专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]弯曲液晶显示装置-CN201811430676.9有效
  • 李容硕;李敏珍;林周相 - 乐金显示有限公司
  • 2018-11-27 - 2022-05-10 - G02F1/1333
  • 一种弯曲液晶显示装置,其包括:弯曲液晶面板,其包括沿纵向方向的第一平坦部分和第二平坦部分以及在第一平坦部分与第二平坦部分之间的弯曲部分;弯曲背光单元,其布置在弯曲液晶面板下方并且包括具有第一平坦部分和第二平坦部分以及弯曲部分的玻璃导光板;弯曲引导面板,其围绕弯曲液晶面板和弯曲背光单元的边缘并且包括第一平坦部分和第二平坦部分以及弯曲部分;以及弯曲玻璃盖底,其布置在弯曲背光单元的后表面处并且包括第一平坦部分和第二平坦部分以及弯曲部分,其中
  • 弯曲液晶显示装置
  • [发明专利]平坦化设备-CN202010401404.7在审
  • 侯德谦;颜于婷;郭政雨;陈志宏;洪伟伦;陈科维 - 台湾积体电路制造股份有限公司
  • 2020-05-13 - 2021-01-19 - H01L21/67
  • 本公开实施例涉及一种化学机械平坦化系统,包括一电容去离子模块,以从一溶液中移除离子。本公开实施例亦公开了使用前述化学机械平坦化系统的方法。在一实施例中,一种平坦化设备包括一平坦化单元,用以平坦化一晶圆;一清洁单元,用以清洁前述晶圆;一晶圆输送单元,用以在平坦化单元和清洁单元之间输送晶圆;以及一电容去离子模块,用以移除一溶液中的离子,所述溶液是在平坦化单元或清洁单元的至少一者中使用
  • 平坦设备
  • [发明专利]平坦化方法-CN202010327549.7在审
  • 吕丽英;黎家健;吴一雷 - 瑞声声学科技(深圳)有限公司
  • 2020-04-23 - 2020-08-18 - H01L41/22
  • 本发明提供了一种平坦化方法,能够使得待加工产品的局部平坦度更均匀,待加工产品开设有填充氧化物的腔体且包括叠设在腔体上的第一电极层、压电层和第二电极层,第一电极层覆盖腔体且包括位于第一电极层周边的第一斜面部,压电层覆盖第一电极层且在其表面形成第二斜面部,第二电极层覆盖部分压电层且包括位于第二电极层周边的第三斜面部,平坦化方法包括:在第二电极层沉积钝化层,钝化层覆盖住第二电极层和压电层,钝化层具有第一平面部
  • 平坦方法
  • [发明专利]平坦化方法-CN202110758201.8在审
  • 严勋;徐亚超 - 长鑫存储技术有限公司
  • 2021-07-05 - 2021-10-01 - H01L21/768
  • 本发明提供一种平坦化方法,包括:提供具有硅通孔的晶圆,硅通孔中填充有金属铜;对晶圆进行第一次热处理,形成第一铜凸起;去除第一铜凸起;对去除第一铜凸起的晶圆进行第二次热处理,形成第二铜凸起;去除第二铜凸起本发明的平坦化方法减小了在后续工艺中由于出现铜凸起而造成的成品良率降低的风险,实现了对TSV的有效平坦化,且该平坦化方法工艺简单,降低了劳动量以及制造成本。
  • 平坦方法

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