专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]-CN201710816146.7有效
  • 安立扬;徐向阳 - 深圳市华星光电技术有限公司
  • 2017-09-11 - 2020-05-05 - G03F1/00
  • 本发明公开一种,用于制作阵列基板的公共电极,包括中心部分、第一部分以及第二部分,第一部分连接中心部分且沿第一方向延伸,第二部分连接中心部分且沿第二方向延伸,第一方向与第二方向交叉,第一部分与中心部分的交界处形成第一凹槽上述能够降低应用上述阵列基板的液晶显示面板出现显示不良的风险。
  • 光罩
  • [发明专利]-CN201010133578.6无效
  • 白崎享 - 信越化学工业株式会社
  • 2010-03-15 - 2010-11-03 - G03F1/14
  • 本发明提供一种,其在使用后能够很轻易的除去防尘薄膜组件。本发明的罩在透明基板的图案区域的外周围的防尘薄膜组件框架装设区域上形成遮光膜。该宜为负型致抗蚀剂用光。又,在该的该防尘薄膜组件框架装设区域上所形成的遮光膜宜与该透明基板直接接触。又,该的该透明基板宜为石英玻璃基板。
  • 光罩
  • [实用新型]-CN201720768783.7有效
  • 谢生林;王毅 - 扬州扬杰电子科技股份有限公司
  • 2017-06-28 - 2018-03-30 - G03F1/38
  • 。涉及半导体领域,具体涉及一种晶片生产中使用的。该可防止光刻胶内缩堆积、影响晶片的外观,其包括基板和设在基板上的、由阻层构成的图案,所述基板上、所述图案的周围设有一条闭环的蚀刻槽。所述蚀刻槽内设有圆环型的弹性挡板和弹性密封膜,所述弹性挡板通过若干与蚀刻槽的槽底平行的连接杆连接在蚀刻槽的外侧壁上,所述连接杆伸出基板;通过在板外圈增加一条蚀刻槽,使阻胶涂布晶片在旋转停止时蚀刻槽有一定距离缓冲,最终使到晶粒台面的阻胶积累量变少,达到晶片台面光阻胶减薄的目的,改善晶片了外观,节省了人工工时,提升了产出率。
  • 光罩
  • [实用新型]-CN202221695712.6有效
  • 陈都 - TCL华星光电技术有限公司
  • 2022-06-30 - 2022-11-22 - G03F1/38
  • 本实用新型实施例公开了一种;该包括主体、及位于该主体的一侧的准直遮光层,该主体包括至少一第一开口,该准直遮光层包括至少一准直遮光单元,该准直遮光单元包括一准直孔,其中,一该准直遮光单元围绕一该第一开口设置,在垂直于该主体的方向上,一该第一开口与一该准直孔重合设置;本实用新型通过在主体的第一开口周围设置准直遮光单元,准直遮光单元的准直孔与第一开口对应重合,利用准直遮光单元对倾斜光线的遮挡,提高光线的准直性
  • [实用新型]-CN202222677253.5有效
  • 郭伟 - 广州粤芯半导体技术有限公司
  • 2022-10-11 - 2023-02-03 - G03F1/00
  • 本实用新型提供一种,所述包括基底层、金属膜层、防尘膜层和框架,所述金属膜层位于所述基底层上,所述框架固定于所述基底层上,所述框架用于固定所述防尘膜层,所述框架上至少开设一组窗口,所述一组窗口包括第一窗口和第二窗口解决了表面的雾化缺陷问题。
  • [实用新型]-CN202222677261.X有效
  • 郭伟 - 广州粤芯半导体技术有限公司
  • 2022-10-11 - 2023-02-03 - G03F1/00
  • 本实用新型提供一种,所述包括基底层、金属膜层、防尘膜层和框架,所述金属膜层位于所述基底层上,所述框架固定于所述基底层上,所述框架用于固定所述防尘膜层,所述框架上至少开设一个窗口,所述窗口内包括第一防尘网解决了表面的雾化缺陷问题。
  • 光罩
  • [实用新型]-CN202222682275.0有效
  • 郭伟 - 广州粤芯半导体技术有限公司
  • 2022-10-11 - 2023-02-03 - G03F1/00
  • 本实用新型提供一种,所述包括基底层、金属膜层、防尘膜层和框架,所述金属膜层位于所述基底层上,所述框架固定于所述基底层上,所述框架为中空结构,所述中空结构用于填充吸收氨根离子的大分子颗粒,所述框架上至少开设一个窗口提高了防止罩雾化的效果。
  • [发明专利]基板以及-CN201510861398.2在审
  • 戴昌铭 - 冠橙科技股份有限公司
  • 2015-12-01 - 2016-03-16 - G03F1/56
  • 本发明系揭露一种基板,包含透明基板而将曝光光线予以投送于该透明基板之上,以及黑色矩阵阻层,经配置而包括炭黑分散液、具有胺基的共聚物及/或具有季铵盐的共聚物、含有分散成分的有机溶剂、具有羧基的黏合剂树脂、不饱和单体、以及卤素的光敏材料或波长范围在480-540纳米的绿光的光敏材料,使得该黑色矩阵阻层系作为一个单层以作为遮光膜及曝光的感光膜,以及使得该黑色矩阵阻层的表面经制造而为防止化学处理操作的损伤及机械性刻刮
  • 光罩基板以及
  • [发明专利]修补装置、修补方法及修补液-CN201710559556.8有效
  • 宋江江 - 深圳市华星光电技术有限公司
  • 2017-07-11 - 2020-11-27 - G03F1/72
  • 本发明提供一种修补装置,修补方法及修补液。所述修补装置用于修补带有孔洞的,所述修补装置包括:修补液存储器、导管、电磁装置,所述修补液存储器用于存储修补液,其中,所述修补液包括电磁材料,所述电磁材料具有磁性且吸收紫外,所述导管的一端连接所述修补液存储器,另一端开口,用于将所述修补液存储器中存储的修补液导出,所述电磁装置用于提供高频交变电磁场,所述高频交变电磁场为高频电磁场且为交变电磁场,所述修补液中的电磁材料在所述高频交变电磁场的作用下震荡运动,从而降低所述修补液的粘度,以便所述修补液从所述导管中流出。
  • 修补装置方法
  • [发明专利]资源处理方法及系统、装置、设备和介质-CN202310632989.7在审
  • 范武文;汪玉明 - 长鑫存储技术有限公司
  • 2023-05-31 - 2023-06-27 - G06Q10/0631
  • 本公开涉及一种资源处理方法及系统、装置、设备和介质,涉及半导体生产与制造技术领域,可以应用于对光资源进行管理的场景。该方法包括:响应于调度指令,获取具有盒的多个曝光制程机台,调度指令基于调度任务生成;确定多个曝光制程机台对应的空盒总量;在空盒总量大于零的情况下,从多个曝光制程机台中选取目标盒,采用目标盒暂存;在空盒总量等于零的情况下,将存储至存储设备。本公开可以使用机台的盒暂存资源,可以减少空盒进出存储设备的次数,减少存储资源负荷,提高搬运效率。
  • 资源处理方法系统装置设备介质

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