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[发明专利]一种曝边机-CN201810686676.9有效
发明人：王威 -专利权人：武汉华星光电技术有限公司
申请日： 2018-06-28 - 公布日： 2020-12-25 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本申请公开了一种曝边机，该曝边机包括：送风机构和曝光腔室；曝光腔室的顶壁设置有进气口，送风机构用于通过进气口向曝光腔室内输送气体；曝光腔室的底壁设置有第一排放口，以使得曝光腔室内的残留物通过第一排放口排出曝光腔室通过上述方式，本申请可以为曝光制程提供良好的环境，减少曝光过程产生的PR残留，进而提高显示面板的良率。
一种曝边机

[发明专利]基板处理装置以及基板处理方法-CN200510120441.6有效
发明人：金山幸司 -专利权人：大日本网目版制造株式会社
申请日： 2005-11-10 - 公布日： 2006-05-17 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：在将由曝光装置进行曝光处理前的基板从基板载置部向曝光装置搬送时，使用接口用搬送机构上侧的手部。另外，在将由曝光装置进行曝光处理后的基板从曝光装置向基板载置部搬送时，使用接口用搬送机构下侧的手部。即，在附着了曝光处理后的液体的基板的搬送中，使用下侧的手部；在曝光处理前的没有附着液体的基板的搬送中，使用上侧的手部。
处理装置以及方法

[发明专利]曝光机-CN202211455175.2在审
发明人：余燕青;周朝平;高庚 -专利权人：东莞市友辉光电科技有限公司
申请日： 2022-11-21 - 公布日： 2023-03-14 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种曝光机，包括机台、精对位机构及曝光装置；机台包括工作台、与工作台旋转连接的转盘、及沿转盘周向间隔设置的若干位姿调整承载台，工作台沿转盘边缘间隔设置有入料工位、精对位工位、曝光工位及出料工位，位姿调整承载台用于承载工件并调整工件的X轴与Y轴位置；精对位机构安装在精对位工位，用于对工件的位置进行识别，并配合位姿调整承载台对工件进行定位纠偏；曝光装置包括光源机构与铬版调整机构，光源机构设置在工作台一侧，用于提供工件曝光所需光源，铬版调整机构安装在曝光工位，用于调整铬版投影在工件上位置及铬版与工件之间的距离；本曝光机可以实现自动化生产，具有定位精度高，机台整体布局合理的优点。
曝光

[发明专利]一种用于HDI线路板内层干膜的自动对位曝光设备-CN201911137489.6有效
发明人：叶何远;苏惠武;张惠琳;赖剑锋 -专利权人：信丰福昌发电子有限公司;江西福昌发电路科技有限公司
申请日： 2019-11-19 - 公布日： 2020-11-06 - 主分类号： H05K3/06 文献下载
摘要：本发明涉及线路板加工领域，具体涉及一种用于HDI线路板内层干膜的自动对位曝光设备，包括曝光机，还包括上料组件、对位组件和移动组件，上料组件设置于曝光机的前端，移动组件设置于曝光机的下半部上，并且移动组件位于上料组件的一侧，对位组件设置于移动组件的顶部，并且对位组件位于曝光机和上料组件之间，上料组件包括一个放料箱、一个移料机构和一个抓取机构，放料箱设置于曝光机的前端，移料机构设置于放料箱的顶部，抓取机构设置于移料机构的顶部，并且抓取机构位于曝光机和放料箱之间，本发明解决了线路板对位时无法准确对位的问题，节省了时间，以及减少了工人成本，提高了对位的准确性。
一种用于 hdi 线路板内层自动对位曝光设备

[实用新型]光学调节系统及曝光机-CN201821145091.8有效
发明人：汪孝军;徐珍华 -专利权人：中山新诺科技股份有限公司
申请日： 2018-07-18 - 公布日： 2019-02-05 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种光学调节系统及曝光机，光学调节系统包括曝光罩；镜头；焦距调节机构；及角度调节机构，角度调节机构包括第一安装架、可转动的调节板和固定件，曝光罩固设于调节板，调节板设有套孔，镜头的一端穿过套孔、并伸入曝光罩内，固定件用于将角度调节后的调节板固设于第一安装架。通过焦距调节机构和角度调节机构的设置，调节板绕镜头转动以进行角度调节，调节板转动的同时带动曝光罩转动、从而实现曝光组件与镜头之间的角度调节，角度调节后利用固定件将调节板固定在第一安装架上，固定角度调节结果，从而焦距调节机构进行焦距调节时不会对角度调节的结果造成影响，提高了调节精度，进而提高了曝光成像质量。
调节板角度调节光学调节系统焦距调节机构角度调节机构安装架固定件曝光曝光机固设镜头套孔转动本实用新型焦距调节镜头转动曝光成像曝光组件可转动伸入穿过

