“型光掩模坯”专利关键词查询_检索下载_查询列表_检索列表_行业专利分布_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果3255778个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]氟化氩光掩模盒运送装置和方法-CN201110222121.7无效
发明人：毛智彪;王剑;戴韫青 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2011-08-04 - 公布日： 2012-05-02 - 主分类号： B65D81/20 文献下载
摘要：本发明提供一种运送氟化氩光掩模盒的装置和方法，该装置至少包括：一氟化氩光掩模运送小车，小车上放置至少一个氟化氩光掩模盒，小车上还有一个安全气柜用以存放已放置惰性气体源的气体钢瓶，气体钢瓶与氟化氩光掩模盒之间使用气体管路连接本发明使用内置有惰性气体源的运输装置运送氟化氩光掩模盒的方法，从而解决了在生产中在光掩模盒充气存储柜和光刻机之间运送氟化氩光掩模盒没有惰性气体充气的问题，并能防止氧气从过滤膜进入氟化氩光掩模盒，避免掩模板上面产生雾状污染物,可以有效地延长氟化氩光掩模盒的使用寿命。
氟化氩光掩模盒运送装置方法

[发明专利]图案复制掩模、半导体装置制造方法及掩模图案制作用程序-CN03154842.3无效
发明人：坂井淳二郎 -专利权人：株式会社瑞萨科技
申请日： 2003-08-15 - 公布日： 2004-05-19 - 主分类号： H01L21/768 文献下载
摘要：在双镶嵌结构形成时抑制沟道形成用的光刻胶图案(光刻胶掩模)上出现的通孔附近的图案不良。图案复制掩模101的掩模图案110由遮光图案111和透光图案112构成。另外，掩模101用于负型光刻胶，但对于正型光刻胶用的掩模将遮光图案111和光透过图案112相互调换即可。
图案复制半导体装置制造方法制作程序

[发明专利]用于平板显示器的相移掩模坯件和光掩模-CN201310319871.5有效
发明人：南基守;李东镐;朴渊洙;徐成旼;金荣善 -专利权人： S&S技术股份有限公司
申请日： 2013-07-26 - 公布日： 2014-02-12 - 主分类号： G03F1/26 文献下载
摘要：为了制造大面积平板显示器（FPD），使用包含至少两个膜的多层型的层或连续层来形成相移层，该膜含有金属和轻元素，例如氮（N）、氧（O）和碳（C）。该多层型的层或连续层是通过在透明衬底上堆叠具有不同组成和不同蚀刻速率的至少两个膜来形成。
用于平板显示器相移掩模坯件光掩模

[实用新型]光掩模-CN200820155456.5有效
发明人：杨志刚 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请日： 2008-11-17 - 公布日： 2009-09-16 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：一种光掩模，包括：与光掩模的透光基底连接形成密闭空间的框架，所述密闭空间充满可溶解缺陷颗粒且不会腐蚀光掩模图形的溶剂，所述光掩模图形浸没在所述溶剂之中，所述框架包括相对光掩模图形设置的透光部件。所述光掩模表面不会产生缺陷颗粒，使用寿命较长。
光掩模

[发明专利]光掩模和制备电子元件的方法-CN98125533.7无效
发明人： D·C·惠勒;J·A·曼德曼;R·D·米 -专利权人：国际商业机器公司
申请日： 1998-12-21 - 公布日： 2003-12-24 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：提供一种光掩模和使用光掩模制成尺寸可控的光致抗蚀剂图形。使用本发明的掩模在具体控制的散焦条件下曝光其上覆盖光致抗蚀剂的晶片，以提供尺寸可控的光致抗蚀剂图形剖面。包括在掩模上至少一个光掩蔽图形的一面上的多相移结构的掩模提供了能穿过光的掩模，该掩模在光掩蔽材料那面上具有多个相位，产生尺寸可控的光致抗蚀剂图形剖面。
光掩模制备电子元件方法

[发明专利]光掩模上的EUV防护膜及其安装方法-CN202110338232.8在审
发明人：魏文耀;吕启纶;李信昌 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2021-03-30 - 公布日： 2021-10-19 - 主分类号： G03F1/62 文献下载
摘要：本申请涉及光掩模上的EUV防护膜及其安装方法。在一种从光掩模拆卸防护膜的方法中，将具有防护膜的光掩模放置在掩模支架上。防护膜通过多个微结构附接于光掩模。在施加拉力以将防护膜从光掩模分离之前或者在未施加拉力的情况下，通过向多个微结构施加力或能量来使多个微结构从光掩模脱离。从光掩模拆卸防护膜。在前述和以下实施例中的一个或多个中，多个微结构由弹性体制成。
光掩模上 euv 防护及其安装方法

