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[发明专利]用于增材制造的图案化光的开关站射束路由-CN202211074122.6在审
发明人：詹姆斯·A·德姆斯;弗朗西斯·L·利尔德;埃里克·图姆尔 -专利权人：速尔特技术有限公司
申请日： 2018-05-11 - 公布日： 2022-12-13 - 主分类号： B22F12/41 文献下载
摘要：本申请涉及用于增材制造的图案化光的开关站射束路由。本申请公开了一种用于增材制造的方法和装置，其涉及高效率、能量束图案化和射束操控以有效且高效地利用源能量。在一个实施例中，不想要的光的回收和再利用包括由一个或更多个光阀产生的多个光图案的源，其中多个光图案中的至少一个光图案由被拒斥的图案化光形成。图像中继装置被用于引导多个光图案，以及射束路由系统接收多个光图案，并分别将它们引导向粉末床上的限定区域。
用于制造图案开关站射束路由

[发明专利]精细金属掩模的制法及其制造系统-CN201810959146.7在审
发明人：石清堉 -专利权人：鋆洤科技股份有限公司
申请日： 2018-08-22 - 公布日： 2020-03-03 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：一种精细金属掩模的制法，具有下述步骤：溅镀形成金属层于玻璃基板上、形成第一图案化光阻层于金属层上、电铸形成电铸层于金属层的第一金属表面上、移除第一图案化光阻层、形成第二图案化光阻层于电铸层的第一电铸表面及金属层的第二金属表面上、蚀刻电铸层的第二电铸表面以得到经蚀刻的第二电铸表面、以及移除第二图案化光阻层、金属层及玻璃基板以获得精细金属掩模。一种精细金属掩模的制造系统包括邻接的溅镀设备、第一图案化光阻成形设备、电铸设备、第一去光阻机、第二图案化光阻成形设备、蚀刻机以及末端处理设备。
精细金属制法及其制造系统

[发明专利]检定用于显微光刻的图案的合格性-CN201480054237.6有效
发明人：石瑞芳;马克·瓦格纳 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2014-08-20 - 公布日： 2018-12-04 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明揭示用于检定光刻光罩合格性的方法及设备。光罩检验工具用以从所述光罩的每一图案区域获取不同成像配置的至少两个图像。各自基于来自所述光罩的每一图案区域的至少两个图像重新构建光罩图案。针对每一重新构建的光罩图案，在此重新构建的光罩图案上模型化具有两种或两种以上不同工艺条件的光刻工艺以产生两个或两个以上对应模型化测试晶片图案。各自分析两个或两个以上模型化测试晶片图案以识别所述光罩图案的热点图案，所述热点图案易受改变由此类似热点图案形成的晶片图案的所述不同工艺条件的影响。
检定用于显微光刻图案合格

[发明专利]半导体结构和其制造方法-CN202210835262.4在审
发明人：施江林;吕学翰;林育廷 -专利权人：南亚科技股份有限公司
申请日： 2022-07-15 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： H10B12/00 文献下载
摘要：在目标层上形成具有第一开口的第一光阻。在第一开口的侧壁上形成间隔物。在目标层和间隔物上形成第二光阻。使用第二光阻和间隔物图案化目标层以形成第一经图案化目标层。在第一经图案化目标层上形成第三光阻。使用第三光阻图案化第一经图案化目标层以形成第二经图案化目标层。使用第二经图案化目标层图案化导电层以形成经图案化导电层，经图案化导电层包括对齐源极/漏极区域的环形结构。环形结构对齐存储器前驱结构的源极/漏极区域，使经图案化导电层的其他部分对齐存储器前驱结构的其他元件，因此改善元件之间的对准、减少结构中漏电流。
半导体结构制造方法

[发明专利]半导体结构及其制造方法-CN201910327669.4在审
发明人：施信益;林智清 -专利权人：南亚科技股份有限公司
申请日： 2019-04-23 - 公布日： 2020-06-12 - 主分类号： H01L21/60 文献下载
摘要：在介电层之上形成图案化光阻层，其中图案化光阻层具有暴露介电层的开口。以图案化光阻层作为蚀刻遮罩蚀刻介电层，以在介电层中形成通孔孔洞。侧向扩展图案化光阻层的开口。在侧向扩展图案化光阻层的开口之后，以图案化光阻层作为蚀刻遮罩蚀刻介电层，以扩展通孔孔洞。在已扩展的通孔孔洞中形成导电通孔。
半导体结构及其制造方法