[实用新型]一种感光柔性树脂板生产工艺用曝光设备-CN202122626602.6有效
发明人：曹正乾 -专利权人：苏州明正柔版包装材料有限公司
申请日： 2021-10-29 - 公布日： 2022-03-15 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开一种感光柔性树脂板生产工艺用曝光设备，包括底座以及安装于底座下的万向轮，所述底座的顶部设置有曝光箱，所述曝光箱的侧面设置有通过支撑台支撑的伺服电机，所述伺服电机的输出端设置有角度调节机构，所述角度调节机构设置于曝光箱内部连接箱内，所述角度调节机构的侧面设置有放置台，所述放置台的内部通过固定机构对竖直板固定，所述放置台的底侧设置有多组通槽，所述连接箱的顶部设置有安装于曝光箱内顶部的安装箱，所述安装箱的内部通过安装机构对若干烘干片固定。该感光柔性树脂板生产工艺用曝光设备，通过伺服电机壳带动角度调节机构内部零件运作，进而使得放置台可进行180°的转动，加速对树脂板的曝光效率。
一种感光柔性树脂生产工艺曝光设备

[发明专利]直描式曝光装置-CN202010331754.0在审
发明人：渡边健二 -专利权人：株式会社阿迪泰克工程
申请日： 2020-04-24 - 公布日： 2020-10-30 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种能够以简单的构造实现低成本化并且能够以高生产率执行曝光工艺的直描式曝光装置。作为工件载置部的载物台(3)连结有多个，通过转圈机构(21)沿着环状的环绕路转圈。在到达载置作业位置的载物台(3)上装载机(4)载置未曝光的工件W，在通过载物台(3)的移动使工件W通过曝光区域时，曝光头(1)向曝光区域照射曝光图案的光，工件W被曝光。工件W被吸附机构(7)吸附在载物台(3)上，并利用对准单元对曝光图案的照射位置进行校正。曝光完成的工件W由卸载机(5)回收。
直描式曝光装置

[发明专利]全自动曝光方法-CN202310480833.1在审
发明人：王华;陈志特;何增灿;黄海浩 -专利权人：广东科视光学技术股份有限公司
申请日： 2023-04-28 - 公布日： 2023-07-14 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本申请涉及自动装载台电路板曝光技术领域，尤其涉及一种全自动曝光方法。通过一个检测机构对不同位置曝光区处的待曝光件进行对位检测，通过一个曝光装置对不同位置曝光区处的待曝光件进行曝光，降低设备成本，保证产品的一致性。通过第一移载机构与第二移载机构分别对待曝光件进行移载，实现对待曝光件的高效移载、曝光，提高生产效率。通过第一开合框装置对第一装载台进行开合框，通过第二开合框装置对第二装载台进行开合框，在对待曝光件的运载过程中，既完成对装载台的移动，又完成对装载台的开框与合框，而无需引入额外的动力以及复杂的结构，并且无需占用额外的开合框时间
全自动曝光方法

[发明专利]一种超大尺寸曝光机免擦拭装置-CN202210987693.2在审
发明人：苏伟;陆永荣 -专利权人：深圳市志凌伟业技术股份有限公司
申请日： 2022-08-17 - 公布日： 2022-11-18 - 主分类号： B08B17/04 文献下载
摘要：本发明涉及曝光机技术领域，具体为一种超大尺寸曝光机免擦拭装置，包括有曝光机，曝光机的顶面一侧安装有盖板，曝光机上表面设置有光学菲林，光学菲林上方设置有感光膜，光学菲林和感光膜之间设置有保护膜，保护膜的两端分别连接有放料机构和收料机构；本发明提出的一种超大尺寸曝光机免擦拭装置，在曝光机的两侧设置有放料机构和收料机构，通过收放保护膜，保护膜通过曝光机上表面的时候经过光学菲林和感光膜之间，进行曝光作业时，感光膜不与光学菲林直接接触，可以避免脏污及颗粒粉尘落入菲林上
一种超大尺寸曝光擦拭装置

[实用新型]一种可移动多光谱曝光灯-CN202320236713.2有效
发明人：周春铭 -专利权人：湖州特思福电子科技有限公司
申请日： 2023-02-17 - 公布日： 2023-07-18 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种可移动多光谱曝光灯，包括底座、设在所述底座下方的曝光屏，还包括多光谱光源，所述多光谱光源位于所述底座上方，用于对所述曝光屏进行不同光谱的照射，其中，所述多光谱光源包括波长为405nm的第一光源、波长为395nm的第二光源、波长为385nm的第三光源、波长为375nm的第四光源、波长为365nm的第五光源；横移驱动机构，所述横移驱动机构用于驱动所述多光谱光源沿所述曝光屏水平移动。本实用新型通过横移驱动机构驱动多光谱光源沿所述曝光屏水平移动，使得多光谱光源发出的光能够覆盖曝光屏，从而实现多光谱曝光模式，提高曝光效率，同时横移驱动机构可控制多光谱光源的移动速度来控制曝光时间，从而满足不同光谱的照射量
一种移动光谱曝光

