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[发明专利]图案形成装置以及图案形成方法-CN201410250180.9在审
发明人：中川良幸 -专利权人： 大日本网屏制造株式会社
申请日： 2014-06-06 - 公布日： 2015-01-21 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种能够在基板上以良好的形状形成线图案的图案形成装置以及图案形成方法。该图案形状装置具有气流吹送单元(1C)和图案整形单元中的至少一个，其中，所述气流吹送单元(1C)与开始喷出所述涂敷液以及停止喷出所述涂敷液相对应地朝向所述基板(W)的在第一方向(X)上比向所述基板(W)供给所述涂敷液的供给位置(P1)更靠上游侧的表面喷射气体，并在所述涂敷液喷嘴(2)的喷出口(21)和所述基板(W)的表面的中间，向所述涂敷液的液流吹送气流(AF)；所述图案整形单元向形成在所述基板(W)的表面上的图案(LP)呈脉冲状喷射气体来进行整形。
图案形成装置以及方法

[发明专利]基板处理装置以及基板处理方法-CN201280072046.3有效
发明人：桥本光治;宫城雅宏;高桥光和 -专利权人： 大日本网屏制造株式会社
申请日： 2012-09-07 - 公布日： 2014-12-10 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：基板处理装置(1)具有：基板保持单元(5)，其将基板保持为水平姿势；板(8)，其具有水平且平坦的液体保持面(11)，所述液体保持面(11)具有与被所述基板保持单元(5)保持的基板的主面相同或比该主面大的大小，且与所述基板的主面的下方相向；处理液供给单元(20)，其用于向所述液体保持面(5)供给处理液；移动单元(29)，其使所述基板保持单元(5)以及所述板(8)相对移动，来使基板的主面与液体保持面接近或分离；控制单元(50)。控制单元(50)控制所述处理液供给单元(20)以及所述移动单元(29)，执行通过所述处理液供给单元(20)向所述液体保持面(11)供给处理液，在所述液体保持面上形成处理液液膜的处理液液膜形成工序、通过所述移动单元(29)使所述基板的主面与所述液体保持面(11)接近，由此使基板的主面与所述处理液液膜接触的接触工序、在执行所述接触工序后维持处理液与所述基板的主面接触的状态的接触维持工序。
处理装置以及方法

[发明专利]狭缝喷嘴、基板处理装置及狭缝喷嘴的制造方法-CN201410053481.2有效
发明人：平井孝典;高木善则 -专利权人： 大日本网屏制造株式会社
申请日： 2014-02-17 - 公布日： 2014-10-01 - 主分类号： B05C5/00 文献下载
摘要：本发明提供一种狭缝喷嘴、基板处理装置及狭缝喷嘴的制造方法，可防止处理液的漏出。在夹入垫片而使喷嘴盖部贴合于喷嘴本体部的构造体的两端安装侧板而制作狭缝喷嘴。在喷嘴盖部的上侧端部形成四棱柱形状的缺口部。在垫片的上侧端部也形成小于缺口部的剖面的缺口。在缺口部内填装橡胶，并借由按压构件而按压橡胶，由此将橡胶向喷嘴盖部及喷嘴本体部按压。并且，橡胶的一部分将垫片夹入且被按压至喷嘴本体部。由此，橡胶发生变形而填充于缺口部内，形成于垫片与侧板之间的处理液的漏出流路，即间隙，由橡胶而堵塞。
狭缝喷嘴处理装置制造方法

[发明专利]图案转印系统以及图案转印方法-CN201410056632.X有效
发明人：富藤幸雄;上代和男;南茂树 -专利权人： 大日本网屏制造株式会社
申请日： 2014-02-19 - 公布日： 2014-10-01 - 主分类号： B41M1/06 文献下载
摘要：本发明提供一种图案转印系统以及图案转印方法。本发明的图案转印系统包括：第一清洗部，清洗橡皮布及印刷版；涂布部，对橡皮布涂布转印剂；转印部，通过将涂布着转印剂的橡皮布及印刷版贴合，而对橡皮布转印图案；以及转印部，通过将转印有图案的橡皮布贴合在基板上，而对基板转印图案。此外，图案转印系统包括交接搬送部，所述交接搬送部将已由转印部对橡皮布转印图案的印刷版、及已由转印部对基板转印图案的橡皮布朝向第一清洗部搬送。
图案系统以及方法