[发明专利]一种光处理设备-CN202110143719.0在审
发明人：卢双豪;尹涛;张金权;康远浩;汪海波 -专利权人：北京梦之墨科技有限公司
申请日： 2021-02-02 - 公布日： 2021-05-18 - 主分类号： B05D3/06 文献下载
摘要：本发明公开了一种光处理设备，涉及光图案化控制技术领域。该光处理设备，包括：基座、固定在基座上的光源、托盘、以及介于光源与托盘之间的数字化掩模板；其中，托盘上用以放置待处理的基材；数字化掩模板用以根据用户设置的电子图形显示相应的遮光图案，使光源射出的光线穿透数字化掩模板对托盘上的基材进行与遮光图案相反的光处理本发明中的光处理设备通过数字化掩模板根据用户需求显示与电子图形相应的遮光图案，以此满足数字化掩模板的平面上各个区域的遮/光，实现用户所需的图案化的光线。该实施例中由于数字化掩模板的数控优势，因此没有制版需求，即可满足用户多样化的光图案化需求，提升了处理效率，降低了设备要求，节约了制作成本。
一种处理设备

[实用新型]一种光处理设备-CN202120295153.9有效
发明人：卢双豪;尹涛;张金权;康远浩;汪海波 -专利权人：北京梦之墨科技有限公司
申请日： 2021-02-02 - 公布日： 2021-11-02 - 主分类号： B05D3/06 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种光处理设备，涉及光图案化控制技术领域。该光处理设备，包括：基座、固定在基座上的光源、托盘、以及介于光源与托盘之间的数字化掩模板；其中，托盘上用以放置待处理的基材；数字化掩模板用以根据电子图形显示相应的遮光图案，使光源射出的光线穿透数字化掩模板对托盘上的基材进行与遮光图案相反的光处理本实用新型中的光处理设备通过数字化掩模板根据用户需求显示与电子图形相应的遮光图案，以此满足数字化掩模板的平面上各个区域的遮/光，实现用户所需的图案化的光线。该实施例中由于数字化掩模板的数控优势，因此没有制版需求，即可满足用户多样化的光图案化需求，提升了处理效率，降低了设备要求，节约了制作成本。
一种处理设备

[发明专利]以纳微米球制作图案化基板的方法-CN200910221746.4无效
发明人：詹佳桦;侯佳宏;陈清仁;陈启昌 -专利权人：国立中央大学
申请日： 2009-11-16 - 公布日： 2011-05-18 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明是有关于一种以纳微米球制作图案化基板的方法，包括：(A)提供一基板，其中基板表面具有一光阻层；(B)涂布复数纳微米球于光阻层表面，以形成一纳微米球层；(C)进行曝光显影工艺，以图案化光阻层；以及(此外，于移除纳微米球层后，还包括：(E1)以图案化的光阻层做为一蚀刻屏蔽，以蚀刻基板；以及(E2)移除光阻层，以得到一图案化基板，其中图案化基板具有复数凹槽。
微米制作图案化基板方法

[发明专利]触控感应层及触控显示装置的形成方法-CN201410323444.9有效
发明人：简廷宪;钟德镇;戴文君;潘新叶 -专利权人：昆山龙腾光电有限公司
申请日： 2014-07-08 - 公布日： 2014-10-22 - 主分类号： G06F3/041 文献下载
摘要：本发明提出一种触控感应层的形成方法，用于形成图案化的氧化铟锡薄膜及导电薄膜，其包括在玻璃基板上形成图案化的第一光阻层；在图案化的第一光阻层上镀上导电薄膜；利用第一道剥离工序形成图案化的导电薄膜；在图案化的导电薄膜上覆盖第二光阻层，且形成图案化的第二光阻层；在图案化的第二光阻层上镀上氧化铟锡薄膜；及利用第二道剥离工序形成与图案化的导电薄膜对位的氧化铟锡薄膜。本发明的触控感应层的形成方法首先图案化光阻层，再利用剥离工序分别形成导电薄膜及氧化铟锡薄膜，形成的导电薄膜及氧化铟锡薄膜对位精准、制成简单，从而使得形成的触控感应层精准度高。
感应显示装置形成方法

[发明专利]具有用于深度感测的可编程衍射光学元件的照相机组件-CN201880065785.7有效
发明人：安德鲁·马修·巴尔达居;约瑟夫·达根;奇纳·哈泽格;刘非;马克·蒂莫西·沙利文;西蒙·莫里斯·尚德·魏斯 -专利权人：脸谱科技有限责任公司
申请日： 2018-08-06 - 公布日： 2022-03-11 - 主分类号： H04N13/254 文献下载
摘要：一种用于局部区域的深度感测的深度照相机组件(DCA)，包括结构化光发生器、成像器件和控制器。结构化光发生器用结构化光图案照射局部区域。结构化光发生器包括可编程衍射光学元件(PDOE)，其使用光束生成衍射扫描光束。PDOE用作动态衍射光栅，该动态衍射光栅动态调整光束的衍射以生成不同图案的衍射扫描光束。衍射扫描光束作为结构化光图案被投影到局部区域中，其中结构化光图案基于PDOE动态可调整。成像器件捕获从局部区域中的对象反射的结构化光图案的至少一部分的图像。控制器基于捕获的图像确定对象的深度信息。
具有用于深度可编程衍射光学元件照相机组件

