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[发明专利]转换的均匀性控制-CN200810003145.1无效
发明人： R·A·戈特肖;R·J·斯特格尔 -专利权人：兰姆研究有限公司
申请日： 2001-06-08 - 公布日： 2008-08-13 - 主分类号： H01J37/00 文献下载
摘要：一种用来在加工室内部分配分量的分量供给机构。此分量被用来对加工室中的工件进行加工。此分量供给机构包括多个用来将分量输出到加工室的所希望区域的分量输出。此分量供给机构还包括耦合到多个分量输出的空间分配开关。此空间分配开关被设置成将分量引导到多个分量输出中的至少一个。此分量供给机构还包括耦合到空间分配开关的单一分量源。此单一分量源被设置成将分量供应到空间分配开关。
转换均匀控制

[发明专利]亮度均匀性控制方法、亮度均匀性控制装置以及电子设备-CN201911005497.5有效
发明人：任娟;周明锋 -专利权人：上海和辉光电股份有限公司
申请日： 2019-10-22 - 公布日： 2022-06-17 - 主分类号： G09G3/3225 文献下载
摘要：本发明公开了一种亮度均匀性控制方法、亮度均匀性控制装置以及电子设备。该亮度均匀性控制方法用于对显示面板的子像素亮度进行控制，显示面板中的子像素呈阵列排布；该亮度均匀性控制方法包括：在预设灰阶画面下，确定亮度基准点的数值；亮度基准点为显示面板中任意位置处的子像素；在预设灰阶画面下本发明的技术方案，可提高显示亮度均匀性，从而可提高显示面板的显示品质。
亮度均匀控制方法装置以及电子设备

[发明专利]掺配均匀性控制方法-CN202110796358.X有效
发明人：付永民;靳亚伟;范磊;马媛媛;张根勤;孙祎;徐卫东;王小明;侯俊峰;耿娜 -专利权人：河南中烟工业有限责任公司
申请日： 2021-07-14 - 公布日： 2022-12-27 - 主分类号： A24B3/08 文献下载
摘要：本发明公开了一种掺配均匀性控制方法，本发明的设计构思在于，针对现有的掺配系统掺配从秤瞬时流量波动大、瞬时流量精度较差的问题，将掺配系统的掺配从秤计量方式基于掺配主秤的运行状态分为三个独立阶段进行区别设置，利用瞬时精度误差和累计精度误差进行控制，具体是增加了短时误差控制和累计误差补偿，以此提高瞬时掺配比例的控制精度，有效改善了掺配均匀性。本发明通过对掺配系统在料头、料中和料尾的分阶段精准控制，在保障掺配均匀性的同时，减少了系统瞬时精度的波动，从而降低了整个系统的误差，避免了批间不均现象。
均匀控制方法

[发明专利]具有均匀性控制的蚀刻-CN200580038231.0无效
发明人： S·卡瓦古基;K·塔克施塔 -专利权人：兰姆研究有限公司
申请日： 2005-08-17 - 公布日： 2007-10-17 - 主分类号： H01L21/311 文献下载
摘要：提供了一种在晶片上形成半导体器件的方法。蚀刻层形成在晶片上面。光刻胶掩模形成在蚀刻层上面。仅环绕晶片外边缘的光刻胶掩模被除去，以暴露环绕晶片外边缘的蚀刻层。包括含碳和氢物种的沉积气体被提供。从沉积气体形成等离子体。聚合物层被沉积在环绕晶片外边缘的暴露蚀刻层上，其中聚合物由从沉积气体形成的等离子体形成。蚀刻层蚀刻通过光刻胶掩模，同时消耗沉积在环绕晶片外边缘的暴露蚀刻层上的光刻胶掩模和聚合物。
具有均匀控制蚀刻

[发明专利]焦炭粒度均匀性的控制方法-CN201610320854.7有效
发明人：鲍俊芳;王元生;尹腾;薛改凤;常红兵;梁尚国;任玉明;项茹;宋子逵;张雪红;陈鹏;陈细涛;詹立志 -专利权人：武汉钢铁有限公司
申请日： 2016-05-16 - 公布日： 2019-04-02 - 主分类号： C10B57/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种焦炭粒度均匀性的控制方法。该方法包括如下步骤：1)确定配煤方案为：气煤5～30％，1/3焦煤15～30％，肥煤5～20％，焦煤20～50％，瘦煤3～15％；2)控制配合煤的级配，使配合煤中各粒级满足：2.1)粒级≥3mm部分重量百分比本发明通过合理的配煤并对配合煤的级配进行合理控制，在炼焦时可以形成紧密堆积，降低焦炭的气孔率，有利于焦炭裂纹的正常生成及延伸，从而得到粒度均匀的焦炭。
焦炭粒度均匀控制方法

