专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]基于分子砌块合成规划技术的小分子从头设计方法-CN202211137435.1有效
  • 居斌;姜菁;梅琪 - 杭州生奥信息技术有限公司
  • 2022-09-19 - 2023-01-06 - G16C20/50
  • 本发明公开了一种基于分子砌块合成规划技术的小分子从头设计方法,包含:将起始分子砌块作为第一个反应,根据第一个反应得到最佳合成模板;根据第一个反应和最佳合成模板得到第二个反应;根据第一反应、第二个反应和最佳合成模板得到第一评分值;根据第一反应、第二个反应和最佳合成模板得到迭代分子结构;根据迭代分子结构得到第二评分结果和是否停止操作的done标志;根据迭代分子结构进行反向传播进行参数迭代更新。本发明的基于分子砌块合成规划技术的小分子从头设计方法,采用边计算分子砌块合成路径边采样活性分子空间的de novo方法,可实现高效计算高活性分子,并提供基于分子砌块的分子合成路径。
  • 基于分子砌块合成规划技术从头设计方法
  • [发明专利]核酸的聚烷氧基化方法,其能够回收和再利用过量的聚烷氧基化试剂-CN201780073303.8有效
  • 卢卡斯·贝特格 - TME制药股份公司
  • 2017-11-30 - 2023-08-29 - A61K47/60
  • 本发明涉及通过使第一反应和第二反应反应来制备包含核酸部分和非核酸部分的经修饰的核酸分子的方法,其中所述第一反应包含非核酸部分和羧基,且其中所述第二反应是氨基修饰的核酸分子,所述氨基修饰的核酸分子包含所述核酸部分和包含与所述核酸部分附接的氨基的氨基修饰,其中所述方法包括以下步骤:a)通过在水混溶性有机溶剂中的缩合试剂活化所述第一反应,优选所述第一反应的羧基,以及b)使步骤a)的活化的第一反应,优选所述第一反应的活化的羧基,与所述第二反应,优选已溶解在水或水混溶性有机溶剂和水的混合中的所述氨基修饰的核酸分子的氨基修饰的氨基相反应,由此形成所述经修饰的核酸分子
  • 核酸聚烷氧基化方法能够回收再利用过量试剂
  • [发明专利]反应分子的预测、模型的训练方法、装置、设备及介质-CN202210830979.X在审
  • 孟子乔;赵沛霖 - 腾讯科技(深圳)有限公司
  • 2022-07-14 - 2022-10-18 - G16C20/20
  • 本申请公开了一种反应分子的预测、模型的训练方法、装置、设备及介质,属于人工智能技术领域。该反应分子的预测方法包括:获取产物分子;基于产物分子,获取至少一个待补全分子;调用目标分子补全模型对至少一个待补全分子进行补全,得到至少一个补全结果,基于至少一个补全结果获取产物分子对应的至少一个反应分子,目标分子补全模型基于样本化合分子以及样本待补全分子训练得到,样本待补全分子通过对样本化合分子中的子结构进行掩码得到。此种反应分子的预测过程依赖泛化能力较强的目标分子补全模型实现,有利于扩展适应场景,从而有利于提高反应分子的预测可靠性和预测准确性。
  • 反应物分子预测模型训练方法装置设备介质
  • [发明专利]一种二氧化氯缓释装置及其使用方法-CN202110764641.4在审
  • 袁军林 - 东莞唯智美新材料科技有限公司
  • 2021-07-07 - 2021-10-08 - A61L2/20
  • 本发明公开一种二氧化氯缓释装置及其使用方法,该二氧化氯缓释装置至少包含了第一、第二反应,第一、第二反应分别位于第一、第二反应区,且第一、第二反应区通过隔离区实现了空间上的隔离;第一反应至少包含能够和酸性物质反应释放二氧化氯的物质,第二反应至少包含酸性物质;第二反应区内不含有能够和酸反应释放二氧化氯的物质,第二反应区中的酸性物质是通过分子热运动挥发形成酸性气态分子的方式穿透隔离区并进入第一反应区内,并与第一反应反应以产生二氧化氯气体分子;第二反应至少含有挥发性的酸性物质,酸性物质是酸或水解能够产生酸的物质;隔离区为空气隙或者多孔隔离
  • 一种氧化氯缓释装置及其使用方法
  • [发明专利]组合、基板及反光层的制备方法-CN202110215331.7在审
