专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种光调制结构集成光谱仪-CN201921223201.2有效
  • 崔开宇;蔡旭升;朱鸿博;黄翊东;刘仿;张巍;冯雪 - 清华大学
  • 2019-07-31 - 2020-04-21 - G01N21/31
  • 本实用新型涉及光谱设备技术领域,尤其涉及一种光调制结构集成光谱仪。该光调制结构包括位于光电探测层上面的光调制层,光调制层能够对入射光进行调制,从而在光电探测层上形成差分响应,以便于重构得到原光谱,从而解决现有的光谱仪过于依赖精密光学部件而使得光谱仪体积庞大、很重且昂贵的缺陷该光调制层包括底板和至少一个调制单元,底板设在光电探测层上,各个调制单元位于底板上,每个调制单元内分别设有若干个穿于底板内的调制孔,同一调制单元内的各个调制孔排布成一具有特定排布规律的二维图形结构,利用不同的二维图形结构实现对不同波长的光的调制作用
  • 一种调制结构集成光谱仪
  • [外观设计]电脑的信数据更新与信息展示图形用户界面-CN201930558947.8有效
  • 刘焕然 - 精硕科技(北京)股份有限公司
  • 2019-10-14 - 2020-05-19 - 14-02
  • 1.本外观设计产品的名称:电脑的信数据更新与信息展示图形用户界面。2.本外观设计产品的用途:本外观设计产品用于运行程序及显示。3.本外观设计产品的设计要点:在于屏幕中的图形用户界面。5.图形用户界面的用途:用于信数据的更新与信息展示。6.图形用户界面的人机交互方式:界面变化状态图1中列表展示提交的信更新任务的基本信息以及进度等信息;点击界面右侧下载按键可直接获取更新后的信数据;点击界面右上角添加按键,跳转到界面变化状态图2,可添加信更新任务界面支持信URL和BIZ两种任务形式的添加更新,点击界面变化状态图2左上角BIZ任务时,跳转到界面变化状态图3。点击界面变化状态图2或界面变化状态图3中添加更新任务界面右下角的提交按键,新任务会提交到相应的任务列表,如果更新成功,相应的信数据会更新到舆情数据库中。
  • 电脑数据更新信息展示图形用户界面
  • [发明专利]一种利用数控雕刻技术制作玻璃流控芯片的方法-CN201610947924.1在审
  • 李刚;库晓永;庄贵生 - 重庆大学
  • 2016-10-26 - 2017-02-22 - B01L3/00
  • 本发明公开了一种利用数控雕刻技术制作玻璃流控芯片的方法,该方法利用数控雕刻机直接将AutoCAD软件绘制的流控芯片图形刻划在玻璃基片上,形成微管道和/或腔体结构;既可用于加工开放型玻璃流控芯片,也可用于加工封闭型玻璃流控芯片。该方法只需CAD芯片设计、雕刻机加工等步骤,可以极大减少玻璃流控芯片的加工时间和成本,避免了危险化学试剂的使用,同时还可通过控制刀具进给深度或更换刀具制作具有三维结构的玻璃流控芯片,为流控芯片结构设计和前期原理验证提供了一种灵活简捷安全的途径;该方法适合玻璃流控芯片小批量生产或实验室级别的加工。
  • 一种利用数控雕刻技术制作玻璃微流控芯片方法
  • [发明专利]一种用于经皮给药硅基纳米针阵列的制造工艺-CN202210257117.2在审
  • 胡玉龙 - 胡玉龙
  • 2022-03-16 - 2022-06-07 - B81C1/00
  • 本发明公开了一种用于经皮给药硅基纳米针阵列的制造工艺,包括以下步骤:S1:在硅基片上沉积一层二氧化硅氧化层;S2:光刻显影,在二氧化硅氧化层表面涂布一层光刻胶,用图形规律分布的掩膜版遮盖到光刻胶上曝光,再进行显影操作,在光刻胶上形成掩膜版上的图形;S3:湿法腐蚀,腐蚀未被光刻胶掩蔽的二氧化硅氧化层,将光刻胶上的图形转移到二氧化硅氧化层上;S4:干法刻蚀,采用边刻蚀边保护的方式刻蚀硅基片,得到上窄下宽的纳米针阵列结构;S5:湿法去除二氧化硅氧化层,将硅基片顶部的二氧化硅氧化层和光刻胶去除,得到用于经皮给药硅基纳米针阵列。采用本发明的工艺可实现针大面积、高效率的制造。
  • 一种用于药硅基纳米阵列制造工艺
  • [发明专利]一种新型大马士革铜铜键合结构的制作方法-CN201310721130.X有效
  • 薛恺;于大全 - 华进半导体封装先导技术研发中心有限公司
