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[发明专利]桨杆装置及镀膜设备-CN202110472580.4有效
发明人： 田玉峰;郑中伟;毛文瑞 -专利权人：江苏微导纳米科技股份有限公司
申请日： 2021-04-29 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： C23C16/458 文献下载
摘要：本发明涉及一种桨杆装置及镀膜设备，包括安装底座、桨杆组件、支撑件及调节组件，桨杆组件包括作为其纵长两端的调节端和承载端，调节端装配于安装底座上，承载端用于承载待承载件，支撑件与桨杆组件转动连接，且位于调节端和承载端之间，使得桨杆组件能够绕支撑件转动，调节件与调节端传动连接，且调节件被构造为用于带动调节端在第一方向运动以使得桨杆组件绕支撑件转动，第一方向与桨杆组件的纵长方向相交。如此，无论承载端是否承载了待承载件，都可以通过调节件的调节作用使得桨杆组件绕支撑件转动，进而使得承载端能够持续保持水平，避免了桨杆组件的频繁上扬和下垂现象的产生，从而对桨杆组件起到了一定的保护作用，延长了使用寿命。
装置镀膜设备

[发明专利]一种PEALED镀膜系统-CN202310680894.2在审
发明人： 田玉峰;魏澜;赵茂生 -专利权人：厦门韫茂科技有限公司
申请日： 2023-06-09 - 公布日： 2023-09-08 - 主分类号： C23C16/50 文献下载
摘要：本发明提供了一种PEALED镀膜系统，涉及镀膜设备技术领域，包括进气组件，包括：工艺腔组件、升降组件以及过滤组件；其中，所述工艺腔组件包括等离子发生组件以及与所述等离子发生组件相连接的反应腔组件，所述反应腔组件包括至少一个反应腔体，所述反应腔体通过传输通道连通至所述等离子腔；所述进气组件适于将反应气体分别导入所述等离子腔体以及所述反应腔体内；所述过滤组件连接所述反应腔体，且配置为能将反应腔体内的气体抽离并在所述过滤组件内过滤。通过本发明方案，可以提高镀膜系统的镀膜效率以及使整个结构更加紧凑。
一种 pealed 镀膜系统

[发明专利]一种连续式ALD镀膜设备的物料移动结构-CN202210298279.0有效
发明人： 田玉峰;赵茂生 -专利权人：厦门韫茂科技有限公司
申请日： 2022-03-25 - 公布日： 2023-09-08 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明提供了一种连续式ALD镀膜设备的物料移动结构，涉及原子层沉积技术领域。其中，这种物料移动结构包含箱体组件和驱动组件。箱体组件包括依次连接的加热腔体、连接腔体和冷却腔体。驱动组件包括两个驱动构件。两个驱动构件分别配置于加热腔体和冷却腔体。配置于加热腔体的驱动构件被构造为：能够沿着预定轨迹来回移动，以将加热腔室外的工件移动至加热腔室内，以及用以将加热腔室内的工件移动至镀膜腔室内。配置于冷却腔体的驱动构件被构造为：能够沿着预定轨迹来回移动，以将镀膜腔室内的工件移动至冷却腔室内，以及用以将冷却腔室内的工件移动到冷却腔室外；所述箱体组件还包括配置于所述连接腔体的第一检修门。简化镀膜腔体的结构便于清洗。
一种连续 ald 镀膜设备物料移动结构

[实用新型]一种线圈内置的等离子体发生装置-CN202320254366.6有效
发明人：明自强;赵茂生;王韫宇;田玉峰 -专利权人：厦门韫茂科技有限公司
申请日： 2023-02-20 - 公布日： 2023-09-05 - 主分类号： H05H1/24 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种线圈内置的等离子体发生装置，涉及等离子体发生装置技术领域，包括反应室、线圈以及用以与所述线圈连接的电源，其中，所述线圈置于所述反应室内，其外周套置有陶瓷保护罩，所述反应室的侧壁沿长度方向阵列设置有多个进气口，各所述进气口均与气体分流器连通，并通过所述气体分流器调节进气比例；所述线圈环绕所述进气口布设，以使源气体均匀分布在线圈周围；所述电源位于所述反应室外侧，通过导线与所述线圈连接；所述反应室在所述进气口相对侧设有匀流板，所述匀流板上均匀设置有多个出口。从而解决现有等离子体发生装置无法调节源气体分布，导致等离子体分布不均，影响后续加工效果的问题。
一种线圈内置等离子体发生装置

