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[发明专利]基于两个平面光栅的气浮台三自由度位移测量系统-CN201610023026.7有效
发明人：刘永猛;谭久彬 -专利权人：哈尔滨工业大学
申请日： 2016-01-14 - 公布日： 2018-01-12 - 主分类号： G01B11/02 文献下载
摘要：基于两个平面光栅的气浮台三自由度位移测量系统，该系统包括基座、气浮台、磁浮工件台、工件台驱动装置，两个工件台工作于测量位和曝光位之间，采用两个对角对称配置的平面光栅对气浮台位置进行测量，工件台采用磁悬浮平面电机驱动；本发明解决了现有气浮台位移测量的难题，可实现气浮台的精密测量，在工件台初始化过程中，指导气浮台归零。
基于两个平面光栅浮台自由度位移测量系统

[发明专利]工件台位置水平误差测量及校正方法-CN200910047581.3有效
发明人：林彬 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2009-03-13 - 公布日： 2009-08-19 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提出一种工件台位置水平误差测量及校正方法，包括下列步骤：光刻机系统在硅片上曝光多个场的标记，每个场中分别包含将工件台设置成不同的旋转或者倾斜角度的情况曝光得到的标记；读取标记在硅片上的位置；计算工件台带有一定旋转或者倾斜角度与旋转倾斜角度均为零的情况下曝光得到的标记位置偏差；以及依据标记位置偏差获得计算得到至少一个用于校正干涉仪误差的参数，从而对工件台位置的测量结果进行有效的校正。本发明可以有效测量出由旋转或者倾斜等不同组合情况下引入的误差，与传统技术相比，精度更高。
工件位置水平误差测量校正方法

[发明专利]工件台位置误差测量及预先补偿的方法-CN201210046743.3有效
发明人：林彬;段立峰 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2012-02-28 - 公布日： 2013-09-11 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种对工件台的位置误差进行预先补偿的方法，包括：在多个位置进行测量，根据测量结构计算支撑台的起伏对工件台高度和倾斜的影响，计算工件台侧面反射镜面形对工件台倾斜角度的影响，以及根据工件台的位置，利用得到的误差数据对工件台进行补偿
工件位置误差测量预先补偿方法

[发明专利]用于光刻设备的对准信号采集系统与对准方法-CN200910201611.1有效
发明人：李运峰;王海江;韩悦;胡明辉 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2009-10-12 - 公布日： 2011-05-04 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种用于光刻设备的对准信号采集系统，具有照明单元，用于提供紫外波长的激光脉冲；掩模台；掩模台位置测量单元；掩模台控制单元，用于控制掩模台移动；投影物镜，用于对掩模标记进行成像；工件台；工件台位置测量单元；工件台控制单元，用于控制工件台移动；光强采集单元，用于采集掩模标记的像扫描过工件台标记时透过的光强信号；和对准操作单元，用于控制扫描参数的下发、光强和位置的同步采样，实现由光强-位置采样对组成的对准信号的拟合处理和对准位置计算
用于光刻设备对准信号采集系统方法

[发明专利]一种工件台位置测量装置与测量方法-CN201010507228.1有效
发明人：张俊 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2010-10-14 - 公布日： 2012-05-09 - 主分类号： G01B11/00 文献下载
摘要：一种工件台位置测量装置，包括：反射镜，设置于该工件台的一侧面；干涉仪，置于该工件台设有该反射镜的一侧，该干涉仪与该反射镜之间建立一外部光路，且该干涉仪用于测量该外部光路的光程；具有多个探头之传感器，该些探头沿该外部光路方向设置，与该干涉仪及该传感器电性连接，用以读取该光程以及该些探头中处于该光程内的探头测得的该外部光路外围的微环境数据，并依据所读取的该外部光路外围的微环境数据对该光程进行分段补偿，并依据补偿后的该光程计算该工件台的位置
一种工件位置测量装置测量方法

[发明专利]采样信号同步控制系统-CN202111329854.0在审
发明人：李璟;马会娟;丁敏侠;齐月静;朱世懂;张清洋 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2021-11-10 - 公布日： 2022-02-11 - 主分类号： G05B19/042 文献下载
摘要：本发明提供一种采样信号同步控制系统，包括硅片对准测量模块、以及工件台位置测量模块；其中，所述硅片对准测量模块包括通过外同步总线、内同步总线、以及管理和数据总线连接的对准测量CPU板卡、对准测量同步控制板卡、对准测量数据交换板卡、对准测量并行计算板卡、对准光电解调采集板卡；所述工件台位置测量模块包括通过自定义总线、以及管理总线连接的位置测量CPU板卡、位置测量同步控制板卡、位置测量计数板卡。
采样信号同步控制系统

