[发明专利]掺杂MXene的突触型薄膜晶体管及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202110262862.1 申请日: 2021-03-11
公开(公告)号: CN113035946A 公开(公告)日: 2021-06-25
发明(设计)人: 曹一心;赵春;赵策洲;刘伊娜;杨莉 申请(专利权)人: 西交利物浦大学
主分类号: H01L29/51 分类号: H01L29/51;H01L29/49;H01L29/786;H01L21/445;H01L21/34
代理公司: 苏州谨和知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32295 代理人: 叶栋
地址: 215123 江苏省苏州市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及一种掺杂MXene的突触型薄膜晶体管,其包括自下而上依次层叠设置的栅电极、衬底、绝缘层、金属氧化物半导体层、以及源电极和漏电极,绝缘层为掺杂MXene的高介电常数材料绝缘层,相比于传统工艺制作的突触型薄膜晶体管器件,绝缘层中掺杂的MXene带来了丰富的官能团使其有很强的吸引电子的能力,从而使沟道中产生很多电子陷阱,产生了更大的回滞,从而拥有更为优秀的突触特性;绝缘层中掺杂MXene使得突触型薄膜晶体管器件有着更大的弛豫时间,传统的薄膜晶体管的弛豫时间大约为数十毫秒,而掺杂了Mxene的突触型薄膜晶体管的弛豫时间为二百至三百毫秒,与生物突触在一个数量级,因此更适合模拟生物突触。
搜索关键词: 掺杂 mxene 突触 薄膜晶体管 及其 制备 方法
【主权项】:
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