[实用新型]一种等离子体增强原子层沉积成膜装置-CN202320254507.4有效
发明人：明自强;赵茂生;王韫宇;田玉峰 -专利权人：厦门韫茂科技有限公司
申请日： 2023-02-20 - 公布日： 2023-06-13 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种等离子体增强原子层沉积成膜装置，涉及等离子体发生装置技术领域，包括真空腔室、反应腔室以及工艺腔室，工艺腔室置于真空腔室内；反应腔室内置有线圈，该反应腔室的侧壁上设有多个进气口，且各进气口通过气体分流器控制进气比例；反应腔室相对所述侧壁的另一端为敞口，该敞口置于真空腔室内，并与工艺腔室连通；工艺腔室设有与反应腔室连接的进气端以及与真空泵连通的排气端，以使反应腔室内的等离子体源流向工艺腔室；工艺腔室内置有支架，所述支架上设有若干个用以放置待加工基片的放置层，各放置层的布设方向与等离子体源的流动方向平行，以确保各层基片与等离子体源均匀接触，从而提高各基片间的均一性以及工艺稳定性。
一种等离子体增强原子沉积装置

[发明专利]一种用于批次式成膜的原子层沉积装置-CN202310135684.5在审
发明人：明自强;赵茂生;王韫宇;田玉峰 -专利权人：厦门韫茂科技有限公司
申请日： 2023-02-20 - 公布日： 2023-05-30 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明提供了一种用于批次式成膜的原子层沉积装置，涉及等离子体发生装置技术领域，包括真空腔室、反应腔室以及工艺腔室，工艺腔室置于真空腔室内；反应腔室内置有线圈，该反应腔室的侧壁上设有多个进气口，且各进气口通过气体分流器控制进气比例；反应腔室相对所述侧壁的另一端为敞口，该敞口置于真空腔室内，并与工艺腔室连通；工艺腔室设有与反应腔室连接的进气端以及与真空泵连通的排气端，以使反应腔室内的等离子体源流向工艺腔室；工艺腔室内置有支架，所述支架上设有若干个用以放置待加工基片的放置层，各放置层的布设方向与等离子体源的流动方向平行，以确保各层基片与等离子体源均匀接触，从而提高各基片间的均一性以及工艺稳定性。
一种用于批次式成膜原子沉积装置

[实用新型]一种ALD镀膜设备和均流装置-CN202222064522.0有效
发明人： 田玉峰 -专利权人：厦门韫茂科技有限公司
申请日： 2022-08-08 - 公布日： 2023-01-17 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种ALD镀膜设备和均流装置，涉及原子层沉积技术领域。这种均流装置包含箱体、盖板、网孔板和载盘。箱体设置有反应腔、位于反应腔的上部的导流槽、连通导流槽的进料孔，以及位于反应腔下部的出料孔。盖板配置于反应腔的上部，用以盖住导流槽。盖板设置有多个通孔。网孔板配置于反应腔的上部，且和盖板之间设置有第一间隙。网孔板设置有网状分布的多个通孔。载盘可移动的配置于反应腔底部，和反应腔底部之间设置有第二间隙，且能够罩住出料孔。载盘设置有网状分布的多个通孔。本实用新型的均流装置，能够让反应气体均匀的充满整个反应腔，提高了原子层沉积的均匀性，具有很好的实际意义。
一种 ald 镀膜设备装置

