[发明专利]集成电路在审

专利信息
申请号: 202210203538.7 申请日: 2022-03-03
公开(公告)号: CN115346999A 公开(公告)日: 2022-11-15
发明(设计)人: 张裕东;蔡逸群;蔡同凯;邱议德;林诗芸;朱宏明;陈宜锋 申请(专利权)人: 联发科技股份有限公司
主分类号: H01L27/118 分类号: H01L27/118
代理公司: 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 代理人: 刘桂兰
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明公开一种集成电路,包括:多个功能块,该多个功能块中的每个功能块包括硬件电路,其中,该多个功能块包括:第一功能块,包括:第一宏电路,位于该第一功能块的第一子区域内,其中该第一子区域的多个侧中,该第一子区域的第一侧最靠近该第一功能块的边界;其中,该第一功能块的第一中间子区域位于该第一子区域的该第一侧与该第一功能块的该边界之间,并且在该第一功能块的该第一中间子区域中不存在分接单元。本发明将功能块之内的分接单元进行省略,在将功能块之内的分接单元省去后,可以继续保证对宏电路的正常供电,同时减少了零部件,减少了集成电路的面积,因此也简化了制程和减少了成本。
搜索关键词: 集成电路
【主权项】:
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  • 章恒嘉 - 长鑫存储技术有限公司
  • 2021-04-02 - 2022-10-14 - H01L27/118
  • 本发明实施例提供一种与门结构及与门结构的制造方法,与门结构包括:基底,位于基底内相互分立的源极和漏极,漏极作为输出,源极用于连接电源;位于基底内且层叠设置的第一栅极和第二栅极,第一栅极和第二栅极均位于源极和漏极之间;第一栅极作为第一输入,第二栅极作为第二输入;栅介质层,栅介质层位于基底内,且与第一栅极和第二栅极相接触,栅介质层还位于第一栅极和第二栅极之间;其中,基于第一输入的电压以及第二输入的电压,栅介质层下方的基底适于形成导电通道,且导电通道连接源极与漏极。本发明实施例可以缩小与门结构的尺寸。
  • 半导体装置以及功率放大器-202210246287.0
  • 滨野皓志 - 住友电气工业株式会社
  • 2022-03-14 - 2022-09-20 - H01L27/118
  • 本公开涉及半导体装置以及功率放大器。通过缩小连接于晶体管的漏极的布线合成部来减少输出信号的损失从而增大输出功率。半导体装置具备:第一晶体管和第二晶体管,具有在第一方向延伸的栅电极,该第一晶体管和第二晶体管在第一方向排列;第一漏极布线和第二漏极布线,分别连接于所述第一晶体管和第二晶体管的漏极区域;第一输出布线,在与第一方向正交的第二方向延伸,一端连接于第一漏极布线的第二晶体管侧;第二输出布线,在第二方向延伸,一端连接于第二漏极布线的第一晶体管侧;第三输出布线,在第一方向延伸,将所述第一输出布线的另一端与所述第二输出布线的另一端连接;以及第四输出布线,将所述第三输出布线的中央部连接于输出端子。
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