专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]电容的沟槽型VDMOS器件-CN201922262807.3有效
  • 夏亮;完颜文娟;杨科 - 华羿微电子股份有限公司
  • 2019-12-17 - 2020-07-14 - H01L29/78
  • 本实用新型属于半导体芯片制造的技术领域,具体涉及到一种电容的沟槽型VDMOS器件,器件包括衬底层、外延层、体区及源区,所述外延层设置在所述衬底层上表面,所述体区设置在所述外延层上部,所述源区设置在所述外延层且位于所述体区上部本实用新型在源区下面通过填充多晶硅,并与源区短接,从而可以起到辅助体区耗尽,增加耗尽层宽度,从而减小器件源漏间寄生电容的目的。
  • 电容沟槽vdmos器件
  • [实用新型]电感电力电容-CN202020631488.9有效
  • 李艺垚;蒋升铼;潘传昌 - 厦门法拉电子股份有限公司
  • 2020-04-23 - 2020-12-11 - H01G4/236
  • 本实用新型提供了一种电感电力电容器,该电感电力电容器包括:电容器芯子、第一母排、第二母排;电容器芯子具有相对的第一端面和第二端面;第一母排叠设在第一端面上并与第一端面连接,第一母排上设有第一引出端子;第二母排叠设在第一母排上且通过多个铜带连接第二端面,第二母排上设有第二引出端子,多个铜带沿电容器芯子周向间隔分布;第一母排和第二母排之间设有绝缘层以进行绝缘,第一引出端子穿过绝缘层向外伸出并与第二引出端子齐平从而有效降低电感,电感值可有效降低到10nH以内,进而可制作出大尺寸电感的电容器,可以满足大功率变流器的性能要求。
  • 电感电力电容器
  • [实用新型]测量系统连接用电容电缆-CN201922401707.4有效
  • 陈义军;李霞;俞国峰;房忠军 - 江苏江扬电缆有限公司
  • 2019-12-27 - 2020-10-30 - H01B7/295
  • 本实用新型涉及一种测量系统连接用电容电缆。包括七股或多股软铜导体(1),所述七股或多股软铜导体(1)外设置有发泡聚乙烯绝缘层(2)形成线芯,两所述线芯外设聚酯绕包(3)形成一个单元,所述单元和引流线(5)外绕设铝箔屏蔽(4)形成缆芯,若干缆芯外绕设烟无卤阻燃内护套(6),所述烟无卤阻燃内护套(6)外设铜丝编织(7),所述铜丝编织(7)外设阻燃型烟无卤外护套(8)。本实用新型具备在复杂电磁干扰环境下正常工作的特征,能够满足在复杂电磁干扰的情况下长时间可靠运行,电缆具有电容,高耐压水平,适合大长度敷设,同时电缆又具备烟无卤的特性使得该电缆更加绿色环保,符合当今世界电缆无卤化的要求
  • 测量系统连接电容电缆
  • [实用新型]一种输入电容IGBT-CN202020457300.3有效
  • 朱旭强 - 宜兴杰芯半导体有限公司
  • 2020-04-01 - 2020-10-23 - H01L29/06
  • 本实用新型提供一种输入电容的IGBT,它包括从下至上依次布置的背面P注入区和N‑区,在N‑区的两侧具有P阱区,在前述P阱区的内部均布置有N+源区,在两P阱区和中部N‑区交界位置的上表面均布置有栅氧区,本实用新型的IGBT通过在元胞区保留场氧化层并去掉该氧化层上的多晶层,保留了注入增强型优点的同时,输入电容降低了35%以上,使得芯片在相对较低的饱和压降下,提高了开关速度,降低了开关损耗。
  • 一种输入电容igbt
  • [实用新型]一种米勒电容IGBT-CN202222551407.6有效
  • 翟露青;彭宝刚;张永超 - 淄博美林电子有限公司
  • 2022-09-26 - 2023-02-21 - H01L29/739
  • 本实用新型公开了一种米勒电容IGBT,属于半导体器件技术领域,包括芯片,所述芯片的上端中间设置有若干单胞沟槽,单胞沟槽的侧边设置有若干环形沟槽,单胞沟槽和环形沟槽的内壁均设置有栅氧化层,芯片的上端位于单胞沟槽的四周设置有,单胞沟槽内的多晶硅层表面设置有栅极沟槽,芯片内位于单胞沟槽的两侧设置有N+源区,栅极沟槽的表面沉积有绝缘层,本实用新型通过在芯片的栅氧化层的多晶硅层上形成栅极沟槽,从而减小了栅电极面积,进而降低米勒电容
  • 一种米勒电容igbt

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