专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]有机膜形成用组合物-CN201810863232.8有效
  • 橘诚一郎;长井洋子;郡大佑;荻原勤 - 信越化学工业株式会社
  • 2018-08-01 - 2022-09-27 - G03F7/004
  • 本发明提供一种可形成有机膜的有机膜形成用组合物,该有机膜能够通过使用不会对半导体装置基板和图案化工序中所必需的有机抗蚀剂下层膜造成损伤的剥离液、例如半导体制程中通常所使用的被称为SC1的含过氧化氢的氨水溶液,容易地与已因干蚀刻而改性的硅成分残渣一并湿式去除。所述有机膜形成用组合物包含高分子化合物与有机溶剂,该高分子化合物具有由下述通式(1)~(4)表示的重复单元中的任意1种以上,在该有机溶剂中,选自丙二醇酯、酮及内酯中的1种以上的合计占超过全部有机溶剂中的30wt%的量。[化学式1]
  • 有机形成组合

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