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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]光掩模坯料、光掩模的制造方法及光掩模-CN202210348350.1在审
发明人：松桥直树;寺岛隆世 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2022-04-01 - 公布日： 2022-11-08 - 主分类号： G03F1/26 文献下载
摘要：本发明提供一种光掩模坯料，其含铬膜的表层粗糙度良好，能够检测出50nm的缺陷，电阻值小，能够吸附异物，且能够读取条形码图案。所述光掩模坯料具备基板与含铬膜，该含铬膜从远离基板的一侧起具有第一层、第二层及第三层，这些层均含铬，第一层进一步含有氧及氮，Cr为44原子％以下、O为30原子％以上、N为26原子％以下，且厚度为8～20nm
光掩模坯料制造方法

[发明专利]光掩模坯料、光掩模及光掩模的制造方法-CN200910203985.7有效
发明人：野泽顺 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2009-02-27 - 公布日： 2009-10-14 - 主分类号： G03F1/14 文献下载
摘要：本发明涉及一种在透明基板上具有至少由两层组成的遮光膜的光掩模坯料，所述遮光膜是以含有低于62at％的氮的氮化钽作为主要成分的材料，并且具有：由用不含氧的氯系气体能够进行干蚀刻的材料形成的遮光层；以及形成于该遮光层的上面的
光掩模坯料制造方法

[发明专利]反射型掩模坯料和反射型掩模-CN202210196580.0在审
发明人：三村祥平;金子英雄;寺泽恒男 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2022-03-02 - 公布日： 2022-09-06 - 主分类号： G03F1/24 文献下载
摘要：本发明涉及反射型掩模坯料和反射型掩模。反射型掩模坯料，其为在使用EUV光作为曝光光的EUV蚀刻法中使用的反射型掩模用材料，包括基板、在基板的一个主表面上形成的并反射曝光光的多层反射膜、和在多层反射膜上形成的并吸收曝光光的含有钨、和另一金属、
反射型掩模坯料

[发明专利]层压的柔性版印刷套筒及其制造方法-CN201280037715.3无效
发明人： R·W·维斯特;D·A·雷基亚;T·戈奇克 -专利权人：麦克德米德印刷方案股份有限公司
申请日： 2012-07-18 - 公布日： 2014-04-09 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种对在数字制版工艺期间在感光印刷坯料中产生的多个凸纹圆点的形状进行修整的方法。该感光印刷坯料包含配置于至少一层光可固化层上的激光可烧蚀掩模层，该至少一层光可固化层可安装在印刷套筒上。该方法包含步骤：(1)在激光可烧蚀掩模层顶部放置阻隔层；(2)激光烧蚀所述激光可烧蚀掩模层以在该激光可烧蚀掩模层中产生原位负片；(3)通过该原位负片将该至少一层光可固化层曝光于光化辐射下；(4)移去阻隔层；和(5)显影已成像并曝光的感光印刷坯料以显示出其中的凸纹，该凸纹包含多个凸纹圆点。
层压柔性印刷套筒及其制造方法

[发明专利]光掩模坯料及其制造方法、光掩模、图案转印方法及溅射装置-CN201310182559.6有效
发明人：吉川博树;深谷创一;稻月判臣;中川秀夫 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2013-05-16 - 公布日： 2019-04-05 - 主分类号： G03F1/62 文献下载
摘要：本发明涉及光掩模坯料及其制造方法、光掩模、图案转印方法及溅射装置。本发明提供光学浓度等特性的偏差小且缺陷少品质高、并且具有高蚀刻速度的功能性膜的制造技术。本发明的光掩模坯料的制造方法中，在制造透明衬底上具备至少一层功能性膜的光掩模坯料时，功能性膜由含有铬元素和与铬的混合体系成为液相的温度为400℃以下的金属元素的铬系材料构成，在形成该功能性膜的工序中，使铬靶
光掩模坯料及其制造方法图案溅射装置

[发明专利]反射型掩模坯料和制造反射型掩模的方法-CN202210690653.1在审
发明人：高坂卓郎;生越大河;稻月判臣;金子英雄 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2022-06-17 - 公布日： 2022-12-20 - 主分类号： G03F1/24 文献下载
摘要：本发明涉及反射型掩模坯料和制造反射型掩模的方法。对于在使用EUV光的EUV蚀刻法中使用的反射型掩模用反射型掩模坯料而言，提供包括基板、具有周期性层叠结构的多层反射膜、保护膜和吸收体膜的反射型掩模坯料，其中在所述周期性层叠结构中交替层叠高折射率层和包含含钼材料的低折射率层
反射型掩模坯料制造方法

[发明专利]光掩模坯料、光掩模的制造方法及显示装置的制造方法-CN202110265084.1在审
发明人：田边胜;浅川敬司;安森顺一 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2021-03-10 - 公布日： 2021-09-17 - 主分类号： G03F1/26 文献下载
摘要：本发明的课题在于，提供一种在对相移膜进行湿法蚀刻时可以缩短过刻蚀时间、抑制基板的损伤、可以形成具有良好的截面形状、LER、且耐化学品性也良好的转印图案的光掩模坯料。所述光掩模坯料是用于形成光掩模的原版，光掩模在透明基板上具有通过对相移膜进行湿法蚀刻而得到的相移膜图案，相移膜由单层或多层构成，并且相对于整体膜厚的50％以上且100％以下包含由含有钼、锆、硅及氮的材料形成的
光掩模坯料制造方法显示装置

