[发明专利]微波等离子化学汽相淀积装置

摘要

一种微波等离子化学汽相淀积装置(MW-PCVD装置)，包括真空容器，抽气装置。微波导入装置。微波传输回路包括共振腔，与两个匹配回路形成整体。MW-PCVD装置能在高运行率下运行，改进工作效率，降低A-Si元件的制造成本，降低用MW-PCVD装置淀积薄膜时，各元件间的性能偏差。

主权项

1.一种用于在基片上形成淀积膜的微波等离子化学汽相淀积(CVD)装置，包括一个大致密封的真空容器，它具有一个成膜容器和一个共振腔；该共振腔构成微波传输回路的一部分；一个在其中产生等离子体的微波传输钟罩，所述微波传输钟罩与所述共振腔联系；所述微波传输钟罩提供有用于向其中导入产生原料气体的等离子体的装置；所述微波传输钟罩被连接到成膜容器；所述成膜容器具有一个基片夹架并提供有用于向其中导入成膜原料气体的装置；抽气装置，用于抽出真空容器内的空气；以及微波导入装置，用于引导微波通过所述微渡传输回路进入所述共振腔，以在所述微波传输钟罩内产生等离子；该微波等离子CVD装置的特征在于，所述共振腔与两个匹配回路整体地形成，匹配回路其中之一个包括一个用于改变上述共振腔长度的短路器，且另一个包括一对滑动匹配膜片。