[发明专利]永久图案形成方法-CN200680019820.9无效
发明人：高岛正伸;角克人;古和田一辉;铃木一诚;植村隆之 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2006-06-08 - 公布日： 2008-05-28 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种可以通过平均图案偏斜引起的曝光量不均的影响从而抑制成像于感光层上的像的变形，来高精细而且有效地形成永久图案的永久图案形成方法。所以，本发明提供一种永久图案形成方法，其中，使用感光性组合物，在基材的表面形成感光层，然后使用曝光头(其中，该曝光头为具备光照射机构以及光调制机构的曝光头且被配置成所述描绘部的列方向相对扫描方向呈规定的设定倾斜角度θ)，对于所述曝光头，利用使用描绘部指定机构，相对于对该感光层，指定用于N重曝光(其中，N为2以上的整数)的所述描绘部，利用描绘部控制机构，进行所述描绘部的控制，使得只有被指定的所述描绘部参与曝光，相对于所述感光层，使所述曝光头向扫描方向相对地移动，从而进行曝光、显影。
永久图案形成方法

[发明专利]一种激光直接成像曝光机及其成像方法-CN201910703850.0在审
发明人：梅力;胡朗 -专利权人：江苏盟星智能科技有限公司
申请日： 2019-07-31 - 公布日： 2019-11-05 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种激光直接成像曝光机及其成像方法，包括曝光机构、成像平台、支撑平台和底座，底座底部固定安装有支撑腿，支撑平台设置在底座正上方，支撑平台和底座之间安装有多组升降气缸，底座上安装有与升降气缸连接的气缸控制器，支撑平台上端面安装有成像平台，成像平台表面安装有基板传输机构，曝光机构设置在成像平台正上方，曝光机构对下方的基板进行直接成像曝光，本发明结构设计新颖，操作方便，能够实现对基板的快速曝光，自动化程度高，
底座成像平台支撑平台曝光机构成像激光直接成像升降气缸曝光机基板传输机构气缸控制器表面安装直接成像曝光对基板上端面支撑腿基板自动化

[实用新型]一种纳米压印拼板设备-CN202220559710.8有效
发明人：刘晓成;宋崇顺;何钊;史晓华 -专利权人：苏州光舵微纳科技股份有限公司
申请日： 2022-03-15 - 公布日： 2022-08-16 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种纳米压印拼板设备，包括：曝光装置、遮挡装置、压印机构、软膜固定机构、载座；所述曝光装置上设置有曝光灯；所述遮挡装置设置在所述曝光装置的下方，所述遮挡装置与所述曝光装置垂直投影部分或全部覆盖本实用新型的有益之处在于，通过设置曝光装置与遮挡装置，与载座、压印机构和软膜固定机构配合，可以选择性的压印基板上的某一部分图案，实现单一图案多个拼接或者多个图案拼接在一起，结构简单，实用性强，压印效率高
一种纳米压印拼板设备

[发明专利]一种曝光机LED灯源的投射装置-CN201810790043.2在审
发明人：陈振才;李诚 -专利权人：东莞市多普光电设备有限公司
申请日： 2018-07-18 - 公布日： 2020-01-31 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种曝光机LED灯源的投射装置，包括灯源机箱、LED灯源、平面镜、快速开关机构、互眼组件及大曲镜，当光源投射出来射到平面镜时，由平面镜转射到互眼组件进行集束光射到大曲镜上，最终再转射到PCBA面上进行曝光，待A面曝光完成此时快速开关机构打开，经互眼组件集束光发出的光由快速开关机构上的平面反射镜将光反射到下方的大曲镜，最终由大曲镜将光转射到PCB B面进行曝光，B面曝光完成同时快速开关机构同样回到原点，从而周而复始循环曝光；故本发明具有设计新颖、结构简单、调节简便，充分利用了光学原理进行创新，以实现单一灯源进行双面曝光，以减少曝光不良品质之优点。
大曲快速开关曝光平面镜集束光平面反射镜原点不良品质单一灯源光学原理光源投射双面曝光投射装置光反射曝光机灯源机箱

[发明专利]曝光设备-CN201611184425.8有效
发明人：龚志平 -专利权人：广东莱宝智能装备股份有限公司
申请日： 2016-12-20 - 公布日： 2018-05-22 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开一种曝光设备，曝光组件包括位置调节机构、吸附平台以及曝光模板固定平台，吸附平台固定安装于安装方孔中，曝光模板固定平台置于位置调节机构之上，进料机构及出料机构对称置于曝光组件的后侧及前侧；安装机罩罩设于安装机架之外，安装机罩于曝光模板固定平台的上方开设有进光孔；光源发生器安装于光源底座上，光线传递架安装于光源底座的上方，第一反射镜安装于光线传递架上且位于光源发生器的上方，光线传递架延伸至进光孔的上方，第二反射镜安装于光线传递架上本发明曝光设备能自动输入输出菲林并自动完成曝光，大大提高了生产效率。
曝光设备

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