[发明专利]光掩模修正方法和装置以及布局机器学习模型的训练方法在审
| 申请号： | 202110557042.5 | 申请日： | 2021-05-21 |
| 公开（公告）号： | CN115373227A | 公开（公告）日： | 2022-11-22 |
| 发明（设计）人： | 杨闵丞;邱崇益 | 申请（专利权）人： | 联华电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F1/36;G06N20/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 陈小雯 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开一种双重图形曝光的光掩模修正方法、光掩模修正装置与布局机器学习模型的训练方法。双重图形曝光的光掩模修正方法包括以下步骤。获得一光掩模布局目标图。分解光掩模布局目标图为两个光掩模布局子图。这些光掩模布局子图于一连结区域重叠。一布局机器学习模型依据光掩模布局目标图分析出连结区域的尺寸。布局机器学习模型依据一蚀刻后三维信息建立。对这些光掩模布局子图执行一光学邻近校正程序。 | ||
| 搜索关键词： | 光掩模 修正 方法 装置 以及 布局 机器 学习 模型 训练 | ||
【主权项】：
暂无信息
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