[发明专利]有源元件阵列基板及其制造方法-CN200810081743.0有效
发明人：陈士钦;王文铨 -专利权人：中华映管股份有限公司
申请日： 2008-03-07 - 公布日： 2009-09-09 - 主分类号： H01L21/84 文献下载
摘要：本发明揭示一种有源元件阵列基板的制造方法，其包括下列步骤：提供基板与多重穿透式光掩模。于基板上依序形成第一金属材料层、栅绝缘材料层、沟道材料层、第二金属材料层与第一光阻层。借由多重穿透式光掩模对光阻层进行图案化以形成具有二种不同厚度的第一图案化光阻层。以第一图案化光阻层为罩幕依序进行第一移除制程与第二移除制程以形成栅极、栅绝缘层、沟道层与源极/漏极。移除第一图案化光阻层。于基板上形成保护层与第二图案化光阻层。进行第三移除制程以形成多个接触窗开口。于基板上形成像素电极材料层。剥离第二图案化光阻层以形成像素电极。
有源元件阵列及其制造方法

[发明专利]触控面板的制造方法-CN201210320440.6有效
发明人：游家维;邱启明;吕雅茹 -专利权人：福建华映显示科技有限公司;中华映管股份有限公司
申请日： 2012-09-03 - 公布日： 2013-01-02 - 主分类号： G06F3/044 文献下载
摘要：本发明涉及一种触控面板的制造方法，首先，于一基板的表面上依序形成一第一导电层、一第二导电层以及一第一光阻层。接着，使用一灰阶光罩图案化第一光阻层，并利用图案化的第一光阻层蚀刻第一以及第二导电层以形成触控面板的第一感测电极。接着，于基板以及第一感测电极上形成一绝缘层，并使用一灰阶光罩图案化绝缘层。然后，于图案化的绝缘层上形成一第三导电层，接着形成一第二光阻层于第三导电层上，并图案化第二光阻层以暴露出部分的第三导电层。最后，利用图案化的第二光阻层蚀刻第三导电层以形成触控面板之第二感测电极。
面板制造方法

[发明专利]具有光感测器的薄膜晶体管基板及其制作方法-CN201210384513.8无效
发明人：翁伟芃;李郁旻;李仁智;郭柏佑;卓恩宗;张钧杰 -专利权人：友达光电股份有限公司
申请日： 2012-10-11 - 公布日： 2014-04-16 - 主分类号： H01L27/06 文献下载
摘要：一种具有光感测器的薄膜晶体管基板，其基板具有薄膜晶体管区域及光感测区域。栅极、栅极绝缘层、半导体层及第一图案化导电层依次设于基板上。第一图案化导电层包括与半导体层电性连接的第一和第二源/汲极及位于光感测区域的第一电极层。第一图案化保护层设于第一图案化导电层上。第二图案化导电层设置于第一图案化保护层上，并包括像素电极及位于光感测区域的第二电极层。第二图案化保护层设于第一图案化保护层上，并直接接触覆盖光敏介电层的边缘部。本发明还涉及此具有光感测器的薄膜晶体管基板的制作方法。
有光感测器薄膜晶体管及其制作方法

[实用新型]照明模块、灯装置和机动车辆-CN202222997591.7有效
发明人：高亚贵;周海清 -专利权人：法雷奥照明湖北技术中心有限公司
申请日： 2022-11-10 - 公布日： 2023-05-02 - 主分类号： F21S41/00 文献下载
摘要：照明模块包括至少两个光源组件(110；120)、图案化构件(130)和光学投射装置(140)，每个光源组件被配置成向所述图案化构件照射光，所述图案化构件包括至少两组图案化反射面(133；135)，每组图案化反射面限定一个反射图案，并被配置成将来自对应的光源组件的光以所限定的反射图案的形式向所述光学投射装置反射，并且所述光学投射装置被配置成接收每组图案化反射面反射的光并投射与该组图案化反射面限定的反射图案对应的投射图案。
照明模块装置机动车辆

[发明专利]多层薄光阻的微影制程-CN01109525.3有效
发明人：王立铭;蔡高财 -专利权人：华邦电子股份有限公司
申请日： 2001-03-30 - 公布日： 2002-11-13 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：一种多层薄光阻的微影制程,可以用来在基底上形成具有预定厚度的复合光阻层。本方法的步骤如下首先形成一光阻层于基底之上,然后使用光罩来图案化光阻层,再稳定化光阻层,接着重复上述步骤,继续累积并图案化至少另一层光阻层于基底之上,使得每一层光阻层的图案皆与前一层光阻层之图案相同,直至形成预定厚度之复合光阻层为止
多层薄光阻微影制程