[发明专利]用于存贮和输送光掩模的设备和方法-CN200710004452.7无效
发明人：埃米丽·伊丽沙白·加拉切尔;路易斯·M.·金特 -专利权人：国际商业机器公司
申请日： 2007-01-23 - 公布日： 2007-08-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种存贮和输送光掩模的设备和方法。光掩模存贮容器具有流体密封壁、用于将光掩模移动到容器中和从容器中移出的开口和用于存贮流体的可密封入口。该方法包括通过开口将光掩模放置在存贮容器中，通过入口将存贮流体导入到容器中，封闭容器开口并密封存贮流体入口，其中存贮流体相对于光掩模基本上是惰性的。该方法还包括打开容器开口，并在从存贮容器中去除光掩模的同时，使用含乙醇气体接触光掩模表面，以便从光掩模表面上去除存贮流体。
用于存贮输送光掩模设备方法

[发明专利]单片流体喷射装置的制造方法-CN200610121676.1无效
发明人：洪益智 -专利权人：明基电通股份有限公司
申请日： 2006-08-28 - 公布日： 2008-03-05 - 主分类号： C23C28/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种单片流体喷射装置的制造方法，主要包括：提供基底；沉积第一负型感光高分子层覆盖在该基底上；形成图案的光掩模转移层(transfer layer)覆盖在该第一负型感光高分子层上；沉积第二负型感光高分子层覆盖在该图案的光掩模转移层与外露的该第一负型感光高分子层上；对该第二与该第一负型感光高分子层进行曝光步骤，以同时定义喷孔结构与流体腔结构。
单片流体喷射装置制造方法

[发明专利]半色调相移光掩模坯、制造方法和半色调相移光掩模-CN201610786641.3有效
发明人：高坂卓郎 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2016-08-31 - 公布日： 2021-02-05 - 主分类号： G03F1/26 文献下载
摘要：提供半色调相移光掩模坯，其包括透明基材和其上的具有150‑200°的相移和9‑40％的透射率的半色调相移膜。
色调相移光掩模坯制造方法光掩模

[发明专利]半色调相移光掩模坯、制造方法和半色调相移光掩模-CN201710898801.8有效
发明人：高坂卓郎;稻月判臣;金子英雄 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2017-09-28 - 公布日： 2021-06-25 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：在使用含硅靶、惰性气体和含氮反应性气体的反应性溅射期间，通过如下绘制迟滞曲线：扫描反应性气体的流量，并且将扫描期间的溅射电压或电流相对于反应性气体的流量作图。在对应于大于提供迟滞的反应性气体流量的下限～小于上限的范围的区域中溅射的步骤中，靶功率、惰性气体流量和/反应性气体流量连续或逐步地增加或降低。包括含过渡金属、硅和氮的层的半色调相移膜在光学性质的面内一致性上得以改善。
色调相移光掩模坯制造方法光掩模

[发明专利]一种改善敏感光刻胶形貌的复合型掩模版及其制作方法-CN201811204227.2在审
发明人：邵志忙;王晓龙;吴鹏;陈力钧 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2018-10-16 - 公布日： 2019-01-08 - 主分类号： G03F1/32 文献下载
摘要：本发明提供一种改善敏感光刻胶形貌的复合型掩模版及其制作方法，属于光刻掩膜版的制作及应用技术领域，包括：提供一预处理结构，预处理结构包括石英层、MoSi层、Gr层；于预处理结构上涂覆光刻胶层，根据预设曝光形状对光刻胶层进行曝光形成窗口；以光刻胶层为掩膜对Gr层和MoSi层进行刻蚀，以得到预处理复合型掩膜版；去除预处理复合型掩膜版中的光刻胶层，以得到复合型掩膜版。本发明的有益效果：通过设计复合型掩模版，既保留了双极型掩模版暗区遮光好的优势，又采用强度衰减相掩模版来形成更陡峭的光强变化，优势互补，通过使用复合型掩膜版能够成功解决敏感光刻胶形貌问题，得到更直的光阻形貌，改善了对光敏感的光阻形貌。
形貌掩模版掩膜版预处理结构光刻胶层敏感光预处理光阻制作应用技术领域光刻掩膜版光强变化曝光形状强度衰减刻胶层石英层双极型暗区刻蚀涂覆掩膜预设遮光去除陡峭敏感曝光保留成功