[实用新型]一种连续式原子层沉积设备-CN202222067672.7有效
发明人： 田玉峰 -专利权人：厦门韫茂科技有限公司
申请日： 2022-08-08 - 公布日： 2023-01-17 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种连续式原子层沉积设备，涉及原子层沉积技术领域。其中，这种连续式原子层沉积设备包含用以放置基体的载盘装置、进料装置、取料装置、至少两个工艺装置和至少一个中转装置。中转装置的数量比工艺装置的数量少一个，且工艺装置和中转装置间隔设置。进料装置接合于第一个工艺装置。取料装置接合于最后一个工艺装置。工艺装置包括设置有工艺腔的工艺箱体。进料装置构造为用以将载盘装置移入第一个工艺腔。取料装置构造为用以将最后一个工艺腔内的载盘装置移出。中转装置包括设置有中转腔的中转箱体，以及配置于中转腔体的中转构件。中转箱体构造为将载盘组件从一个工艺腔移动至另一个工艺腔。
一种连续原子沉积设备

[实用新型]一种密封箱及其密封门-CN202220659410.7有效
发明人： 田玉峰 -专利权人：厦门韫茂科技有限公司
申请日： 2022-03-25 - 公布日： 2022-08-02 - 主分类号： E06B3/50 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种密封箱及其密封门，涉及插板阀技术领域。其中，这种密封门包含密封组件、传动组件和驱动组件。密封组件用以密封外部设备的开口。传动组件包括能够在外部设备上沿着预定方向活动的传动件、两端分别铰接于传动件和密封组件的连接件，以及限位构件。限位构件构造为：能够在关门时限制密封组件沿着预定方向活动的极限位置。驱动组件接合于传动件，用以驱动传动件沿着预定方向正向或反向移动。其中，连接件和传动件铰接于A轴。连接件和密封组件铰接于B轴。A轴和B轴位于C平面。预定方向和C平面之间的夹角D始终小于90度。关门的时候气缸始终保持这朝向关门的方向施加压力，从而保证了密封门的密封效果。
一种密封及其

[发明专利]薄膜沉积装置及其支撑机构-CN202210389454.7在审
发明人：朱双双;陈昊;田玉峰 -专利权人：江苏微导纳米科技股份有限公司
申请日： 2022-04-13 - 公布日： 2022-07-22 - 主分类号： C23C16/46 文献下载
摘要：本申请公开了一种薄膜沉积装置及其支撑机构，该支撑机构包括：加热板，包括相背设置的第一表面和第二表面；主支撑板，位于所述第二表面一侧，用于支撑所述加热板；在第一方向上，所述主支撑板具有相对的第一端部和第二端部，所述第一方向平行于所述加热板和载板相接触的平面；辅支撑板，位于所述第一端部和所述第二端部，且位于所述加热板和所述主支撑板之间。本申请提供的薄膜沉积装置及其支撑机构，能够提高装置内的温度均匀性和电场均匀性，从而提高薄膜沉积均匀性。
薄膜沉积装置及其支撑机构

[实用新型]一种ALD镀膜设备-CN202220659322.7有效
发明人： 田玉峰 -专利权人：厦门韫茂科技有限公司
申请日： 2022-03-25 - 公布日： 2022-07-12 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种ALD镀膜设备，涉及原子层沉积设备技术领域。其中，这种ALD镀膜设备包含外腔组件、内腔组件、固定组件和连接组件。外腔组件包括设置有容纳腔的外腔体，以及接合于外腔体的插板阀。内腔组件包括可拆卸的配置于容纳腔的内腔体。内腔体设置有用以进行镀膜反应的反应腔，以及连通于反应腔用以取放待镀膜产品的物料开口。插板阀用以密封物料开口。固定组件包括设置于容纳腔内用以定位内腔体的定位构件，以及用以接合于内腔体和外腔体之间的第一伸缩顶紧构件。连接组件接合于外腔体，且构造为：能够通过快拆的方式接合于内腔体。以使外部设备连通于反应腔。简化了内腔组件的安装和拆除步骤，使得内腔组件能够更加方便的进行拆洗。
一种 ald 镀膜设备