[实用新型]网面风速均匀性控制装置-CN201220686693.0有效
发明人：姜林忠;陈秋荣;陈志华;苏汉明 -专利权人：福建省龙岩金叶复烤有限责任公司
申请日： 2012-12-13 - 公布日： 2013-06-05 - 主分类号： A24B3/04 文献下载
摘要：网面风速均匀性控制装置，涉及叶片复烤回潮设备。提供一种可控制网面风速均匀性，提高网面整体风速，使烟片含水率均匀性和平衡含水率满足质量要求的网面风速均匀性控制装置。
风速均匀控制装置

[发明专利]用于控制晶圆均匀性的设备-CN201810672211.8在审
发明人：彭筱华;岑翰儒 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2018-06-26 - 公布日： 2019-06-04 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：在此揭示一种用于控制晶圆均匀性的设备。在一实施例中，此设备包括多个温度处理元件及处理器。每一个温度处理元件个别对应于晶圆的一不同部分，使得此多个温度处理元件是对应于晶圆的不同部分。每一个温度处理元件配置为单独地控制晶圆的对应部分的温度。处理器判定晶圆的至少一部分以进行温度均匀性控制，并指示对应于晶圆的此至少一部分的至少一个温度处理元件，以调整晶圆的此至少一部分的温度，从而控制晶圆的温度均匀性。
晶圆温度处理均匀性处理器温度均匀性控制温度均匀性元件配置单独地判定

[发明专利]控制水雾均匀性的方法和装置-CN201310295899.X有效
发明人：李志茂;王大伟;李革萍;白穆;谭正文 -专利权人：中国商用飞机有限责任公司;中国商用飞机有限责任公司上海飞机设计研究院
申请日： 2013-07-15 - 公布日： 2013-12-25 - 主分类号： G01M9/04 文献下载
摘要：本发明提供一种以目标反馈式方式控制水雾均匀性的方法，水雾由喷雾装置的多个喷嘴所形成，方法包括如下步骤：（1）将包括网格的测试板放入水雾经过的通道中，使水雾经过网格，测试板具有所需要的面积；（2）在水雾经过网格的一段时间后，从水雾中取出测试板，对网格的不同部位上的结冰厚度进行测量，从而判断不同部位上的结冰厚度的均匀性是否满足要求；（3）如果均匀性测量结果超出了允许值，进行调整步骤，调整步骤是降低风洞速度、对喷雾系统的供水和供气参数重新进行调整的至少一项，然后使用测试板继续作均匀性检查；（4）均匀性测量结果还不符合要求就重复步骤（1）至（3），直至水雾的均匀性符合要求。
控制水雾均匀方法装置

[发明专利]镀层合金化均匀性的控制方法-CN200710045513.4无效
发明人：李俊;张理扬;林秀贞 -专利权人：宝山钢铁股份有限公司
申请日： 2007-08-31 - 公布日： 2009-03-04 - 主分类号： C23C2/40 文献下载
摘要：本发明提供一种控制镀层合金化均匀性的方法，该方法通过在气刀与顶辊之间设置至少一套带钢稳定装置，并调整气刀参数，以提高带钢镀层厚度的均匀性；使带钢温度均匀地进入合金化加热炉，而后进行均匀均热和/或均匀冷却，以提高镀层合金化的均匀性。本发明通过提高带钢在气刀处的稳定性确保带钢表面镀层厚度均匀，同时提高合金化加热前、合金化均热过程和合金化冷却过程中带钢温度沿带钢宽度方面的均匀性，以实现带钢镀层均匀合金化。通过使用本发明技术制造出的合金化热镀锌钢板，可以确保镀层合金化的均匀性，特别适合应用于汽车内、外板和家电外板。
镀层合金均匀控制方法

[发明专利]用于边缘抛光均匀性控制的设备-CN02807536.6无效
发明人：许苍山;杰夫·加斯帕雷奇;罗伯特·塔夫;肯尼思·J·巴勒;保罗·斯塔谢夫兹;埃瑞克·H·恩达尔;特拉维斯·罗伯特·泰勒 -专利权人：拉姆研究公司
申请日： 2002-03-29 - 公布日： 2004-05-26 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：前导区和尾延区被独立控制，并且被设计得独立地从第一多个输出孔和第二多个输出孔输出受控的流体流。
用于边缘抛光均匀控制设备

