位于结晶区中部,去喷淋层位于结晶区底部,吸收塔循环泵的支管正对去喷淋层的喷嘴中。本实用新型将吸收塔反应池分为pH值不同的两部分,可以在单回路系统内获得双回路系统的效果;在池分离器中间布置氧化空气喷管,向氧化区提供充足的氧气,保证石膏结晶;同时鼓入的氧化空气可强制排除浆液中的CO2,
  • 石灰石石膏脱硫浆液分隔
  • [实用新型]脱硫脱硝和浓缩结晶多功能烟气净化装置-CN200920038130.9有效
  • 徐长香;罗静;傅国光;徐涛;张学辉 - 江苏新世纪江南环保有限公司
  • 2009-01-23 - 2010-01-13 - B01D53/78
  • 本实用新型涉及一种烟气脱硫脱硝和浓缩结晶多功能烟气净化装置,含有吸收塔,塔内包含水洗除雾段、吸收段、结晶段和氧化段,塔底设有压缩空气进口和出料口;结晶段与氧化段之间及结晶段与吸收段之间分别通过隔板隔开,其中结晶段与吸收段之间的隔板带有气帽结构,烟气从结晶段入塔;结晶段的烟气入口的上方设有与塔底出料口相通的结晶喷淋器;氧化段的上部脱硝循环、中部脱硫循环层和下部氧化层通过对应的循环泵及塔外循环管分别与吸收塔的下层喷淋器本装置利用烟气的蒸发能力使硫酸铵料浆浓缩饱和结晶,利用氨脱硫中间产物脱硝,将脱硫脱硝和硫铵的浓缩结晶在同一塔内进行,减少设备投资,节省能耗。
  • 脱硫浓缩结晶多功能烟气净化装置
  • [发明专利]一种锂辉石生产单水氢氧化锂工艺及其生产线-CN202210629878.6在审
  • 伍华东;郑国忠;孙师根 - 江西春鹏锂业有限责任公司
  • 2022-06-06 - 2022-08-23 - C01D15/02
  • 本发明公开了一种锂辉石生产单水氢氧化锂工艺,包括以下步骤:将锂辉石精矿依次经焙烧、研磨、酸化、制浆、一次去杂、二次去杂、浓缩、离心分离、低温蒸发结晶、多次蒸发结晶和干燥结晶。蒸发结晶时,采用热解消除母液中的结晶,步骤10蒸发溶液温度至135℃,停止加热后冷却,温度控制40℃~60℃,析出颗粒较大的单水氢氧化锂,加入250~500ppm脂肪醇聚氧乙烯醚,蒸发母液至160℃,冷却温度控制20℃~30℃,多次结晶析出颗粒较小的单水氢氧化锂。解决了生产单水氢氧化锂品质较低的问题,同时还大大降低了生产成本。本发明还公开了一种生产单水氢氧化锂的结晶设备包括加热部、分离部、冷凝部、过滤部等。
  • 一种辉石生产氢氧化锂工艺及其生产线
  • [发明专利]半导体器件的制造方法-CN200610064488.X有效
  • 宫入秀和;小久保千穗;井上弘毅 - 株式会社半导体能源研究所
  • 2006-11-09 - 2007-08-08 - H01L21/20
  • 在衬底上形成非晶半导体膜,其掺杂有促进结晶的金属元素,通过第一热处理结晶非晶半导体膜来形成结晶半导体膜;去除结晶半导体膜上形成的第一氧化膜并形成第二氧化膜;用第一激光照射其上形成了第二氧化膜的结晶半导体膜;在第二氧化膜上形成含有稀有气体元素的半导体膜;通过第二热处理将含在结晶半导体膜中的金属元素吸气到含有稀有气体元素的半导体膜中;去除含有稀有气体元素的半导体膜和第二氧化膜;在含氧气氛中用第二激光照射结晶半导体膜
  • 半导体器件制造方法
  • [发明专利]一种二氧化钛纳米管阵列的低温结晶制备方法及其应用-CN201210062394.4有效
  • 刘静;刘兆阅 - 北京航空航天大学
  • 2012-03-12 - 2012-07-18 - C30B29/16
  • 本发明提出一种二氧化钛纳米管阵列的低温结晶制备方法及其应用,属于制备多晶二氧化钛纳米管的技术领域,该二氧化钛纳米管阵列的低温结晶制备方法包括:步骤一:样品制备过程,步骤二:低温结晶过程。本发明提出的二氧化钛纳米管阵列的应用为应用二氧化钛纳米管阵列进行光解水制氢应用。本发明利用封闭反应容器、采用气固界面结晶法进行低温结晶制备二氧化钛纳米管阵列,该二氧化钛纳米管阵列的低温结晶制备方法在制备二氧化钛纳米管阵列时晶型转化温度较传统的煅烧法低得多,仅需110-180℃。本发明结合电化学阳极氧化技术和电化学设备对二氧化钛纳米管阵列进行光解水制氢的应用,使二氧化钛在太阳能电池、光解水制氢方面得到广泛应用。
  • 一种氧化纳米阵列低温结晶制备方法及其应用
  • [发明专利]结晶性二氧化铈溶胶及其制造方法-CN02105329.4无效
  • 太田勇夫;西村透;谷本健二 - 日产化学工业株式会社
  • 2002-02-26 - 2002-10-02 - C01F17/00
  • 接近单分散的结晶性二氧化铈溶胶及其制造方法。含有结晶性二氧化铈粒子的溶胶,该结晶性二氧化铈粒子,从由气体吸附法测得的比表面积换算出的粒径是10~200nm,(用动态光散射法测得的粒径)/(从由气体吸附法测得的比表面积换算出的粒径)之比处于2~6的范围内上述含有结晶性二氧化铈粒子的溶胶由溶胶生成工序及将得到的溶胶进行湿式粉碎的工序进行制造,该溶胶生成工序是,在惰性气体的环境下,在水性媒体中,使铈(III)和碱性物质进行反应,在生成氢氧化铈(III)的悬浊液之后,立即向该悬浊液吹入氧气或含氧的气体,生成含有结晶性二氧化铈粒子的溶胶。另外,在300~1100℃下焙烧碳酸铈,得到结晶氧化铈粒子,再湿式粉碎上述粒子,由上述工序也可以制造含有结晶性二氧化铈粒子的溶胶。
  • 结晶氧化溶胶及其制造方法
  • [发明专利]主动元件基板及其制法-CN201810612190.0有效
  • 叶家宏 - 友达光电股份有限公司
  • 2018-06-14 - 2021-02-09 - H01L27/12
  • 第一主动元件包括第一栅极、结晶金属氧化物层、第一绝缘层、第一源极与第一漏极。结晶金属氧化物层位于第一栅极上。结晶金属氧化物层与第一栅极之间夹有第一绝缘层。以穿透式电子显微镜的选区绕射模式观察从结晶金属氧化物的上表面至结晶金属氧化物层的下表面的范围,可以观察到结晶相的绕射图案。第二主动元件包括第二栅极、硅半导体层、第二源极与第二漏极。
  • 主动元件及其制法

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