[发明专利]界面合金共化物刻蚀液、刻蚀方法和制样方法在审
| 申请号： | 202310616261.5 | 申请日： | 2023-05-29 |
| 公开（公告）号： | CN116623182A | 公开（公告）日： | 2023-08-22 |
| 发明（设计）人： | 周阳磊;陈泽坚;刘凯;洪瑛旭;柯自攀;吕海强;关良伟;方贵练;肖慧 | 申请（专利权）人： | 中国电子产品可靠性与环境试验研究所（（工业和信息化部电子第五研究所）（中国赛宝实验室）） |
| 主分类号： | C23F1/34 | 分类号： | C23F1/34;C23F1/32;C23F1/40;C09K13/00;H05K3/06;G01N1/32 |
| 代理公司： | 华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 李美 |
| 地址： | 511370 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种界面合金共化物刻蚀液、刻蚀方法和制样方法。界面合金共化物刻蚀液包括以下体积分数的原料：氨水45％～55％和双氧水45％～55％；其中，所述氨水的质量分数为25％～28％，所述双氧水的质量分数为30％～50％。该刻蚀溶液仅通过一次刻蚀就能同时刻蚀界面合金共化物中的锡、铜、银、铅、金、镍等多种金属，并使各金属界面暴露出清晰分明的内部纹理，有利于后续进行电路板的可靠性分析。该界面合金共化物刻蚀液的原料简单、成本低廉、配制方便、刻蚀时间短，适用于界面合金共化物的大批量快速实验。 | ||
| 搜索关键词： | 界面 合金 共化物 刻蚀 方法 | ||
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- 一种镀铜层剥离液以及剥离方法-202110705360.1
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- 2021-06-24 - 2021-11-16 - C23F1/34
- 本发明公开了一种镀铜层剥离液以及剥离方法，该剥离液包括如下以质量百分含量计的碳铵4％‑8％、溶铜盐10％‑18％、氨水10％‑40％、稳定剂0.3％‑3％以及水50％‑80％，所述稳定剂为磷酸盐或硅酸盐类化合物。本发明中的剥离液制作成本低，可以有效的降低企业生产成本，该剥离液对镀铜层剥离的更彻底，剥离的效果佳，便于剥离后铜液的收集，降低了水污染。
- 一种用于铜箔切片观察的微蚀液及其配制方法与微蚀方法-202110501032.X
- 李红琴;江泱;杨红光 - 九江德福科技股份有限公司
- 2021-05-08 - 2021-08-10 - C23F1/34
- 本发明公开了一种用于铜箔切片观察的微蚀液及其配制方法与微蚀方法，该微蚀液的配制方法为：用去离子水将氯化铵固体溶解，继续边搅拌边加入浓氨水定容，得到pH=10的氨缓冲液；取pH=10的氨缓冲液，加入双氧水，得到微蚀液。本发明的微蚀液通过将氯化铵加入到氨水和双氧水的水溶液中，NH
- 一种具有保护功能的LED铝面蚀刻药水及其制备方法-202011431853.2
- 何雪明 - 太仓市何氏电路板有限公司
- 2020-12-07 - 2021-04-06 - C23F1/34
- 本发明属于LED铝基板蚀刻领域，具体公开了一种具有保护功能的LED铝面蚀刻药水及其制备方法，所述蚀刻药水由以下重量份的原料组成：氨水100份、磷酸钾40‑60份、双氧水30‑50份、碳酸钠15‑25份、乙二胺四乙酸二钠10‑20份、酒石酸钾钠8‑12份、异丙醇8‑12份、葡萄糖酸钠5‑10份、硫化促进剂4‑8份、表面活性剂4‑8份、氧化剂3‑6份。本发明公开的LED铝面蚀刻药水能够快速的蚀刻铜覆面，形成电路，而不损伤铝基层，不必添加铝保护层，蚀刻工艺简单，效率高。
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