[发明专利]光掩模缺陷的定位装置及定位方法-CN200910197803.X有效
发明人：葛海鸣 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请日： 2009-10-28 - 公布日： 2011-05-11 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：一种定位装置，包括：基座；气浮式X-Y两坐标平面移动台；光掩模放置台，设置在该移动台上，并且包括固定台和旋转台，前者固定在移动台上，旋转台与移动台可旋转地连接；固定台上设置X-Y方向反射部件和显示移动台X-Y方向的标记；旋转台上设置若干真空孔，用于吸附固定光掩模版；光掩模上设置粗、细对准标记；激光定位装置，设置在基座上，发出光照射到所述反射部件并接受反射光以测定光掩模放置台位置；光掩模激光对准装置，设置在光掩模放置台上方，寻找并对准置于光掩模放置台上的光掩模的粗对准标记和细对准标记，以测定光掩模的精确位置。
光掩模缺陷定位装置方法

[发明专利]掩膜版组件及掩膜版保护组件去除方法-CN201811454862.6在审
发明人：高丁山;唐光亚 -专利权人：芯恩（青岛）集成电路有限公司
申请日： 2018-11-30 - 公布日： 2020-06-09 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本发明提供一种掩膜版组件及掩膜版保护组件的去除方法，掩膜版组件包括，光掩模版；掩膜版保护组件，掩膜版保护组件通过粘结物粘接在光掩模版上；以及冷却装置，冷却装置至少将粘结物冷却，从而使得粘结物脱离所述光掩模版通过上述技术方案，本发明的掩膜版组件及掩膜版保护组件去除方法，通过冷却的方式使得光掩模版和保护框之间的粘结物脱离光掩模版，可以是使二者之间的粘结物硬化，从而使得粘结物脱离光掩模版，可以使得粘结物与保护框一同被移除，上述方式使得粘结物不会残留在光掩模版上，从而可以有效防止光掩模版的污染，防止光掩模版报废，提升光掩模版的清洗良率。
掩膜版组件保护去除方法

[实用新型]一种光掩模板贴膜装置-CN201320468817.2有效
发明人：凌震军 -专利权人：上海凸版光掩模有限公司
申请日： 2013-08-01 - 公布日： 2014-02-05 - 主分类号： G03F1/62 文献下载
摘要：本实用新型提供一种光掩模板贴膜装置，所述光掩模板贴膜装置至少包括：底座；可调支架，设于所述底座上，且所述可调支架的中心具有一容置空间；用来放置待贴保护膜的膜片槽，设于所述容置空间内；用于支撑光掩模板的弹性支点，设于所述可调支架上；活动压板，压于所述光掩模板上；所述活动压板包括：至少两个压条、第一压板和第二压板。通过活动压板压于光掩模板上，使光掩模板表面为机械受力且受力较为均匀，防止光掩模板与膜框之间出现缝隙；另外，由于手指不直接接触光掩模板，光掩模板上无手指印，外观美观，而且利用该贴膜装置进行贴膜工艺，工艺受控该光掩模板贴膜装置结构简单，适合工业化应用。
一种模板装置

[发明专利]光掩模、光掩模制造方法以及光掩模缺陷修正方法-CN200910003232.1无效
发明人：须田秀喜 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2009-01-21 - 公布日： 2009-08-05 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：光掩模缺陷修正方法、光掩模制造方法、相移掩模制造方法、光掩模、相移掩模、光掩模组以及图案转印方法。在第1光掩模(1)所形成的第1转印图案中产生的图案缺陷(4、5)中，仅对如下区域中的缺陷(4)进行修正，即进行使用第1光掩模(1)对被转印体进行的转印、和与第1光掩模(1)组合使用向同一被转印体转印第2转印图案的第2光掩模对被转印体进行的转印这两者时，在被转印体上第1转印图案所包含的图案中，通过第2转印图案的转印而不形成图案的区域之外的区域。
光掩模制造方法以及缺陷修正