专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种双重图形及半导体器件结构的制作方法-CN201410114647.7在审
  • 余云初;沈忆华 - 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
  • 2014-03-26 - 2015-09-30 - H01L21/027
  • 本发明提供一种双重图形及半导体器件结构的制作方法,所述双重图形包括:第一掩膜,具有相隔排列的至少两排条状图形阵列,各排条状图形阵列包括多个间隔排列的条状图形,且各该条状图形的端部对应为待切割区域;以及第二掩膜,其于第一掩膜的相邻两排条状图形阵列间具有切割窗口,且该切割窗口同时覆盖于所述两排条状图形阵列中各条状图形的端部。本发明采用一个宽度较大的切割窗口同时覆盖于所述两排条状图形阵列中各条状图形的端部,用于对两排线端同时进行切割,相比于现有采用两个小宽度切割窗分别对两排线端切割的方法来说,可以有效减小两排线端之间的距离,
  • 一种双重图形半导体器件结构制作方法
  • [发明专利]重叠标记及其形成方法与应用-CN200710105213.0有效
  • 黄志豪 - 旺宏电子股份有限公司
  • 2007-05-21 - 2008-11-26 - H01L23/544
  • 一种重叠标记,包括下晶圆层的一部分,其中有二X向与二Y向下条状图形,并包括由定义上晶圆层的微影制程所形成的二X向与二Y向条状光阻图形,其被前述下条状图形围绕。当前述图案化制程包括两次曝光步骤时,一X向与一Y向下条状图形同时定义,另一X向与另一Y向下条状图形同时定义。当前述微影制程包括两次曝光步骤时,一X向与一Y向条状光阻图形同时定义,另一X向条状光阻图形与另一向条状光阻图形同时定义。
  • 重叠标记及其形成方法应用
  • [发明专利]频率信号的图形化装置-CN202211172272.0在审
  • 周波;苗瑞;段炼;邹小刚;莫少锋 - 深圳市海清视讯科技有限公司
  • 2022-09-26 - 2022-12-30 - G06T1/20
  • 本发明提供一种频率信号的图形化装置,该装置包括:转换模块,用于将输入的频率信号转换为电流;条状物,缠绕线圈,线圈与转换模块连接,条状物用于发射光;永磁体,与条状物相对设置,用于在线圈在电流的作用下,驱动条状物往返移动;图像采集器,相对条状物设置,用于采集条状物发射的光在多个时刻的位置,根据采集的各个位置确定频率信号在多个时刻的各个振幅,且根据各个振幅以及对应的时刻生成确定频率信号对应的图形数据;图形处理器,与图像采集器连接,用于处理图形数据。本发明中,图形处理器处理实时频率信号的图形数据,也即图形处理器处理的图形数据较少,降低了图形处理器的配置要求,减少了音频的图形化成本。
  • 频率信号图形化装
  • [发明专利]一种半导体器件-CN201510051424.5在审
  • 张花威;任小兵 - 无锡华润上华半导体有限公司
  • 2015-01-30 - 2016-10-05 - H01L27/092
  • 本发明提供一种半导体器件,包括:半导体衬底,所述半导体衬底包括氧化埋层以及所述氧化埋层上的体区;所述体区上形成有栅极,所述栅极由第一条状图形、第二条状图形构成,所述第一条状图形与第二条状图形垂直相交;所述栅极将所述体区在平面内分割为源区、漏区、第一体接触区,其中所述源区与漏区对称分布于所述第二条状图形的两侧,所述第一体接触区位于所述第一条状图形的外侧;根据本发明的建议,所述第一体接触区具有较小的面积,使所述第一体接触区与所述第一条状图形相接触的长度小于所述第一条状图形与源区和漏区相接触的长度,且所述第一体接触区与所述第一条状图形相接触的长度为0.42微米。
  • 一种半导体器件
  • [发明专利]掩模板、散焦量的测试方法及其测试系统-CN201510198746.2有效
  • 张强;郝静安;邢滨 - 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
  • 2015-04-21 - 2020-05-08 - G03F1/44
  • 本发明提供一种掩模板、散焦量的测试方法及其测试系统,所述掩模板上具有测试图形,所述测试图形包括:基准光栅图形组,所述基准光栅图形组包括多个平行排布的第一条状图形;测试光栅图形组,所述测试光栅图形组包括多个平行排布的第二条状图形,每个所述第二条状图形包括平行排布的一条基准条形和若干条测试条形,所述第一条状图形和基准条形的宽度大于所述测试条形的宽度,所述第一条状图形和第二条状图形沿同一方向延伸。采用本发明提供的测试图形,能够在实际生产中,在晶圆上与实际需求的图形同步地形成测试结构。采用现有的套刻精度测量设备对测试标记中,基准标记与测试标记之间的位置偏移量进行测试,能够得到所述晶圆的散焦量。
  • 模板散焦测试方法及其系统
  • [发明专利]存储器及其形成方法-CN201911087070.4在审
  • 张强;应战 - 长鑫存储技术有限公司