[发明专利]基于OpenVPX架构的测控系统同步控制系统-CN201911211916.0有效
发明人：谢冬冬;赵晓东;李璟;齐月静;武志鹏;丁敏侠;齐威;朱世懂 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2019-11-28 - 公布日： 2020-10-09 - 主分类号： G05B19/042 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于OpenVPX架构的测控系统同步控制系统，包括：硅片对准测量分系统，内置有对准测量并行计算板卡；工件台位置测量分系统，与硅片对准测量分系统通过光纤数据通道和外同步总线实现互连；以及系统同步控制时序，基于操作系统并结合硅片对准测量分系统和工件台位置测量分系统共同实现同步控制。
基于 openvpx 架构测控系统同步控制系统

[发明专利]一种双工件台位置交换过程中驱动器切换装置-CN201210170547.7有效
发明人：杨开明;朱煜;张鸣;成荣;李鑫;穆海华;余东东;胡金春;尹文生;季国锋;蒋毅 -专利权人：清华大学
申请日： 2012-05-28 - 公布日： 2012-10-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种双工件台位置交换过程中驱动器切换装置，该双台包括一个基台及安装在基台上的两个工件台、四个激光尺、四个驱动器和两个切换开关。在双工件台位置交换过程中，初始阶段由一侧的激光尺和驱动器测量并控制工件台的运动；当两工件台运动到一定位置时，切换开关会产生一个切换信号，通过切换信号切换至对应侧的激光尺和驱动器测量并控制工件台的运动。
一种双工位置交换过程驱动器切换装置

[发明专利]一种测量装置-CN201510134144.0在审
发明人：单世宝 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2015-03-26 - 公布日： 2016-11-23 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开一种测量装置，用于光刻机工件台位置测量，所述光刻机包括曝光系统和工件台，曝光系统位于主基板上，工件台位于曝光系统下方；其特征在于，所述测量装置包括第一传感器、第二传感器、参考支架和光栅尺；所述第一传感器和第二传感器固定于所述参考支架上；所述光栅尺设置于所述主机板上；所述参考支架带动所述第一传感器和第二传感器与所述工件台同向运动，运动方向为所述第一传感器和第二传感器的测量方向；所述第一传感器测量所述参考支架与工件台之间的位置关系，所述第二传感器结合光栅尺测量所述参考支架相对于主基板的位置，通过两个测量结果得到所述工件台相对于主基板的位置。与现有技术相比较，本发明对空间的要求降低，在正常使用过程中不需要进行传感器切换，可以有效提高测量稳定性。
一种测量装置

[发明专利]工件台位置校准方法、FLS垂向定位工装及工件台测量系统-CN201910678040.4有效
发明人：陈南曙 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2019-07-25 - 公布日： 2021-06-18 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种工件台位置校准方法、FLS垂向定位工装及工件台测量系统，所述工件台位置校准方法主要通过装设于主基板上的FLS垂向定位工装，对先后装设于工件台上的多面镜工装反射镜与第一基准板进行测量，分别得到第一垂向位置与所述第二垂向位置，进而基于所述第一垂向位置与所述第二垂向位置，校准所述工件台的垂向零位。由于在多面镜工装反射镜完成距物镜像距的位置调整后，多面镜工装反射镜的上表面即与物镜像面位置一致，进而以第一垂向位置为基准，根据第二垂向位置调整工作台的垂向零位，相比现有技术，直接以第一基准板的上表面与物镜像面的关系为基准，校准精度高，故而可提高工件台的定位精度。
工件位置校准方法 fls 定位工装测量系统

[发明专利]光刻设备的垂向控制方法以及光刻设备-CN202111266434.2在审
发明人：褚占占;李煜芝;赵晓伟 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2021-10-28 - 公布日： 2023-05-02 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种光刻设备的垂向控制方法以及光刻设备，所述光刻设备的垂向控制方法包括：在扫描曝光过程中，使用基板调焦调平系统实时测量基板上表面形位置，并通过计算外推点位置把基板面形外推到物镜下方，从而获得当前时刻物镜视场下方基板面形测量值，所述基板面形测量值包含了工件台的瞬时垂向位置变化；同时，使用掩模台垂向传感器实时获得掩模台的位置变化，掩模台位置变化会引起焦面变化，把掩模台位置更新到曝光焦面上，获得当前时刻的曝光焦面；再控制工件台和物镜上可动镜片、物镜下可动镜片使基板面形和曝光焦面重合，从而能够解决面形测量时刻与曝光时刻运动台垂向位置变化对面形及焦面的影响的问题。
光刻设备控制方法以及

