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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[实用新型]一种自动检测厚度的双面研磨机-CN201720930401.6有效
发明人：潘耀辉;代斌 -专利权人：襄阳怡林彩色印务有限公司
申请日： 2017-07-28 - 公布日： 2018-04-06 - 主分类号： B01F7/20 文献下载
摘要：本实用新型提供一种自动检测厚度的双面研磨机，涉及印刷品印制领域。该自动检测厚度的双面研磨机，包括双面研磨机本体，所述双面研磨机本体的顶部一侧固定连接有支撑柱，所述支撑柱远离双面研磨本体的一端固定连接有混合室，所述混合室的一侧相通有进料管，所述进料管远离混合室的一端相通有三通该自动检测厚度的双面研磨机，通过混合室内部的第一电机的转动，在第一电机的转动配和下通过旋转轴、搅拌杆和搅拌叶之间的相互配合达到了对材料搅拌充分的效果，以便于更好的进入到自动检测厚度的双面研磨机内部进行研磨，解决了现在的自动检测厚度的双面研磨机在研磨前配料比较费时费力且麻烦的问题。
一种自动检测厚度双面研磨机

[实用新型]一种双面研磨抛光机的研磨液传输装置-CN201922462239.1有效
发明人：王宏臣;胡田田 -专利权人：淮安信息职业技术学院
申请日： 2019-12-31 - 公布日： 2020-09-29 - 主分类号： B24B37/34 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种双面研磨抛光机的研磨液传输装置，包括一种双面研磨抛光机的研磨液传输装置，包括研磨液入口管、研磨液传输槽、固定支架、固定柱、研磨液支管、上研磨盘和支撑杆，所述研磨液入口管下方设置有研磨液传输槽，所述研磨液传输槽通过固定支架固定于支撑柱上，所述研磨液传输槽下方固定柱固定连接研磨盘，所述研磨液传输槽与所述上研磨盘之间设置有若干连通的研磨液支管，所述研磨液支管成“Z”字形，通过研磨液传输槽和研磨液支管配合工作及研磨液支成“Z”字形设计可使研磨液平稳均匀的流入加工工件上，提高产品的生产效益，节约成本，提升产品研磨精度。
一种双面研磨抛光机传输装置

[发明专利]一种碳化硅晶圆双面研磨中双面去除量的测定方法及应用-CN202210995865.0在审
发明人：冯玉冰;马宁;王胜;顾仁军;汪世峰;胡俊锋;严芹 -专利权人：合肥露笑半导体材料有限公司
申请日： 2022-08-18 - 公布日： 2022-12-23 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明涉及一种碳化硅晶圆双面研磨中双面去除量的测定方法及应用。其中，测定方法，包括下述步骤：(1)待测碳化硅晶圆切割片，进行大角度倒边，所述的大角度大于40°；(2)测量倒边后的碳化硅晶圆片的双面倒边弧对应弦长度值；(3)倒边后的碳化硅晶圆片在双面研磨设备上，进行晶圆双面研磨加工；(4)双面研磨工艺完成后，取下研磨晶圆片，测量研磨后的双面倒边弧对应弦长度值；(5)根据双面研磨前后倒边弧对应弦长度值，准确计算晶圆双面去除量。
一种碳化硅双面研磨去除测定方法应用

[发明专利]大面积平面晶片双面精密加工工艺-CN02132894.3无效
发明人：郑琛 -专利权人：大连淡宁实业发展有限公司
申请日： 2002-09-06 - 公布日： 2004-03-10 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：大面积平面晶片双面精密加工工艺，采用行星式研磨抛光机进行研磨抛光，先进行研磨后进行抛光，在进入精磨前修正上下研磨盘，把铸铁游星轮放在上下研磨盘之间对研磨盘进行研磨，把研磨盘完全研磨合后，再将装有晶片的行星轮放在上下研磨盘之间对晶片进行研磨和抛光最好是铸铁游星轮放在上下研磨盘之间研磨一段时间，就翻动一次行星轮；最好还改变游星轮转动方向。双面研磨抛光后，再放到单面抛光机进行单面精抛光。这样不但表面光洁度好，而且平行度也相当高，加工速度也提高了。
大面积平面晶片双面精密加工工艺