[发明专利]二元光掩模坯料、其制备、和二元光掩模的制备-CN201510415157.5有效
发明人：稻月判臣;高坂卓郎;西川和宏 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2015-07-15 - 公布日： 2018-11-13 - 主分类号： G03F1/46 文献下载
摘要：二元光掩模坯料在透明衬底上具有遮光膜，所述遮光膜主要由过渡金属M和硅Si，或M、Si和N组成，并且具有3.0以上的光密度。所述二元光掩模坯料具有能够完全遮蔽曝光的光的薄遮光膜。
二元光掩模坯料制备

[发明专利]光掩模坯料及光掩模的制造方法-CN201310182144.9有效
发明人：深谷创一;中川秀夫;笹本纮平 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2013-05-16 - 公布日： 2017-03-08 - 主分类号： G03F1/38 文献下载
摘要：本发明涉及光掩模坯料及光掩模的制造方法。本发明在确保由铬系材料构成的膜的化学特性等各种特性的同时减轻对该铬系材料膜进行蚀刻时对光致抗蚀剂的负荷。在透明衬底(1)上形成有遮光膜(2)，在该遮光膜(2)上设置有硬掩模膜(3)。硬掩模膜(3)整体由含有锡的铬系材料构成。由含有锡的铬系材料构成的膜能够显著提高氯类干蚀刻时的蚀刻速度。因此，对用于加工硬掩模膜的光致抗蚀剂的蚀刻负荷得到减轻，即使在使抗蚀剂膜减薄的情况下也能够进行高精度的图案转印。
光掩模坯料制造方法

[发明专利]光掩模坯料及光掩模的制造方法-CN201080056696.X有效
发明人：小岛洋介;吉川博树;稻月判臣;小板桥龙二 -专利权人：凸版印刷株式会社;信越化学工业株式会社
申请日： 2010-12-03 - 公布日： 2012-09-05 - 主分类号： G03F1/56 文献下载
摘要：在含有铬、在氟类干式蚀刻中不受到实质性的蚀刻并且在含氧氯类干式蚀刻中能够蚀刻的遮光膜（13）之上，层叠不含有铬、在氟类干式蚀刻且含氧氯类干式蚀刻中能够蚀刻的膜（14）。
光掩模坯料制造方法

[发明专利]半色调相移光掩模坯料-CN201810188719.0有效
发明人：稻月判臣;深谷创一 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2018-03-08 - 公布日： 2023-08-04 - 主分类号： G03F1/32 文献下载
摘要：本发明涉及半色调相移光掩模坯料，该半色调相移光掩模坯料具有在透明衬底上的用作半色调相移膜的第一膜、用作遮光膜的第二膜、用作硬掩模膜的第三膜、和第四膜。
色调相移光掩模坯料

[发明专利]相移型光掩模坯料和相移型光掩模-CN201910914432.6在审
发明人：高坂卓郎;小泽良兼 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2019-09-26 - 公布日： 2020-04-03 - 主分类号： G03F1/26 文献下载
摘要：本发明提供相移型光掩模坯料和相移型光掩模。具体提供一种相移型光掩模坯料，其包括透明衬底和其上的相移膜，所述相移膜由单层或多层组成，所述单层或多层包括选自由过渡金属、硅、氮和氧构成的层和由硅、氮和氧构成的层中的至少一层，对于波长为200nm以下的光
相移型光掩模坯料

[发明专利]反射型掩模坯料、其制造方法和反射型掩模-CN202110380334.6在审
发明人：高坂卓郎;三村祥平;山本拓郎;稻月判臣 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2021-04-09 - 公布日： 2021-10-19 - 主分类号： G03F1/24 文献下载
摘要：本发明涉及反射型掩模坯料、其制造方法和反射型掩模。反射型掩模坯料，其是用于在使用EUV光作为曝光光的EUV光刻中使用的反射型掩模的材料，该反射型掩模坯料包括基板、在基板的一个主表面上形成并反射曝光光的多层反射膜、和在多层反射膜上形成并吸收曝光光的吸收体膜
反射型掩模坯料制造方法

[发明专利]溅射沉积方法、溅射系统、光掩模坯料的制造及光掩模坯料-CN201410738665.2在审
发明人：笹本纮平;深谷创一;中川秀夫;稻月判臣 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2014-12-05 - 公布日： 2015-06-10 - 主分类号： C23C14/54 文献下载
摘要：本发明提供了溅射沉积方法、溅射系统、光掩模坯料的制造及光掩模坯料。
溅射沉积方法系统光掩模坯料制造

[发明专利]光掩膜坯料的制造方法-CN201410499396.9在审
发明人：吉井崇;河合义夫;稻月判臣;渡边聪;池田显;桜田豊久;金子英雄 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2014-09-25 - 公布日： 2015-03-25 - 主分类号： G03F1/50 文献下载
摘要：本发明的课题是涉及一种光掩膜坯料，所述光掩膜坯料在对含有硅的无机膜实施硅烷化处理后形成抗蚀膜，并提供一种光掩膜坯料的制造方法，其能够抑制在显影后因抗蚀剂残渣等所引起的缺陷的产生。为了解决上述问题，提供一种光掩膜坯料的制造方法，其是制造以下的光掩模坯料的方法，所述光掩膜坯料在透明基板上至少具有含有硅的无机膜，并在该无机膜上具有抗蚀膜，所述光掩膜坯料的制造方法是在形成前述无机膜后，
光掩膜坯料制造方法

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