专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]印刷装置以及印刷方法-CN202011339625.2在审
  • 萱原直树 - 精工爱普生株式会社
  • 2020-11-25 - 2021-05-28 - B41J2/01
  • 要求在形成有图案的布料可能存在伸缩、歪斜的状况下想办法与图案对应地进行准确的印刷。印刷装置具备:输送,输送形成有图案的布料;拍摄,对由所述输送输送的所述布料进行拍摄;印刷,对由所述输送输送的所述布料进行印刷;以及控制,所述控制部将表示所述图案的第一图像数据记录于规定的存储,基于所述第一图像数据与通过所述拍摄对所述布料进行拍摄而生成的第二图像数据的对比,提取所述第二图像数据中与所述图案对应的图案区域,并对表示应与所述图案重叠印刷的图像的第三图像数据进行校正以与所述图案区域的形状匹配,并且使所述印刷对所述布料印刷校正后的所述第三图像数据。
  • 印刷装置以及方法
  • [发明专利]投射装置和投射系统-CN202111581361.6在审
  • 李斌;肖锟;高婕;黄海 - 赛万特科技有限责任公司
  • 2021-12-22 - 2023-06-27 - G03B21/28
  • 该投射装置包括:第一光源,发出第一光束;衍射,其上设置有第一预定图案,衍射对从第一光源发出的第一光束的至少一分进行衍射,以形成与第一预定图案对应的第一图案;以及反射,其上设置有一个或多个第二预定图案,反射对入射到其上的第二光束进行反射,以形成与一个或多个预定图案对应的第二图案,其中,第一图案和第二图案中的一者或两者叠加形成投射图案
  • 投射装置系统
  • [实用新型]投射装置和投射系统-CN202123250530.6有效
  • 李斌;肖锟;高婕;黄海 - 赛万特科技有限责任公司
  • 2021-12-22 - 2022-06-24 - G03B21/28
  • 该投射装置包括:第一光源,发出第一光束;衍射,其上设置有第一预定图案,衍射对从第一光源发出的第一光束的至少一分进行衍射,以形成与第一预定图案对应的第一图案;以及反射,其上设置有一个或多个第二预定图案,反射对入射到其上的第二光束进行反射,以形成与一个或多个预定图案对应的第二图案,其中,第一图案和第二图案中的一者或两者叠加形成投射图案
  • 投射装置系统
  • [发明专利]开关装置-CN201410426040.2在审
  • 三浦玲贵 - 株式会社有信
  • 2014-08-26 - 2015-03-18 - H01H13/10
  • 本发明提供一种开关装置,其除了在活动触点与固定触点接触的同时进行接通以外,即使在作为活动触点的导电倾斜而与固定触点接触的情况下,与导电的接触也基本同时进行接通。固定触点(19)由共同触点(21)和第1、第2触点(22、23)构成,该共同触点(21)由呈辐射状设置的带状图案构成,该第1、第2触点(22、23)夹持该共同触点(21)的特定的带状图案(21ab)而对称地设置,第1触点(22)由设置于上述带状图案之间的第1触点图案(22a、22b)和与上述第1触点图案(22b)电连接的第1分离触点图案(22c)形成,第2触点由设置于上述带状图案之间的第2触点图案(23a、23b)和与上述第2触点图案(23b)电连接的第2分离触点图案(23c)形成。
  • 开关装置
  • [发明专利]共模滤波器-CN201710522119.9在审
  • 李光职;梁主欢;徐正旭;尹虎珍;朴惠宪 - 三星电机株式会社
  • 2017-06-30 - 2018-06-29 - H01F27/24
  • 共模滤波器包括:主体,包含滤波;第一至第四外部电极,布置于主体的外侧;第一线圈,布置于滤波,包含螺旋形的第一电极图案,两端电连接于第一外部电极和第二外部电极;第二线圈,布置于滤波,包括螺旋形的第二电极图案,两端电连接于第三外部电极和第四外部电极;以及绝缘层,在滤波以包围第一电极图案和第二电极图案的方式布置,在与第一电极图案和第二电极图案的中央对应的位置形成有沟槽,其中绝缘层包括:内侧余裕,定义为位于在第一电极图案和第二电极图案中的最内侧布置的部分的内侧的区域;以及外侧余裕,定义为位于在第一电极图案和第二电极图案中的最外侧布置的部分的外侧的区域。
  • 图案第二电极第一电极外部电极滤波共模滤波器绝缘层电连接两端部螺旋形中央部包围