[发明专利]陶瓷盘砂轮片双面研磨加工蓝宝石晶片的方法-CN201610466724.4在审
发明人：王宇;贺贤汉;魏聪 -专利权人：上海汉虹精密机械有限公司
申请日： 2016-06-23 - 公布日： 2016-11-09 - 主分类号： B24B37/08 文献下载
摘要：一种陶瓷盘砂轮片双面研磨加工蓝宝石晶片的方法，包括：切片、粗磨、倒角、退火、中磨、精磨和双面抛光，其中：中磨和精磨使用上盘和下盘双面研磨，上盘和下盘的安装方法具体为：先将上砂轮陶瓷盘通过树脂胶粘接在上中间连接板上，下砂轮陶瓷盘通过树脂胶粘接在下中间连接板上，待树脂胶固化后将上中间连接板粘接好的部分通过螺丝连接安装在上研磨铸铁盘上，下中间连接板通过螺丝连接安装在下研磨铸铁盘上。本发明缩短了研磨工艺的加工时间，精简了加工工艺步骤。
陶瓷砂轮双面研磨加工蓝宝石晶片方法

[发明专利]双面研磨工艺-CN201510611579.X有效
发明人：盘永才 -专利权人：东莞长盈精密科技有限公司
申请日： 2015-09-22 - 公布日： 2017-02-01 - 主分类号： B24B37/08 文献下载
摘要：本发明公开了一种双面研磨工艺，用于移动终端设备中板或底板的研磨加工，包括如下步骤提供待研磨的双面研磨板料；以及将所述双面研磨板料置于两块研磨砂轮之间，转动两块所述研磨砂轮对所述双面研磨板料进行研磨，所述研磨砂轮为圆环状并且所述研磨砂轮的一个表面为研磨面，所述研磨砂轮的研磨面上设置有排屑槽，所述排屑槽在径向方向上贯穿所述研磨砂轮的内周和外周，并且所述排屑槽的数量为3个～12个。这种双面研磨工艺，采用的研磨砂轮在研磨面上设置贯穿研磨砂轮的内周和外周的排屑槽，研磨砂轮在研磨双面研磨板料产生的研磨废屑可以通过排屑槽排出，研磨废屑不会形成积累，从而保证了研磨精度。
双面研磨工艺

[实用新型]一种双面抛光机-CN201220388582.1有效
发明人：许峰 -专利权人：苏州市博飞光学有限公司
申请日： 2012-08-07 - 公布日： 2013-03-06 - 主分类号： B24B29/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种双面抛光机，包括机架、位于所述机架上的研磨机构和控制机构，所述控制机构与所述研磨机构电连接，所述研磨机构与磨削液输送装置和磨削液回流装置相连，所述研磨机构包括上研磨盘和下研磨盘，所述上研磨盘和下研磨盘相对的面上均设有研磨纸，本实用新型所公开的双面研磨机对研磨盘的损伤小，抛光的产品质量好，重现性高。
一种双面抛光机

[实用新型]一种具有清洗功能的双面研磨抛光一体机-CN202122250190.0有效
发明人：刘红波 -专利权人：湖南洁美地地坪工程有限公司
申请日： 2021-09-16 - 公布日： 2022-01-21 - 主分类号： B24B37/08 文献下载
摘要：本实用新型涉及研磨抛光机领域，具体为一种具有清洗功能的双面研磨抛光一体机，包括设备架，所述设备架的内侧中部固定连接有滑轨，所述滑轨的内侧活动连接有夹持机构，所述设备架的底端和顶端均固定连接有研磨抛光机构为了解决上述技术问题，本实用新型提供了一种具有清洗功能的双面研磨抛光一体机，驱动电机通过第一导轮和第二导轮带动驱动轮在滑轨的内侧转动，实现滑架和夹持板在滑轨的内侧旋转，搭配水泵、进水管和一出二导水管的搭配，分别向工件的顶部和底部进行喷水清洁，实现该装置对工件的旋转清洗，提高该装置对工件的清洁保护，提高工件的研磨抛光质量。
一种具有清洗功能双面研磨抛光一体机

[发明专利]一种PCB板研磨系统-CN202110396978.4在审
发明人：华承金;夏国祥 -专利权人：广东捷骏电子科技有限公司
申请日： 2021-04-13 - 公布日： 2022-10-18 - 主分类号： B24B21/00 文献下载
摘要：本专利公开了一种PCB板研磨系统，包括：机架、待研磨件输送机构，其特征在于，在所述机架内设置有单面研磨机构和双面研磨机构，还包括控制器，所述单面研磨机构包括了第一上砂带研磨组件和背压辊组件，所述双面研磨机构包括了第二上砂带研磨组件和下砂带研磨组件，所述控制器与所述单面研磨机构、双面研磨机构信号连接，所述控制器有控制单面研磨机构、双面研磨机构的工作状态的功能模块。本专利同时具有单面研磨、双面研磨、单双面组合研磨功能，灵活应对各种生产任务，占地面积小，设备成本低，加工效率高。
一种 pcb 研磨系统