[发明专利]描画装置以及描画方法-CN201410125769.6有效
发明人：城田浩行;重本宪;永井妥由 -专利权人： 大日本网屏制造株式会社
申请日： 2014-03-31 - 公布日： 2014-10-01 - 主分类号： G03F7/207 文献下载
摘要：本发明提供提高基板端部的带状区域的图案的描画精度的技术。描画装置（100）向形成有感光体的基板（90）照射带状描画光来在基板（90）上描画图案。描画装置具有：多个光学头（33a～33e），射出描画光；副扫描机构（221），使光学头（33a～33e）沿着副扫描方向（+x方向）相对于基板移动；主扫描机构，使光学头沿着主扫描方向（+y、-y方向）相对于基板移动。另外，描画装置具有调整多个光学头射出的描画光的焦点位置的自动调焦机构（6）。多个光学头中的一部分光学头（33b～33e）的自动调焦机构将从描画光的中央位置向与副扫描方向相反的方向（-x方向）偏移的基板上的位置作为检测分离距离的变动的检测位置。
描画装置以及方法

[发明专利]转印装置以及转印方法-CN201410119632.X有效
发明人：芝藤弥生;川越理史;增市干雄;上野博之;正司和大;上野美佳 -专利权人： 大日本网屏制造株式会社
申请日： 2014-03-27 - 公布日： 2014-10-01 - 主分类号： B41F16/00 文献下载
摘要：本发明提供一种能够连续且高效地进行从担载体向转印介质转印被转印物以及使转印之后的担载体和转印介质剥离的转印装置以及转印方法。通过能够彼此独立升降的多个手对支撑用于担载图案的橡皮布。要被转印图案的基板吸附保持在上载物台的下表面上。一边通过转印辊推起橡皮布来使其与基板抵接，一边使转印辊在Y方向移动。在转印辊的前方侧（移动方向上的下游侧），随着转印辊的接近，手对依次下降，从而避免与转印辊发生干涉。在转印辊的后方侧（移动方向上的上游侧），手对在再次抵接于橡皮布之后，一边吸附保持橡皮布一边下降，从而使橡皮布与基板剥离。
装置以及方法

[发明专利]石平台、其加工方法、制造方法以及基板处理装置-CN201410119624.5有效
发明人：池田文彦 -专利权人： 大日本网屏制造株式会社
申请日： 2014-03-27 - 公布日： 2014-10-01 - 主分类号： B28D1/00 文献下载
摘要：本发明提供能够在保持石平台的平面度的状态下防止镜面化的石平台、石平台的加工方法、石平台的制造方法以及基板处理装置。激光加工机向石平台照射激光标刻机（41）所射出的激光，从而对石平台的基板的载置面进行加工来形成凸部，该激光加工机具有机架（51）、支撑在该机架（51）上的激光标刻机（41）、控制器（42）、排气管（43）。激光标刻机（41）和控制器（42）通过电缆（45）相连接。另外，排气管（43）和控制器（42）通过连接管相连接。在被机架（51）包围的区域中的、向石平台照射激光的照射区域上配设有保护盖。
平台加工方法制造以及处理装置