  • [发明专利]光掩模的制造方法、光掩模以及显示装置的制造方法-CN201710793919.4有效
  • 山口昇 - HOYA株式会社
  • 2017-09-06 - 2020-12-29 - G03F1/00
  • 一种光掩模的制造方法,该光掩模具有对透明基板上的遮光膜和半透光膜分别进行图案形成而形成的转印用图案,该转印用图案具有透光、半透光和遮光,该制造方法具有:遮光膜图案形成工序,对透明基板上形成的遮光膜进行图案形成来形成遮光膜图案;半透光膜形成工序,在包含遮光膜图案的透明基板上形成半透光膜;透光形成工序,部分地去除半透光膜、或半透光膜和遮光膜,从而形成透光;半透光膜去除工序,去除遮光膜图案上的半透光膜,在去除工序,在成为半透光的区域形成抗蚀剂图案,该抗蚀剂图案在半透光和遮光相邻的部分,在遮光侧有附加了规定尺寸的余裕的尺寸。
  • 光掩模制造方法以及显示装置
  • [发明专利]图案检查装置及图案检查方法-CN201410053709.8无效
  • 藤原成章 - 大日本网屏制造株式会社
  • 2014-02-17 - 2014-08-20 - G01N21/956
  • 本发明涉及图案检查装置及图案检查方法。图案检查装置具有:第一图像获取,将来自第一光源的光照射至薄膜状的透明基材的形成有图案的第一主表面,使第一受光接受该光被图案上表面反射的反射光,获取上表面反射图像;第二图像获取,将来自第二光源的光照射至透明基材的第二主表面,使第二受光接受该光被图案下表面反射的反射光,获取下表面反射图像,该图案下表面是与第一主表面接触的面;检查,基于上表面反射图像和下表面反射图像来获取图案的检查结果。通过对基于来自图案上表面的反射光而形成的上表面反射图像和基于来自图案下表面的反射光而形成的下表面反射图像进行比较,能够容易地检查出图案要素下端的变粗或变细情况。
  • 图案检查装置方法
  • [发明专利]半导体器件-CN202210135336.3在审
  • 李斗铉;申宪宗;金善培;郭玟燦;朴珍煐;朴贤镐 - 三星电子株式会社
  • 2022-02-14 - 2022-12-06 - H01L21/8238
  • 一种半导体器件可以包括:衬底上的有源图案;所述有源图案上的源/漏图案;被连接到所述源/漏图案的沟道图案;所述沟道图案上的栅电极;所述源/漏图案上的有源接触;所述栅电极上的第一下互连线;以及在所述有源接触上并且与所述第一下互连线在相同高度上的第二下互连线栅电极可以包括电极主体和电极突起,其中电极突起部从所述电极主体的顶表面突起并且与其上方的第一下互连线接触。有源接触可以包括接触主体和接触突起,其中接触突起部从所述接触主体的顶表面突起并且与其上方的第二下互连线接触。
  • 半导体器件
  • [发明专利]半导体装置-CN202110823416.3在审
  • 姜明吉;金洞院;朴雨锡;赵槿汇;许盛祺 - 三星电子株式会社
  • 2021-07-21 - 2022-02-18 - H01L29/78
  • 提供了半导体装置,所述半导体装置包括:第一有源图案,包括在第一方向上延伸的第一下图案和与第一下图案间隔开的第一片状图案;以及第一栅电极,在第一下图案上,第一栅电极在与第一方向不同的第二方向上延伸并且围绕第一片状图案,其中,第一下图案包括彼此背对的第一侧壁和第二侧壁,第一下图案的第一侧壁和第一下图案的第二侧壁中的每个在第一方向上延伸,第一栅电极在第二方向上与第一下图案的第一侧壁叠置第一深度,第一栅电极在第二方向上与第一下图案的第二侧壁叠置第二深度
  • 半导体装置
  • [实用新型]一种便携式标示灯-CN202120038908.7有效
  • 赖贵香 - 赖贵香
  • 2021-01-07 - 2021-09-28 - G09F13/04
  • 本实用新型公开了一种便携式标示灯,包括灯体和与灯体连接的标示;灯体包括发光、灯罩和固定;发光通过固定固定安装在灯罩内;标示上设有标示图案,标示图案设置在发光的表面。通过设置灯体与标示,发光部发出的光线能穿过标示,形成与标示图案形状一致的光斑,达到传递图案信息的效果,提高灯具与标示图案的组合灵活性,增强便携式标示灯的指引性和使用便利性。
  • 一种便携式标示

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