[发明专利]切割装置和切割装置的刀片高度校正方法和工件加工方法-CN202180009702.4在审
发明人：驿真利奈;斋藤汐里 -专利权人：株式会社东京精密
申请日： 2021-01-20 - 公布日： 2022-08-30 - 主分类号： H01L21/301 文献下载
摘要：切割装置(10)包括：工件工作台(CT)；包括刀片(16)和主轴(14)的切削单元(12)；XY方向驱动单元(50)；Z方向驱动单元(50)；第一测量仪器(18)，用于测量被保持在工件工作台的保持表面上的工件的表面的Z方向位置；第二测量仪器(20)，用于测量工件工作台的保持表面的Z方向位移；校正量计算单元，用于基于示出工件工作台的保持表面上的每个位置处的Z方向位移的工作台位移图并且基于工件的表面的Z方向位置，来计算切削单元的Z方向位置的校正量，Z方向位移已经由第二测量仪器预先地测量，Z方向位置由第一测量仪器测量；和控制单元(100)，用于当通过刀片切削工件时基于校正量来控制Z方向驱动单元。
切割装置刀片高度校正方法工件加工

[发明专利]基于回转平衡质量的动磁钢磁浮双工件台矢量圆弧换台方法及装置-CN201610023027.1在审
发明人：刘永猛;谭久彬 -专利权人：哈尔滨工业大学
申请日： 2016-01-14 - 公布日： 2016-06-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：基于回转平衡质量的动磁钢磁浮双工件台矢量圆弧换台方法及装置属于半导体制造装备技术，该装置包括支撑框架、平衡质量块、回转轴、磁浮工件台、工件台测量装置、工件台驱动装置，两个工件台工作于测量位和曝光位之间，采用平面光栅对工件台位置进行测量，工件台采用磁悬浮平面电机驱动，双工件台交换过程中，采用平面电机驱动两个工件台实现单节拍弧线快速换台；本发明解决了现有换台方案节拍多、轨迹长、起停环节多、稳定时间长等问题
基于回转平衡质量磁钢双工矢量圆弧方法装置

[发明专利]基于干涉仪测量的动线圈磁浮双工件台矢量圆弧换台方法及装置-CN201610023014.4在审
发明人：吴剑威;张银;谭久彬 -专利权人：哈尔滨工业大学
申请日： 2016-01-14 - 公布日： 2016-03-23 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：基于干涉仪测量动线圈磁浮双工件台矢量圆弧换台方法及装置属于半导体制造装备技术，该装置包括支撑框架、平衡质量块、磁浮工件台、工件台测量装置、工件台驱动装置、工件台充电装置，两个工件台工作于测量位和曝光位之间，采用激光干涉仪对工件台位置进行测量，采用双电机曲柄摇杆机构组成的主动补偿结构对平衡质量块进行运动补偿，工件台采用磁悬浮平面电机驱动，双工件台交换过程中，采用平面电机驱动两个工件台实现单节拍弧线快速换台
基于干涉仪测量线圈双工矢量圆弧方法装置

[发明专利]基于平面光栅测量的动磁钢磁浮双工件台矢量圆弧换台方法及装置-CN201610023024.8在审
发明人：刘永猛;谭久彬 -专利权人：哈尔滨工业大学
申请日： 2016-01-14 - 公布日： 2016-04-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：基于平面光栅测量动磁钢磁浮双工件台矢量圆弧换台方法及装置属于半导体制造装备技术，该装置包括支撑框架、平衡质量块、无线充电和无线通讯磁浮工件台、工件台测量装置、工件台驱动装置，两个工件台工作于测量位和曝光位之间，采用平面光栅对工件台位置进行测量，采用平面片簧和电磁阻尼器组成的被动补偿结构对平衡质量块进行运动补偿，工件台采用磁悬浮平面电机驱动，双工件台交换过程中，采用平面电机驱动两个工件台实现单节拍弧线快速换台
基于平面光栅测量磁钢双工矢量圆弧方法装置

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