[发明专利]剥离装置以及剥离方法-CN201410108252.6有效
发明人：上野美佳;川越理史;增市干雄;上野博之 -专利权人： 大日本网屏制造株式会社
申请日： 2014-03-21 - 公布日： 2014-10-01 - 主分类号： B41F16/00 文献下载
摘要：本发明涉及剥离装置以及剥离方法。沿着剥离进行方向即+Y方向配置多个吸附单元（51～54）。由最上游侧的第一吸附单元（51）吸附保持基板（SB）的端部来提起，并且通过使剥离辊（340）一边与基板（SB）抵接一边向剥离进行方向移动，来控制剥离的进行。在剥离辊（340）通过第二吸附单元（52）至第四吸附单元（54）的正下方位置时，使各吸附单元（52～54）下降来捕捉并提起剥离之后的基板，从而使发挥剥离主体的功能的吸附单元依次向下游侧转移。
剥离装置以及方法

[发明专利]膜形成方法-CN201410122615.1无效
发明人：山本悟史 -专利权人： 大日本网屏制造株式会社
申请日： 2014-03-28 - 公布日： 2014-10-01 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明提供一种采用能够以足够快的速度形成优异特性的膜的技术的膜形成方法。一边通过向铝靶施加溅射电压，在处理空间内产生第一等离子，并且通过使高频电流向圈数小于一圈的电感耦合天线流动，在所述处理空间内产生电感耦合式的第二等离子，一边向该处理空间供给溅射气体和氧来对铝靶进行溅射，从而通过反应性溅射在对象物（9）上形成氧化铝膜。一边在处理空间至少产生第一等离子，一边向该处理空间供给溅射气体来对铝靶进行溅射，从而在对象物（9）上形成铝膜。形成有氧化铝膜和铝膜中的一种膜的对象物（9）不暴露在大气中，在形成在对象物（9）上的一种膜上层叠形成另一种膜。
形成方法

[发明专利]加标签方法、加标签装置以及缺陷检查装置-CN201310751463.7有效
发明人：安田拓矢 -专利权人： 大日本网屏制造株式会社
申请日： 2013-12-31 - 公布日： 2014-09-24 - 主分类号： G06F9/46 文献下载
摘要：一种加标签方法、加标签装置以及缺陷检查装置，加标签方法包括：对各进程设定相互不同的标签；针对每一进程作为处理对象进程，并判定是否有与处理对象进程连接的第1连结进程，当有第1连结进程时，将处理对象进程及第1连结进程中的一者的标签更新为另一者的标签；在更新后，根据多个标签来搜索多个进程中的相互连接的进程并赋予同一标签，在更新标签时，将多个进程划分为多组，并将各组中执行的分别更新处理作为更新线程，基于排他控制一边允许利用多个更新线程中的一个更新线程进行标签的改写，并禁止由一个更新线程改写的标签的利用其他更新线程进行的改写，一边并列执行多个更新线程。
标签方法装置以及缺陷检查

[发明专利]板状被搬送物的传送方法、传送装置及图案形成装置-CN201410058248.3有效
发明人：上野博之;増市干雄;川越理史;芝藤弥生;正司和大;上野美佳 -专利权人： 大日本网屏制造株式会社
申请日： 2014-02-20 - 公布日： 2014-09-24 - 主分类号： B65H5/22 文献下载
摘要：本发明提供一种板状被搬送物的传送方法、传送装置及图案形成装置。板状被搬送物的传送方法是将由第一保持器件支撑下表面周缘部而保持的板状被搬送物良好地传送至第二保持器件，第二保持器件在第一保持器件上方吸附保持板状被搬送物上表面。该方法包括：使第一吸附构件自设置在第二保持器件的第一贯穿孔下降，吸附保持板状被搬送物上表面；使第二吸附构件从与第一贯穿孔不同位置处的第二贯穿孔下降，吸附保持板状被搬送物上表面中不同的位置；使第一及第二吸附构件升起，后退至第一及第二贯穿孔内，使板状被搬送物自第一保持器件移动至第二保持器件。
板状被搬送物传送方法装置图案形成

