专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种评价含渐进局部减薄缺陷弯管极限承载能力的方法-CN202211172372.3在审
  • 高炳军;祁勇;李岩;余雏麟;董俊华 - 河北工业大学
  • 2022-09-26 - 2022-11-25 - G06F30/23
  • 本发明为一种评价含渐进局部减薄缺陷弯管极限承载能力的方法,通过有限元极限载荷分析确定已知局部减薄尺寸弯管的极限承载荷能力;结合壁厚定点测厚结果,采用计算流体力学与动网格法分析弯管冲蚀磨损区域与最大冲蚀减薄深度随时间的变化规律,获得实际局部减薄形貌缺陷随时间的变化规律;确定与实际局部减薄形貌缺陷极限载荷相当的当量局部减薄缺陷的区域范围与深度,据此得到实际冲蚀减薄区域范围和最大冲蚀减薄深度随时间的变化规律,从而实现含渐进局部减薄缺陷弯管极限承载能力评价避免了对实际情况建模的复杂过程,提出工程上可实现方法,实际形貌用CFD范围的计算结果表达,评价实际过程更加简便。
  • 一种评价渐进局部缺陷弯管极限承载能力方法
  • [发明专利]分析β‑SiC过渡层对金刚石膜形核生长影响的方法-CN201710487136.3在审
  • 于翔;刘飞;任毅;张震 - 中国地质大学(北京)
  • 2017-06-23 - 2017-11-10 - G01N23/22
  • 所述方法采用中频磁控溅射技术在硬质合金基体上沉积SiC过渡层,通过对沉积温度的调控,获得不同表面形貌和组织特性的β‑SiC过渡层;利用热丝化学气相沉积在SiC过渡层表面沉积金刚石薄膜;利用扫描电镜观察样品的表面形貌,利用X射线衍射检测过渡层的组成、晶粒取向及结构变化,利用拉曼光谱表征金刚石薄膜的纯度和内应力的变化,利用微米压痕测试金刚石薄膜的机械性能。所述方法通过研究沉积温度对磁控溅射β‑SiC过渡层表面形貌和组织特性的影响,低温沉积β‑SiC过渡层表面形貌和组织特性对金刚石薄膜形核及生长的影响,揭示了β‑SiC过渡层影响金刚石形核及生长的作用机理。
  • 分析sic过渡金刚石膜形核生长影响方法
  • [发明专利]霍尔推力器的变截面通道的加工方法-CN201210152828.X有效
  • 宁中喜;江晓龙;于达仁;李鸿;刘辉 - 哈尔滨工业大学
  • 2012-05-17 - 2012-08-22 - F03H1/00
  • 它包括具体步骤为:步骤一、对霍尔推力器进行点火运行,测量从发动机点火开始到发动机不能再次点火运行的时间段内,霍尔推力器放电通道的壁面法向侵蚀速度c随时间变化的曲线;步骤二、模拟计算得到不同时刻的壁面法向侵蚀速度c,并建立由法向侵蚀速度c与壁面形貌的一一对应数据关系;步骤三、由步骤获得的壁面法向侵蚀速度c随时间变化的曲线和步骤二获得的法向侵蚀速度c与壁面形貌的一一对应数据关系,得到霍尔推力器的变截面通道的形貌参数;步骤四、根据获得的形貌参数加工霍尔推力器的通道壁截面形状。
  • 霍尔推力截面通道加工方法
  • [发明专利]接触孔形成方法-CN201910986189.9有效
  • 董献国 - 上海华力集成电路制造有限公司
  • 2019-10-17 - 2022-03-18 - H01L21/768
  • 本发明涉及接触孔形成方法,涉及半导体集成电路制造技术,通过多次试验获得光刻后接触孔形貌关键尺寸变化ΔD1与刻蚀后接触孔关键尺寸变化ΔD2的关系式及层间介质层厚度HILD与刻蚀后接触孔关键尺寸D2的关系式,进而获得光刻后接触孔形貌关键尺寸D1与层间介质层厚度HILD的关系,再根据光刻机光刻后接触孔形貌关键尺寸D1与曝光强度的关系,得到曝光强度与层间介质层厚度HILD之间的补偿关系,进而对晶圆上一曝光单元的曝光强度进行补偿,也即对不同的层间介质层厚度区域曝不同光刻后接触孔形貌关键尺寸D1的接触孔,最终使得该曝光单元内刻蚀后形成的接触孔的关键尺寸接近接触孔的目标关键尺寸
  • 接触形成方法
  • [发明专利]一种多形貌纳米银基底的制备方法-CN202110973625.6在审
  • 吴静;方靖淮 - 南通大学
  • 2021-08-24 - 2021-12-17 - G01N21/65
  • 本发明公开了一种多形貌纳米银基底的制备方法,本发明在PVP存在的条件下,控制不同的反应温度和时间,通过乙二醇(EG)还原硝酸银的方法合成具有颗粒状、球状、线状、棒状等不同形貌的纳米银胶,并通过自组装技术将制备的银溶胶组装到硅片上,最后利用SEM和TEM对基底进行表征,并以结晶紫为探针分子,测量不同形貌的银基底的表面增强拉曼光谱。结果表明:纳米银形貌随反应温度和反应时间的不同呈现规律性的变化,并且不同形貌的纳米银基底,其表面增强拉曼信号强度有明显差别。
  • 一种形貌纳米基底制备方法

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