  • 2013-12-24 - 2014-04-30 - H01L21/768
  • 本发明提供了一种新型大马士革铜铜键合结构的制作方法,有效降低了铜柱表面粗糙度,提高了凸点的表面平整度,保证了晶圆不同区域的凸点高度的一致,满足铜铜键合工艺对表面平整度的要求,在后续的组装工艺中不用做底填工艺,在降低工艺复杂度的同时,提高键合结构的可靠性,其特征在于:(1)在晶圆表面制作粘附层和种子层;(2)在晶圆表面淀积铜层;(3)对铜层进行图形化;(4)去除凸点位置以外的铜形成凸点结构;(5)去除凸点区域以外的粘附层形成电隔离的凸点结构;(6)去除光刻胶得到凸点结构;(7)在凸点结构间填充涂覆介质层;(8)对晶圆表面进行处理得到高度均匀,表面平坦光滑的介质层和外露的凸点结构
  • 一种新型大马士革铜铜键合结构制作方法
  • [发明专利]表面等离子体结构成形方法-CN200510130611.9无效
  • 董小春;杜春雷;罗先刚;李淑红;邓启凌 - 中国科学院光电技术研究所
  • 2005-12-15 - 2006-05-24 - B82B3/00
  • 表面等离子体结构成形方法:(1)根据需要选择腐蚀材料作为基底;(2)在基底材料表面蒸镀一层金属掩蔽膜层;(3)在金属膜层材料表面涂光刻胶,并根据目标结构中的线条分布情况,采用光刻工艺使光刻胶和金属膜层图形化;(4)将带有图形化的金属膜层以及光刻胶层的基底放置在相应的腐蚀液中进行腐蚀;(5)腐蚀过程中,金属膜层下面的基底材料被侧向腐蚀掉,被金属掩盖的基底材料变细,当基底材料与掩蔽层金属无连接时,停止腐蚀,并去掉表面的金属层和光刻胶层本发明可实现大面积、任意线条图形、细线宽的结构
  • 表面等离子体结构成形方法
  • [实用新型]一种渐变外观装饰复合板材-CN202022236440.0有效
  • 李廷钢;马培婷 - 苏州胜利精密制造科技股份有限公司
  • 2020-10-10 - 2021-09-03 - B32B27/36
  • 本实用新型公开了一种渐变外观装饰复合板材,包括复合板基材,以及在复合板基材的PC面上由内而外依次设有的UV纹理层、镀膜层、丝印油墨层;UV纹理层是由UV转印纳纹理结构得到的,纳纹理结构包括沟槽结构的预定图形,预定图形由尺寸大小变化与排列疏密结合的单元图形组成;镀膜层由镀膜厚度变化或镀膜层数变化的镀膜构成;丝印油墨层包括渐变层和盖底层,渐变层通过UV油墨结合设计网版渐变点实现颜色渐变,盖底层通过热固油墨遮盖或突出底部颜色
  • 一种渐变外观装饰复合板材
  • [发明专利]图形处理单元的热管理-CN200980125004.X有效
  • I·亨德利;A·G·萨姆皮特 - 苹果公司
  • 2009-04-22 - 2011-05-25 - G09G5/18
  • 某些实施例包括具有热管理能力的图形处理。该图形处理单元包括显示控制器,耦连到显示控制器的处理引擎;和耦连到显示控制器和处理引擎的时钟电路。多路复用器可以向处理引擎选择性地提供原始时钟信号和/或该时钟信号的分频版本,从而处理引擎可以接收独立于图形处理单元的工作的定时信号,并且导致更少的假信号。
  • 图形处理单元管理
  • [发明专利]一种悬空结构翘曲的检测方法-CN201911307602.0有效
  • 康晓旭;钟晓兰 - 上海集成电路研发中心有限公司
  • 2019-12-18 - 2021-11-02 - G01B11/16
  • 本发明公开了一种悬空结构翘曲的检测方法,包括如下步骤:S01:在衬底上设置结构相同的悬空结构和非悬空结构;S02:在悬空结构的正上方对悬空结构和非悬空结构进行俯视成像,根据成像图形得到桥的长度CD1和宽度CD2;S03:若桥的长度CD1小于非悬空结构桥的长度CD1’,或者桥的宽度CD2小于非悬空结构桥的宽度CD2’,则表明桥发生翘曲,进入步骤S04;S04:测量悬空结构桥不同位置的焦距,若焦距大于非悬空结构中对应位置的焦距,则该位置发生向下的翘曲;若焦距小于非悬空结构中对应位置的焦距,则该位置发生向上的翘曲。本发明提供的一种悬空结构翘曲的检测方法,可以简单快捷地检测出悬空结构中悬梁臂和桥的翘曲情况。
  • 一种悬空结构检测方法

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