[实用新型]一种连续式ALD镀膜设备-CN202220659388.6有效
发明人： 田玉峰 -专利权人：厦门韫茂科技有限公司
申请日： 2022-03-25 - 公布日： 2022-07-12 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种连续式ALD镀膜设备，涉及原子层沉积技术领域。其中，这种连续式ALD镀膜设备包含箱体组件、真空组件、驱动组件。箱体组件包括依次连接的加热腔体、连接腔体和冷却腔体。加热腔体设置有加热腔室。连接腔体内设置有用以给工件镀膜的镀膜腔室。冷却腔体设置有冷却腔室。加热腔室和冷却腔室分别能够连通于镀膜腔室。真空组件接合于箱体组件用以抽真空。驱动组件接合于箱体组件，用以驱使工件在加热腔室、镀膜腔室和冷却腔室之间移动。箱体组件还包括配置于连接腔体的第一检修门。镀膜过程的加热、镀膜、冷却分别在三个腔体中进行，并且三个腔体能够同时进行工作，大大提高了镀膜设备的工作效率。
一种连续 ald 镀膜设备

[实用新型]一种ALD镀膜设备及其物料移动装置-CN202220659519.0有效
发明人： 田玉峰 -专利权人：厦门韫茂科技有限公司
申请日： 2022-03-25 - 公布日： 2022-07-12 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种ALD镀膜设备及其物料移动装置，涉及原子层沉积设备技术领域。其中，这种物料移动装置包含第一移动组件、驱动组件和第一棘爪组件。第一移动组件用以配置于ALD镀膜设备。第一移动组件构造为：能够沿着预定轨迹移动。驱动组件接合于第一移动组件。驱动组件构造为：能够驱动第一移动组件沿着预定轨迹正向移动或反向移动。第一棘爪组件配置于第一移动组件，且构造为：当第一移动组件反向移动时能够抵接于外部物体并进行避让，当第一移动组件正向移动时能够抵接于外部物体并带动外部物体正向移动。通过左右移动的第一移动组件带动第一棘爪组件，载盘组件沿着预定方向活动，实现了自动取放物料，避免了人工作业的不规范性。
一种 ald 镀膜设备及其物料移动装置

[实用新型]一种连续式ALD镀膜设备的物料移动结构-CN202220660649.6有效
发明人： 田玉峰 -专利权人：厦门韫茂科技有限公司
申请日： 2022-03-25 - 公布日： 2022-07-12 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种连续式ALD镀膜设备的物料移动结构，涉及原子层沉积技术领域。其中，这种物料移动结构包含箱体组件和驱动组件和检测组件。箱体组件包括依次连接的加热腔体、连接腔体和冷却腔体。驱动组件包括两个驱动构件。两个驱动构件分别配置于加热腔体和冷却腔体。配置于加热腔体的驱动构件被构造为：能够沿着预定轨迹来回移动，以将加热腔室外的工件移动至加热腔室内，以及用以将加热腔室内的工件移动至镀膜腔室内。配置于冷却腔体的驱动构件被构造为：能够沿着预定轨迹来回移动，以将镀膜腔室内的工件移动至冷却腔室内，以及用以将冷却腔室内的工件移动到冷却腔室外；检测组件接合于箱体组件用以检测工件或者承载工件的载盘组件。
一种连续 ald 镀膜设备物料移动结构

[实用新型]一种连续式ALD镀膜设备的腔体结构-CN202220660729.1有效
发明人： 田玉峰 -专利权人：厦门韫茂科技有限公司
申请日： 2022-03-25 - 公布日： 2022-07-12 - 主分类号： C23C16/46 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种连续式ALD镀膜设备的腔体结构，涉及原子层沉积领域。这种腔体结构包含箱体组件、密封组件和检测组件。箱体组件包括依次连接的加热腔体、连接腔体和冷却腔体，以及配置于连接腔体内的镀膜腔体。检测组件接合于箱体组件用以检测工件或者承载工件的载盘组件；密封组件包括配置于箱体组件的六个插板门。第一个插板门和第二个插板门分别用以连通镀膜腔室和连接腔室。第三个插板门用以连通加热腔室和连接腔室。第四个插板门用以连通连接腔室和冷却腔室。第五个插板门用以连通加热腔室和加热腔体的外部。第六个插板门用以连通冷却腔室和冷却腔体的外部。加热腔体、镀膜腔体和冷却腔体，分别进行加热、镀膜和降温，提高了生产效率。
一种连续 ald 镀膜设备结构

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