  • 张冰;张腾;耿霄霖;高亮 - 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
  • 2021-02-25 - 2022-08-30 - C09D5/33
  • 本公开涉及照明和显示技术领域,尤其涉及一种组合、基板及反光层的制备方法。用于解决相关技术中反光层固化收缩,对衬底基板的边缘产生应力,从而使衬底基板的边缘产生较大翘曲,不利于后续吸附和组装的问题。一种组合,包括:基质材料和添加剂,基质材料包括溶剂,以及分散于溶剂中的反应分子和具有反射功能的材料,反应分子可在第一预设条件下发生交联反应反应分子包括单体分子和/或预聚分子;添加剂包括填充材料,填充材料呈粉末状或微球状,可分散于基质材料中,并能够填充在任意相邻的反应分子的交联点之间,以对部分相邻的反应分子在第一预设条件下发生交联反应进行阻隔。
  • 组合反光制备方法
  • [发明专利]固相反应合成化合的方法及装置-CN201110083748.9无效
  • 楚士晋;彭汝芳;金波;李鸿波;谭碧生;蔡艳华;袁邦群 - 楚士晋
  • 2011-04-02 - 2011-09-28 - B01J19/12
  • 本固相反应合成化合的方法,包括步骤:①将固体反应混合,用高速载体气流加速至超音速,使其具有很高动能;②在固体反应的运动途中设置微波场,固体反应穿越该微波场,增强反应分子热运动,提高活性;③合成步骤:A.高速运动的固体反应循环撞击固定靶,被逐渐粉碎至分子级粒径;B.分子级粒径的固体反应与耙头高速碰撞,动能转化为内能,分子化学键断裂,分解为离子,阴、阳离子重新组合成键,合成目标化合。本发明突破了传统固相反应的高温局限,可在常温下进行,为合成化合提供了一条新的技术路线,应用范围广阔,且反应速度快,收率高,成本低廉,经济、环保效果突出。
  • 相反合成化合物方法装置
  • [发明专利]环氧树脂寡聚-CN201610370166.1有效
  • 陈国盛;简辰翰;曾宇璨 - 上纬企业股份有限公司
  • 2016-05-30 - 2019-09-10 - C08G59/22
  • 本发明提供一种环氧树脂寡聚,其至少由第一反应及第二反应进行反应而得,且其分子量介于3000至9000之间,其中第一反应及第二反应的摩尔比例介于1:0.9至0.9:1之间,且第一反应及第二反应分别皆为具有两个可聚合基团的化合本发明技术方案能够在较低含浸温度下即达成良好的含浸效果,解决分子量难以控制的问题及避免制程中产生恶臭。
  • 环氧树脂寡聚物
  • [发明专利]用于填充间隙的方法和设备-CN202310882990.5在审
  • V·珀尔 - ASM IP控股有限公司
  • 2017-07-14 - 2023-10-13 - H01L21/316
  • 一种用于通过以下操作填充在衬底上制造特征期间形成的一个或多个间隙的方法和设备:向所述一个或多个间隙的表面的底部区域提供第一反应;将第二反应提供到所述衬底;以及允许所述第一反应在所述第一反应的一个分子与所述第二反应的多个分子的化学计量比下在所述表面的所述底部区域中起始所述第二反应反应,从而使所述一个或多个间隙的所述表面的未被提供所述第一反应的顶部区域最初基本上为空。
  • 用于填充间隙方法设备
  • [发明专利]用于填充间隙的方法和设备-CN201780044429.2有效
  • V·珀尔 - ASMIP控股有限公司
  • 2017-07-14 - 2023-10-27 - H01L21/316
  • 一种用于通过以下操作填充在衬底上制造特征期间形成的一个或多个间隙的方法和设备:向所述一个或多个间隙的表面的底部区域提供第一反应;将第二反应提供到所述衬底;以及允许所述第一反应在所述第一反应的一个分子与所述第二反应的多个分子的化学计量比下在所述表面的所述底部区域中起始所述第二反应反应,从而使所述一个或多个间隙的所述表面的未被提供所述第一反应的顶部区域最初基本上为空。
  • 用于填充间隙方法设备

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