[发明专利]控制平行合股纱长短均匀性的装置-CN201511027706.8在审
发明人：李菲;曹柏青;杨彦斌;喻克洪 -专利权人：四川航天拓鑫玄武岩实业有限公司
申请日： 2015-12-30 - 公布日： 2016-03-23 - 主分类号： D02G3/28 文献下载
摘要：本发明公开了一种控制平行合股纱长短均匀性的装置，它主要由纱团架、调速单元、速度反馈单元、牵引动力单元和PLC控制单元组成，所述纱线固定在纱团架上，并且依次穿过调速单元、速度反馈单元和牵引动力单元，所述PLC控制单元分别与调速单元、速度反馈单元和牵引动力单元进行通讯，通过调整调整单元的速度，使每两个调速滚筒之间的没跟纱线处于微张紧状态，从而能保证每根纱线独立的运行状态，以及在单位时间内通过的长度的一致性，可有效防止纱线运行时互相干扰
控制平行合股长短均匀装置

[发明专利]柔性磁控溅射镀膜横向均匀性控制装置-CN201710402880.9在审
发明人：武良辰 -专利权人：南京沪友冶金机械制造有限公司
申请日： 2017-06-01 - 公布日： 2017-08-01 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本技术公开了一种柔性磁控溅射镀膜横向均匀性控制装置，喷嘴排上设有气体喷嘴，磁控溅射程度监测探头有多个，用于检测气体喷嘴的溅射程度，磁控溅射程度监测探头通过屏蔽电信号输出线与磁控溅射程度分析比较装置输入端相连接，磁控溅射程度分析比较装置的输出端通过屏蔽电信号输出线与阀门开度控制装置相连接，阀门开度控制装置用于控制电动阀门的开闭度，每个气体喷嘴上均单独设有电动阀门，气体气源通过不锈钢管依次与气体压力稳压装置、电动阀门本技术装置能控制横向各点溅射程度一致，从而控制对应点气体分布密度，达到控制横向相应各点沉积率的目的，使得横向各点膜性能指标均匀一致。
柔性磁控溅射镀膜横向均匀控制装置

[发明专利]高强耐蚀镁合金组织均匀性控制方法-CN201911086299.6在审
发明人：夏祥生;林军;康凤;胡传凯;吴洋;舒大禹;黄树海 -专利权人：中国兵器工业第五九研究所
申请日： 2019-11-08 - 公布日： 2020-02-11 - 主分类号： B21D22/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种高强耐蚀镁合金组织均匀性控制方法，包括以下步骤：（1）下料；（2）加热；（3）压型；（4）镦粗；（5）旋转坯料，重复3‑4步骤。本发明的优点是制备构件组织细小均匀，避免了常规开坯锻造开裂、边部鼓形等缺陷，成品率显著提高，模具制备及工艺操作简单，成本低，可大规模工业生产。
组织均匀性控制耐蚀镁合金工艺操作构件组织开坯锻造模具制备成品率边部鼓形坯料下料压型镦粗制备加热重复

[发明专利]化学汽相沉积膜轮廓均匀性控制-CN201210271435.0有效
发明人：郭铭修;李志聪;周友华;蔡明志;陈嘉和;林进祥 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2012-07-31 - 公布日： 2013-06-12 - 主分类号： C23C16/52 文献下载
摘要：本公开提供了控制化学汽相沉积(CVD)膜的轮廓均匀性的方法和系统。
化学沉积轮廓均匀控制

[发明专利]用于控制电镀层厚度均匀性的装置-CN201110240865.1有效
发明人：朱虬 -专利权人：无锡鼎亚电子材料有限公司
申请日： 2011-08-22 - 公布日： 2011-12-21 - 主分类号： C25D21/12 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于控制电镀层厚度均匀性的装置，包括V形槽，其特征在于所述V形槽有两根，两根V形槽沿开口方向对置设置，所述两根V形槽之间用两根玻璃棒连接。本发明用于材料电镀过程中控制电镀层厚度均匀性，适用于各种电镀工艺，减少设备使用，通用性广，使电镀层更加均匀。
用于控制镀层厚度均匀装置

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