[发明专利]图形形成法无效
| 申请号： | 96108243.7 | 申请日： | 1996-07-18 |
| 公开（公告）号： | CN1147621C | 公开（公告）日： | 2004-04-28 |
| 发明（设计）人： | 李相均 | 申请（专利权）人： | 三星航空产业株式会社 |
| 主分类号： | C23F1/02 | 分类号： | C23F1/02;H05K3/06 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 萧掬昌;王岳 |
| 地址： | 韩国庆*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 一种图形形成法包括下列工序：在基板上形成不溶于刻蚀溶液的金属电镀薄膜；在电镀薄膜上形成光致抗蚀薄膜；用预定的光掩模图形将光致抗蚀薄膜曝光然后显影，由此制取光致抗蚀图形；用光致抗蚀图形作为掩模制取电镀薄膜图形；完全清除光致抗蚀图形；用电镀薄膜图形作为刻蚀掩模刻蚀基片，然后完全清除电镀薄膜图形。本发明由于用电镀薄膜图形代替了光致抗蚀图形作为基片刻蚀工序中的刻蚀掩模，故可准确精密加工引线框架。 | ||
| 搜索关键词： | 图形 形成 | ||
【主权项】：
1.一种用于制造引线框架的图形形成法，其特征在于包括下列工序：在一个引线框架基片上形成不溶于刻蚀溶液的金属电镀薄膜；在所述电镀薄膜上形成光致抗蚀薄膜；用预定的光掩模图形将所述光敏薄膜曝光然后显影，由此形成光致抗蚀图形；用所述光致抗蚀图形作为掩模制造电镀薄膜图形；清除光致抗蚀图形；用所述电镀薄膜图形作为刻蚀掩模刻蚀所述基片；然后清除电镀薄膜图形；其中，所述引线框架基片用选自下列金属群的一种材料制成：铜、铁、镍和不锈钢合金，所述电镀薄膜则用选自下列金属群的一种金属制成：金、银和钯。
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- 本实用新型公开了一种类火山口形貌的金属蚀刻构造以及透镜器件，其包括金属基板，金属基板经由一次蚀刻工艺成型有凸台骨架以及二次蚀刻成型在凸台骨架中轴线处的凹孔。本实用新型所提供的该金属刻蚀构造的主要用途是作为透镜光学封装的应用，巧妙地拓展金属蚀刻加工应用领域，通过采用类火山口形貌的透镜构造可以有效调节光线空间分布，提高配光设计性能，同时，另外，采用的这样结构设计，其结构紧凑，尺寸调节范围广，加工工艺简单，工艺成本低廉，为透镜模具加工方法提供新的加工手段。
- 加工多晶金刚石材料的方法-202080091900.5
- 大卫·阿尔德明顿;克里斯蒂安·巴莱卡;卡门·埃琳娜·兹沃里斯特-沃尔特斯 - 第六元素(英国)有限公司
- 2020-12-31 - 2022-10-25 - C23F1/02
- 一种加工具有含有催化剂/溶剂材料的非金刚石相的多晶金刚石(PCD)材料的方法，所述方法包括通过将所述PCD材料的至少一部分暴露于浸出混合物从所述PCD材料中浸出一定量的所述催化剂/溶剂，所述浸出混合物包含摩尔浓度在12M至约28M之间的氢氟酸、摩尔浓度在约3M至约10M之间的硝酸；以及水。
- 一种可循环冲液的蚀刻装置-202220591977.5
- 皮大雪;王同善;王光永 - 济宁海富光学科技有限公司
- 2022-03-18 - 2022-10-11 - C23F1/02
- 本实用新型公开了一种可循环冲液的蚀刻装置，涉及蚀刻技术领域，一种可循环冲液的蚀刻装置，包括框体，框体的中部设有限位组件，框体的顶端内侧固定连接有第一电机，框体一侧的内壁固定连接有壳体，壳体的内部设有搅拌组件，壳体的顶端固定连接有进液管，壳体的底端固定连接有出液管，本实用新型的有益效果是：一种可循环冲液的蚀刻装置，通过设置的往复丝杆便于带动活动块平移移动来调节冲液的使用位置，便于调节蚀刻的位置，灵活性提升，并且通过底部设置的装料壳有助于接住冲液，防止其四溅，同时通过在滑槽内部滑动的滑块有助于对装料壳的位置进行限位，提高装料壳在放置时的稳定性。
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