[发明专利]一种12寸再生晶圆双面抛光平坦度的控制方法-CN202310792563.8在审
发明人：王思远;俞辉;韩五静 -专利权人：安徽富乐德长江半导体材料股份有限公司
申请日： 2023-06-30 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： B24B37/005 文献下载
摘要：本发明公开了一种12寸再生晶圆双面抛光平坦度的控制方法，本发明目的在于通过双面研磨设备，对12寸再生晶圆进行平坦度的控制，达到TTV0.5um的目标。
一种 12 再生双面抛光平坦控制方法

[实用新型]一种双面研磨抛光机的研磨盘冷却系统-CN201720427535.6有效
发明人：邹俊;朱红波;刘海;肖群凯 -专利权人：湖南磨王科技智造有限责任公司
申请日： 2017-04-22 - 公布日： 2018-01-05 - 主分类号： B24B55/02 文献下载
摘要：本实用新型公布了一种双面研磨抛光机的研磨盘冷却系统，包括研磨盘以及与研磨盘紧密贴合的盘座；所述盘座为包括圆盘形的上座体和圆盘形的下座体，所述下座体上设置有进水槽和出水槽，所述进水槽和出水槽均为环形水槽，本实用新型目的在于，提供一种双面研磨抛光机的研磨盘冷却系统，采用分区冷却，温控反应快且效果好，确保恒温加工。
一种双面研磨抛光机冷却系统

[外观设计]半导体双面研磨抛光机（TDL600）-CN202230488641.1有效
发明人：崔翊洲;郝元龙 -专利权人：北京特思迪半导体设备有限公司
申请日： 2022-07-28 - 公布日： 2022-11-29 - 主分类号： 15-09 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：半导体双面研磨抛光机（TDL600）。2.本外观设计产品的用途：半导体芯片的抛光研磨。3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。4.最能表明设计要点的图片或照片：主视图。
半导体双面研磨抛光机 tdl600

[外观设计]半导体双面研磨抛光机（TDL1200）-CN202230488970.6有效
发明人：崔翊洲;郝元龙 -专利权人：北京特思迪半导体设备有限公司
申请日： 2022-07-28 - 公布日： 2023-04-18 - 主分类号： 15-09 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：半导体双面研磨抛光机（TDL1200）。2.本外观设计产品的用途：半导体芯片的抛光研磨。3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。
半导体双面研磨抛光机 tdl1200

[实用新型]一种玻璃挂片双面研磨抛光机-CN202022432523.7有效
发明人：张凌云;黄东风 -专利权人：浦江县立明水晶机械有限公司
申请日： 2020-10-28 - 公布日： 2021-06-22 - 主分类号： B24B27/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种玻璃挂片双面研磨抛光机，包括：机架、研抛机构、换面移动架、上料机构；所述机架上设置有研抛机构，所述研抛机构依次排列为粗研磨组、细研磨组、抛光组，所述移动架滑轨组上方安装有换面移动架，所述机架上还安装有上料机构；本实用新型的一种玻璃挂片双面研磨抛光机，通过上料机构上设置的推送铝排且在推送铝排动力轴前端加装橡胶垫，能将挂片工件紧紧的推入铝排卡爪，使得铝排上的卡爪能将工件卡抓的牢固，不至于在研磨过程中掉落
一种玻璃双面研磨抛光机

[发明专利]非规则碲锌镉晶片的研磨方法-CN202010878993.8有效
发明人：侯晓敏;刘江高;李轩;刘铭;徐强强;吴卿 -专利权人：中国电子科技集团公司第十一研究所
申请日： 2020-08-27 - 公布日： 2022-06-28 - 主分类号： B24B37/08 文献下载
摘要：本发明公开了一种非规则碲锌镉晶片的研磨方法，非规则碲锌镉晶片的研磨方法包括：配置研磨液，并将研磨液导入双面研磨机内以用于研磨非规则碲锌镉晶片；将至少一片非规则碲锌镉晶片均匀排布至双面研磨机的上研磨盘与下研磨盘之间的至少一个游轮片上；设置双面研磨机的设备参数，启动双面研磨机，以实现对至少一片非规则碲锌镉晶片的双面研磨。采用本发明，可以同时对多片非规则碲锌镉晶片进行双面研磨，大大的提高了非规则碲锌镉晶片研磨效率，而且能够有效解决非规则碲锌镉晶片在游离态下撞击产生崩边和裂片的问题，使得碲锌镉晶片研磨后的表面平整度和加工产能得到大幅提升
规则碲锌镉晶片研磨方法

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