[发明专利]有机膜形成用材料、基板、有机膜形成方法、图案形成方法及有机膜形成用化合物在审
| 申请号： | 202110308097.2 | 申请日： | 2021-03-23 |
| 公开（公告）号： | CN113433796A | 公开（公告）日： | 2021-09-24 |
| 发明（设计）人： | 郡大佑;泽村昂志;新井田惠介;橘诚一郎 | 申请（专利权）人： | 信越化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/11;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明涉及有机膜形成用材料、基板、有机膜形成方法、图案形成方法及有机膜形成用化合物。本发明的课题为提供不仅在空气中的成膜条件下会硬化而且即便在钝性气体中的成膜条件下也会硬化，并可形成不仅耐热性、形成于基板的图案的填埋、平坦化特性优异而且对于基板的密接性良好的有机膜的有机膜形成用化合物、及含有该化合物的有机膜形成用材料，提供使用了该材料的基板、有机膜形成方法及图案形成方法。解决该课题的手段为一种有机膜形成用材料，其含有(A)式(1A)表示的有机膜形成用化合物、及(B)有机溶剂。 |
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| 搜索关键词： | 有机 形成 用材 基板 方法 图案 化合物 | ||
【主权项】：
暂无信息
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