专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]肖特基二极管及其制造方法-CN201510971913.2有效
  • 钱文生 - 上海华虹宏力半导体制造有限公司
  • 2015-12-22 - 2018-10-26 - H01L29/06
  • 本发明公开了一种肖特基二极管,包括接触结和位于所述接触结周侧的PN结;接触结的N区由位于场的底部的N掺杂区组成;接触结的金属形成于场去除后的N掺杂区表面。PN结的P区形成于接触结周侧的有源区中,组成接触结的N区的N掺杂区同时延伸到有源区中组成PN结的N区;PN结的P区的底部区域还延伸到场的底部并且接触结相交叠。本发明能提高接触结性能的稳定性,提高器件的击穿电压,减少器件的反向漏电。
  • 肖特基二极管及其制造方法
  • [发明专利]一种静电放电保护电路-CN201410132386.1有效
  • 陈哲宏 - 密克罗奇普技术公司
  • 2014-04-01 - 2018-02-09 - H01L27/02
  • 本发明公开了一种静电放电保护电路,包括一二极管,设置于一N井区,一包括一高浓度P掺杂区与不相邻的一高浓度N掺杂区;一(NMOS)晶体管,设置于一P井区,包括一汲极、一源极与一闸极,汲极与源极皆由高浓度N掺杂区所形成;其中P井区更包括一相邻于源极的高浓度P掺杂区,(NMOS)晶体管的汲极电性连接于二极管的高浓度N掺杂区,(NMOS)晶体管的源极与相邻的高浓度P掺杂区电性地接地,且
  • 一种静电放电保护电路
  • [发明专利]具有热防护功能的晶体管结构-CN200310104671.4无效
  • 张崇兴 - 华宇电脑股份有限公司
  • 2003-10-29 - 2005-05-04 - H01L29/78
  • 此晶体管结构的一类包括主要N晶体管、次要P晶体管以及热防护单元;次要P晶体管的漏极端与栅极端分别连接到主要N晶体管的栅极端与热防护单元;此两晶体管结构整体架构是仿效标准的N金属氧化物半导体晶体管;次要P金属氧化物半导体晶体管的源极端作为此晶体管结构的栅极端。此晶体管结构的漏极端和源极端分别为主要N金属氧化物半导体晶体管的漏极端与源极端;此热防护单元藉由感测热量、中断流过晶体管的电流以及开闭晶体管,以避免此晶体管结构的两金属氧化物半导体晶体管发生热故障。
  • 具有防护功能晶体管结构
  • [发明专利]使用栅极耦合金半场效晶体管的静电保护电路-CN02151341.4无效
  • 林锡聪;陈伟梵 - 华邦电子股份有限公司
  • 2002-11-15 - 2004-06-02 - H05F3/00
  • 本发明涉及一种使用栅极耦合金半场效晶体管(Gate-Coupled MOSFET)的电源总线静电保护电路,其所使用的半场效晶体管栅极电位包括由一反向器及一延迟时序控制电路所控制。本发明与现有的电流分流(currentshunting)静电保护装置不同,其电流分流静电保护装置在静电发生时将半场效晶体管完全导通,但本发明使用一拉降(pull-down)组件所形成的一类似分压器的电路,在静电发生时,将半场效晶体管的栅极电位限制于1至2V。此外,本发明亦较现有技术中使用栅极耦合N(BCNMOS)晶体管的静电保护装置对栅极电位具有更好的控制力,因而可以在静电发生时更有效率地触动N晶体管进入跳通状态(snapback)。
  • 使用栅极耦合半场晶体管静电保护电路

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