[发明专利]图案形成装置及图案形成方法-CN201410058971.1无效
发明人：正司和大;川越理史;上野博之;芝藤弥生;增市干雄;上野美佳 -专利权人： 大日本网屏制造株式会社
申请日： 2014-02-21 - 公布日： 2014-08-27 - 主分类号： B41F16/00 文献下载
摘要：本发明提供图案形成装置及图案形成方法。通过框缘状下载物台（61）吸附保持橡皮布，并且通过能够分别单独地升降的多个手部（625）支撑橡皮布的中央部的局部。使转印辊单元（64）沿着橡皮布的下表面移动来托起橡皮布的局部，从而使橡皮布抵接于橡皮布的上方所配置的版或者基板上。随着转印辊单元（64）移动，使手部（625）依次下降来向下方退避，从而避免该手部（625）与转印辊单元（64）发生干涉。
图案形成装置方法

[发明专利]电池用电极、电池、电池用电极的制造方法及制造装置-CN201410064786.3无效
发明人：真田雅和 -专利权人： 大日本网屏制造株式会社
申请日： 2014-02-25 - 公布日： 2014-08-27 - 主分类号： H01M4/13 文献下载
摘要：本发明提供能够获得良好的高速充放电特性又能够有效地防止因按压而导致的压曲或倒塌的电池用电极及其制造技术。一种电池用电极（10），具有：基材（11），发挥集电体的功能，活性物质层（12），是多条活性物质线排列而成，该活性物质线是由活性物质材料以沿着规定的延伸设置方向延伸成线状的方式形成在在基材（11）表面；活性物质线包括：第一线（121），与延伸设置方向相垂直的截面的宽度为第一宽度（W1），第二线（122），与延伸设置方向相垂直的截面的宽度为大于第一宽度的第二宽度（W2），且该第二线（122）的距基材（11）表面的高度（H2）为第一线（121）的高度（H1）以上。
电池用电制造方法装置

[发明专利]图案检查装置及图案检查方法-CN201410053709.8无效
发明人：藤原成章 -专利权人： 大日本网屏制造株式会社
申请日： 2014-02-17 - 公布日： 2014-08-20 - 主分类号： G01N21/956 文献下载
摘要：本发明涉及图案检查装置及图案检查方法。图案检查装置具有：第一图像获取部，将来自第一光源部的光照射至薄膜状的透明基材的形成有图案的第一主表面，使第一受光部接受该光被图案上表面反射的反射光，获取上表面反射图像；第二图像获取部，将来自第二光源部的光照射至透明基材的第二主表面，使第二受光部接受该光被图案下表面反射的反射光，获取下表面反射图像，该图案下表面是与第一主表面接触的面；检查部，基于上表面反射图像和下表面反射图像来获取图案的检查结果。通过对基于来自图案上表面的反射光而形成的上表面反射图像和基于来自图案下表面的反射光而形成的下表面反射图像进行比较，能够容易地检查出图案要素下端的变粗或变细情况。
图案检查装置方法

[发明专利]基板处理装置以及基板处理方法-CN201280063629.X有效
发明人：相原友明;光吉一郎;前川直嗣;土谷庆一 -专利权人： 大日本网屏制造株式会社
申请日： 2012-12-11 - 公布日： 2014-08-20 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：基板处理装置(1)具有处理槽(3)、盖部(5)、升降部。用于贮存处理液的处理槽具有上部开口(30)。盖部具有卷绕有片状连续构件(50)的两端部的一对辊(51、52)，连续构件的处于一对辊之间的部位即中间部(501)，在上部开口的附近与上部开口的开口面平行地配置，通过使辊旋转，使中间部沿着开口面移动。在连续构件上形成有作为开口的通过口(502)。升降部使基板(9)在处理槽内的处理位置和处理槽外的退避位置之间进行升降。在要使基板在处理位置和退避位置之间进行升降时，通过口配置在上部开口的正上方。另外，要在处理槽内对基板进行处理时，通过口配置在从上部开口的正上方偏离的位置，从而通过连续构件堵塞上部开口。能够通过省空间的盖部来使基板处理装置小型化。
处理装置以及方法

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