专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种晶体生长装置-CN201420760295.8有效
  • 郑飞龙;茅陆荣;周劲松 - 上海森松压力容器有限公司
  • 2014-12-04 - 2015-04-15 - C30B11/00
  • 本实用新型提供一种晶体生长装置。晶体生长装置包括晶体生长组件和加热组件,物料内置于晶体生长组件,加热物料至预定的温度梯度,引导物料进入引晶阶段、放肩阶段和等径生长阶段。根据测温组件的检测温度,导向组件驱动晶体生长组件运动,以适应VGF工艺和VB工艺的温度梯度要求。本实用新型结合VGF工艺和VB工艺的优势,有效放宽热场温度梯度的限制,提升晶体结晶速度。
  • 一种晶体生长装置
  • [发明专利]一种梯度掺氘DKDP晶体生长装置及DKDP晶体生长方法-CN202310536092.4在审
  • 徐明霞;郝国凯;孙洵;张立松;刘宝安;任宏凯 - 山东大学
  • 2023-05-12 - 2023-08-08 - C30B11/00
  • 本发明涉及一种梯度掺氘DKDP晶体生长装置及DKDP晶体生长方法,包括恒温供液装置、蠕动泵和晶体生长装置,所述晶体生长装置包括外壳,外壳内部设置有恒温水槽,恒温水槽的底部设置有控温装置Ⅱ,外壳的顶部设置有生长槽架,生长槽架上方竖直设置有电机,电机下方驱动连接有竖直的旋转轴,旋转轴底部向下延伸入外壳内,旋转轴的底端设置有晶架,在恒温水槽中设置有生长槽,晶架位于生长槽内,在晶体生长时,通过蠕动泵连续不断加入水或重水,当晶体在圆柱形玻璃管内定向生长时,生长溶液的氘含量是均匀变化的,形成了一定氘浓度梯度,使氘含量沿晶体生长方向变化,可以准确计算晶体生长量,从而控制蠕动泵传输速率,使氘含量变化均匀。
  • 一种梯度dkdp晶体生长装置方法
  • [发明专利]一种晶体生长的助熔剂及晶体生长方法-CN202010380449.0在审
  • 张彦;王占勇;徐家跃 - 上海应用技术大学
  • 2020-05-08 - 2020-07-07 - C30B15/00
  • 本发明公开了一种晶体生长的助熔剂及晶体生长方法。所述晶体为Pb17O8Cl18,所述助熔剂的体系包括PbO、金属卤化物M′X晶体生长方法为:将多晶原料与助熔剂混合融化;在熔体温度饱和点上方开始引晶,熔体温度稳定在饱和点,开始晶体生长晶体生长至所需尺寸,提升籽晶杆晶体脱离液面,在弱氧化性气氛中进行退火处理。本发明充分照顾晶体生长的取向,有效提高晶体生长稳定性,减小生长过程中溶体挥发和体系粘度,解决晶体针状发育及生长晶体易开裂、变颜色等问题,生长出的晶体尺寸大、光学质量高。
  • 一种晶体生长熔剂方法
  • [发明专利]一种GaAs单晶生长工艺-CN202210205388.3有效
  • 周雯婉 - 北京通美晶体技术股份有限公司
  • 2022-03-02 - 2023-08-11 - C30B11/00
  • 本申请涉及晶体生长领域,具体公开了一种GaAs单晶生长工艺。包括以下步骤单晶生长:装有GaAs熔体的坩埚逐渐下降,并依次经过高温区、晶体生长区、低温区,单晶生长的过程中,结晶界面始终处于晶体生长区内;所述高温区的温度区间为1260‑1250℃,所述晶体生长区的温度区间为1250‑1200℃,所述低温区的温度区间为1200‑780℃;所述晶体生长区的温度随高度的降低逐渐降低。本申请的制备方法具有提高砷化镓生长品质的优点。
  • 一种gaas生长工艺

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