  • 2019-11-08 - 2021-05-11 - H01L21/308
  • 一种存储器及其形成方法,所述形成方法包括:提供衬底;在衬底表面形成第一掩膜层,第一掩膜层内形成有若干平行排列的长条状的长条状图形;在第一掩膜层上形成第二掩膜层,第二掩膜层内形成有若干第一图形和若干第二图形,若干第一图形阵列排布且与长条状图形交叠,若干第二图形覆盖部分长条状图形的端部;以第一掩膜层和第二掩膜层为掩膜,逐层刻蚀至衬底内,将长条状图形、第一图形以及第二图形传递至衬底内,形成若干分立且阵列排布的分立有源区,以及对应于第一图形和第二图形的分割沟槽。
  • 存储器及其形成方法
  • [发明专利]半导体元件的制作方法-CN201910978377.7有效
  • 不公告发明人 - 长鑫存储技术有限公司
  • 2019-10-15 - 2022-07-05 - H01L21/8242
  • 该方法包括:在衬底基板上形成刻蚀停止层;在形成刻蚀停止层的衬底基板上形成多个第一条状图形;在形成第一条状图形的衬底基板上形成多个第二条状图形,其中第一条状图形与第二条状图形交叠;以第二条状图形为掩膜板,对第一条状图形进行刻蚀,并移除第二条状图形,形成多个节点接触区图案;在形成节点接触区图案的衬底基板上形成掩膜层,掩膜层的顶面与节点接触区图案500的顶面齐平,且覆盖节点接触区图案500之间的刻蚀停止层200
  • 半导体元件制作方法
  • [发明专利]光罩、光罩组、及图形化方法-CN202210017523.1在审
  • 于业笑;刘忠明 - 长鑫存储技术有限公司
  • 2022-01-07 - 2023-07-18 - G03F1/70
  • 本公开提供了一种光罩、光罩组、及图形化方法。所述光罩,包括:多个沿第一方向延伸排布的第一条状图形和多个沿所述第一方向间隔排布的第一辅助图形;所述第一条状图形与所述第一辅助图形沿所述第一方向交叠排布,所述第一辅助图形与所述第一条状图形具有重叠区域,在所述重叠区域的边缘,所述第一辅助图形具有未被所述第一条状图形覆盖的突出部。上述技术方案,通过设置第一辅助图形,在第一条状图形的边缘形成第一突出部。通过改变第一突出部的大小及形状,从而改变所述光罩的形状,得到在横向与纵向上具有理想长度比例的光罩。
  • 光罩组图形方法
  • [发明专利]一种套刻精度的测量方法和测量图形-CN202310629817.4在审
  • 张博 - 上海华虹宏力半导体制造有限公司
  • 2023-05-31 - 2023-09-12 - H01L23/544
  • 本发明提供一种套刻精度的测量方法和测量图形,方法包括形成套刻精度测量图形,测量图形包括对角分布的两组沿X方向延伸的多个条状图形和对角分布的两组沿Y方向延伸的多个条状图形;多个条状图形包括前层图形和嵌入前层图形对应的中心位置的后层图形;相邻的两个条状图形之间为有源区,前层图形为沟槽图形,后层图形为光刻胶图形;利用量测设备对套刻精度测量图形进行测量,获得X方向和Y方向的套刻测量值;利用量测设备计算沟槽外延过程中的图形偏移量,并根据图形偏移量对套刻精度进行修正本发明利用套刻精度测量图形进行多组X/Y方向的套刻精度测量,并且利用沟槽外延过程中的图形偏移量对套刻精度进行修正,使得套刻位移偏差能够准确测量。
  • 一种精度测量方法测量图形
  • [发明专利]图形码、图形码的生成、识别方法及设备-CN202010105095.9在审
  • 周林 - 阿里健康信息技术有限公司
  • 2020-02-20 - 2021-08-20 - G06K19/06
  • 本发明实施例提供一种图形码、图形码的生成、识别方法及设备。所述图形码包括:多个子图形码;所述多个子图形码中的第一子图形码包括第一图形区域以及第二图形区域;所述第一图形区域与所述第二图形区域分别部署在第二子图形码的两侧;所述第一图形区域以及所述第二图形区域分别由相间排列的第一条状图形和第二条状图形构成;其中,所述第一条状图形用于承载信息。本发明实施例将多个子图形码集成在一个图形码中,以提高图形码的识别效率以及准确度。
  • 图形生成识别方法设备
  • [发明专利]框中框重叠标记-CN201410087496.0有效
  • 周建明 - 南亚科技股份有限公司
  • 2014-03-11 - 2017-10-27 - H01L23/544
  • 本发明提供一种框中框重叠标记,所述框中框重叠标记包括内框区、围绕内框区的外框区、位于内框区和外框区中的前层之中的密集的窄沟槽、在内框区中的密集窄沟槽上方定义出矩形的X向和Y向条状光刻胶图形,以及在外框区中定义出另一矩形的X向和Y向条状图形;至少内框区中的密集窄沟槽指向不同于X向或Y向的方向;条状光刻胶图形定义于用以定义当层的光刻胶层中或定义自所述光刻胶层,且各条状光刻胶图形比各窄沟槽宽;条状图形定义于前层中或定义自前层,且各条状图形比各窄沟槽宽。
  • 框中框重叠标记

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