[发明专利]一种脉冲电沉积Ni-B/B4 在审
| 申请号： | 202110280735.4 | 申请日： | 2021-03-16 |
| 公开（公告）号： | CN113061945A | 公开（公告）日： | 2021-07-02 |
| 发明（设计）人： | 何毅;张意涵;范毅;李虹杰;何腾;田秋成;刘大红;张慧俐;张世红 | 申请（专利权）人： | 西南石油大学;天津市精成伟业机器制造有限公司 |
| 主分类号： | C25D3/18 | 分类号： | C25D3/18;C25D15/00;C25D5/36;C25D5/18 |
| 代理公司： | 北京中索知识产权代理有限公司 11640 | 代理人： | 唐亭 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种脉冲电沉积Ni‑B/B |
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| 搜索关键词： | 一种 脉冲 沉积 ni base sub | ||
【主权项】：
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R为二甲氨基或者二乙氨基。本发明中提供的产品通过功能分子通过与其他组分之间的作用不仅具有较好的抗腐蚀性而且具有较好的稳定性，镀层与基体的结合力大大增加，且绿色无污染。
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，R为二甲氨基或者二乙氨基。本发明中提供的产品通过功能分子通过与其他组分之间的作用不仅具有较好的抗腐蚀性而且具有较好的稳定性，且绿色无污染。
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